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반도체 공정의 금속 하드 마스크 재료를 에칭하기 위한 구성

uuid
0bd99287-c683-5785-aa5d-64ecaeb20484
출원번호
1020087023676
출원연도
2007
IPC
C09K
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항2] 제1항에 있어서,희석된 hf(플루오르화산)와 실리콘을 포함하는 전구체(silicon containing precursor)의 혼합물, 계면 활성제, 카르복실산 및 구리 부식 억제제더 포함하는습식 에칭 용액. 제1항에 있어서,계면활성제 및 카르복실산을더 포함하는습식 에칭 용액. [청구항3] 제1항에 있어서,상기 실리콘을 포함하는 전구체는 mtes(메틸트리에톡시실란인습식 에칭 용액. 제1항에 있어서,상기 실리콘을 포함하는 전구체는 mtes(메틸트리에톡시실란), 아미노 관능성 실란, 에폭시 관능성 실란, 비닐 관능성 실란, 알콕시 실란, 케톡심 실란, 아세톡시 실란, 디에틸실란 및 디페닐실란으로 이루어진 그룹 중선택되는습식 에칭 용액. [청구항4] 제3항에 있어서,상기 실리콘을 포함하는 전구체는 아미노프로필트리에톡시실란, 아미노프로필트리메톡시실란, 아미노프로필메틸디에톡시실란, 아미노프로필메틸디메톡시실란, 아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란, 아미노에틸아미노프로필트리에톡시실란, 아미노에틸아미노프로필메틸디메톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필트리메톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필트리에톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필메틸디메톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필메틸디메톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필메틸디에톡시실란, 시클로헥실아미노프로필트리메톡시실란, 헥산디아미노메틸트리에톡시실란,페닐아미노메틸트리메톡시실란, 페닐아미노메틸트리에톡시실란, 디에틸아미노메틸트리에톡시실란, (디에틸아미노메틸)메틸디에톡시실란, 메틸아미노프로필트리메톡시실란, 글리시독시프로필트리메톡시실란, 글리시독시프로필트리에톡시실란, 글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 테트라메톡시실란(tmos), 테트라에톡시실란(teos), 테트라프로폭시실란, 메틸트리스(메틸에틸케톡심)실란(mos), 메틸트리스(아세톡심)실란, 메틸트리스(메틸이소부틸케톡심)실란, 디메틸디(메틸케톡심)실란, 트리메틸(메틸에틸케톡심)실란, 비닐트리스(메틸에틸케톡심)실란(vos), 메틸비닐디(메틸에틸케톡심)실란, 메틸비닐디(시클로헥사논옥심)실란, 비닐트리스(메틸리소부틸케톡심)실란,페닐트리스(메틸에틸케톡심)실란(pos), 메틸트리아세톡시실란, 테트라아세톡시실란, 디에틸실란, 및 디페닐실란으로 이루어진 그룹 중선택되는,습식 에칭 용액. [청구항5] 제3항에 있어서,상기 계면활성제는 알콜, 아민, 아미드, 에스테르, 케톤, 알데히드, 카르복실산 및 에테르로 이루어진 그룹 중선택되는,습식 에칭 용액. 제2항에 있어서,상기 계면활성제는 알콜, 아민, 아미드, 에스테르, 케톤, 알데히드, 카르복실산 및 에테르로 이루어진 그룹 중선택되는습식 에칭 용액. [청구항6] 제3항에 있어서,상기 구리 부식 억제자는 메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤지미다졸, 5- 클로로벤조트리아졸, 5-메틸벤조트리아졸, 벤조트리아졸, 카르복시벤조트리아졸, 톨릴트리아졸, 1-페닐-lh-테트라졸-5-티올, 및 브롬화 헥사데실트리메틸암모니움으로 이루어진 그룹 중선택되는,습식 에칭 용액. 제1항에 있어서,상기 구리 부식 억제제는 메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤지미다졸, 5-클로로벤조트리아졸, 5-메틸벤조트리아졸, 벤조트리아졸, 카르복시벤조트리아졸, 톨릴트리아졸, 1-페닐-lh-테트라졸-5-티올, 및 브롬화 헥사데실트리메틸암모니움으로 이루어진 그룹 중선택되는습식 에칭 용액. [청구항7] 제1항에 있어서,상기 에칭 용액은 0.001 내지 49중량% 농도의 희석된 hf 용액, 0.0001 내지 60중량% 농도의 실리콘 전구체, 0.0001 내지 20중량% 농도의 구리 부식 억제제, 0.0001 내지 50중량% 농도의 계면활성제/유화제, 0.0001 내지 50중량% 농도의 카르복실산포함하는,습식 에칭 용액. [청구항9] 제8항에 있어서,희석된 hf와, 실리콘을 포함하는 전구체의 혼합물더 포함하는습식 에칭 용액. [청구항10] 제8항에 있어서,1 내지 10중량% 농도의 희석된 hf 용액 및 0.5 내지 10중량% 농도의 실리콘 전구체포함하는습식 에칭 용액. [청구항11] 제9항에 있어서,상기 상기 실리콘을 포함하는 전구체는 mtes(메틸트리에톡시실란), 아미노 관능성 실란, 에폭시 관능성 실란, 비닐 관능성 실란, 알콕시 실란, 케톡심 실란, 아세톡시 실란, 디에틸실란, 및 디페닐실란으로 이루어진 그룹선택되는,습식 에칭 용액. 제8항에 있어서,상기 실리콘을 포함하는 전구체는 mtes(메틸트리에톡시실란인습식 에칭 용액. [청구항12] 제9항에 있어서,상기 아미노 관능성 실란은 아미노프로필트리에톡시실란, 아미노프로필트리메톡시실란, 아미노프로필메틸디에톡시실란, 아미노프로필메틸디메톡시실란, 아미노에틸아미노프로필트리메톡시실란, 아미노에틸아미노프로필트리에톡시실란, 아미노에틸아미노프로필메틸디메톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필트리메톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필트리에톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필메틸디메톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필메틸디메톡시실란, 디에틸렌트리아미노프로필메틸디에톡시실란, 시클로헥실아미노프로필트리메톡시실란, 헥산디아미노메틸트리에톡시실란, 페닐아미노메틸트리메톡시실란, 페닐아미노메틸트리에톡시실란, 디에틸아미노메틸트리에톡시실란, (디에틸아미노메틸)메틸디에톡시실란, 메틸아미노프로필트리메톡시실란, 글리시독시프로필트리메톡시실란, 글리시독시프로필트리에톡시실란, 글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 테트라메톡시실란(tmos), 테트라에톡시실란(teos), 테트라프로폭시실란, 메틸트리스(메틸에틸케톡심)실란(mos), 메틸트리스(아세톡심)실란, 메틸트리스(메틸이소부틸케톡심)실란, 디메틸디(메틸케톡심)실란, 트리메틸(메틸에틸케톡심)실란, 비닐트리스(메틸에틸케톡심)실란 (vos), 메틸비닐디(메틸에틸케톡심)실란, 메틸비닐디(시클로헥사논옥심)실란, 비닐트리스(메틸리소부틸케톡심)실란,페닐트리스(메틸에틸케톡심)실란(pos), 메틸트리아세톡시실란, 테트라아세톡시실란, 디에틸실란, 및 디페닐실란으로 이루어진 그룹선택되는,습식 에칭 용액. [청구항17] 제3항에 있어서,상기 희석된 hf 용액의 농도 범위는 0.001 내지 10중량%이고, 상기 mtes의 농도 범위는 0.0001 내지 10중량%이고, 상기 구리 부식 억제제의 농도 범위는 0.0001 내지 20중량인습식 에칭 용액.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
습식 에칭 용액에 포함될 수 있는 구리 부식 억제제의 구체적인 성분들은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    습식 에칭 용액의 구성 성분 중 구리 부식 억제제의 종류를 추출하는 과업을 수행한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항에서 구리 부식 억제제와 관련된 내용을 탐색한다.

    • 상기 구리 부식 억제제는
  3. 3근거 선택evidence_selection

    구리 부식 억제제의 구체적인 성분 리스트가 명시된 청구항 6을 선택한다.

    • 메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤지미다졸, 5- 클로로벤조트리아졸, 5-메틸벤조트리아졸, 벤조트리아졸, 카르복시벤조트리아졸, 톨릴트리아졸, 1-페닐-lh-테트라졸-5-티올, 및 브롬화 헥사데실트리메틸암모니움
  4. 4논리 통합logical_integration

    선택된 성분들이 구리 부식 억제제의 예시 그룹임을 확인한다.

    • 이루어진 그룹 중선택되는
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    추출된 성분들을 나열하여 답변을 구성한다.

    • 메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤지미다졸, 5- 클로로벤조트리아졸, 5-메틸벤조트리아졸, 벤조트리아졸, 카르복시벤조트리아졸, 톨릴트리아졸, 1-페닐-lh-테트라졸-5-티올, 및 브롬화 헥사데실트리메틸암모니움
  6. 6답변 생성answer_generation

    최종 답변을 생성한다.

근거 (evidence)
  • 상기 구리 부식 억제제는
  • 메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤지미다졸, 5- 클로로벤조트리아졸, 5-메틸벤조트리아졸, 벤조트리아졸, 카르복시벤조트리아졸, 톨릴트리아졸, 1-페닐-lh-테트라졸-5-티올, 및 브롬화 헥사데실트리메틸암모니움
  • 이루어진 그룹 중선택되는
최종 답변 (final_answer)
습식 에칭 용액에 포함될 수 있는 구리 부식 억제제는 메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤지미다졸, 5- 클로로벤조트리아졸, 5-메틸벤조트리아졸, 벤조트리아졸, 카르복시벤조트리아졸, 톨릴트리아졸, 1-페닐-lh-테트라졸-5-티올, 및 브롬화 헥사데실트리메틸암모니움이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
청구항 6에 명시된 구리 부식 억제제의 구성 성분 리스트를 추출함.