원자층 증착 장치 및 그의 플라즈마 감지 방법

[청구항2] 제1항에 있어서,쌍의 반응 가스 분사부와 각각 연결되며, 반응 가스 공급부로부터 공급되는 상기 반응 가스를 상기 반응 가스 플라즈마로 플라즈마화하는 한 쌍의 플라즈마 생성부; 상기 한 쌍의 플라즈마 생성부에 연결되며, 상기 한 쌍의 플라즈마 생성부에서 상기 반응 가스를 플라즈마화하기 위한 전원을 공급하는 매칭 박스; 및상기 감지부로부터 획득된 정보에 기초하여, 상기 매칭 박스의 전원 공급에 의한 상기 한 쌍의 플라즈마 생성부의 작동을 제어하는 제어부더 포함하는원자층 증착 장치. [청구항3] 제2항에 있어서,상기 제어부는 상기 한 쌍의 반응 가스 분사부 중 하나의 반응 가스 분사부에서 상기 반응 가스 플라즈마가 분사되는 것을 상기 감지부가 감지하는 경우, 상기 매칭 박스로부터 상기 한 쌍의 플라즈마 생성부 모두에 전원이 공급되도록 함으로써 상기 한 쌍의 반응 가스 분사부 모두로부터 상기 반응 가스 플라즈마가 분사되도록 상기 매칭 박스 및 상기 한 쌍의 플라즈마 생성부의 작동제어하는원자층 증착 장치. [청구항4] 제3항에 있어서,상기 감지부는,상기 이동홀에 연결되며, 상기 반응 가스 플라즈마를 감지하는 센서부재; 및상기 센서부재에 의해 감지된 정보를 상기 제어부로 송신하는 송신부재포함하는원자층 증착 장치. [청구항5] 제4항에 있어서,상기 감지부는,상기 센서부재 및 상기 송신부재의 적어도 일부분을 감싸도록 마련되며, 상기 반응 가스 분사부로부터 분사되는 상기 반응 가스 플라즈마와 무반응하는 세라믹(ceramic) 재질로 제작되는 보호부재더 포함하는원자층 증착 장치. [청구항6] 제4항에 있어서,상기 센서부재는 상기 반응 가스 플라즈마의 전하량을 감지함으로써상기반응가스플라즈마의분사유무감지하는센서인원자층 증착 장치. [청구항7] 제4항에 있어서,상기 센서부재는 실리콘 카바이드(sic)를 함유한 금속 재질로 마련되고, 상기 송신부재는 와이어(wire) 재질마련되는원자층 증착 장치. [청구항8] 제1항에 있어서,상기 샤워 헤드는, 상기 소스 가스를 상기 기판으로 분사하는 적어도 한 쌍의 소스 가스 분사부; 및상기 기판에 분사된 상기 소스 가스 또는 상기 반응 가스 플라즈마를 퍼지시키기 위한 퍼지 가스(purge gas)를 분사하는 적어도 한 쌍의 퍼지 가스 분사부더 포함하는원자층 증착 장치.