문맥 (context)
[청구항 1]
i) - 전극 물질의 전극체 (2),
- 이 전극 물질의 표면을 적어도 부분적으로 피복하는 유전체 (3), 및
- 상기 유전체 표면을 적어도 부분적으로 피복하는 전기 전도성 물질을 적어도 포함하는 고체 전해질 (4)을 포함하는, 커패시터체 (1)를 제공하는 단계,
ii) 상기 커패시터체 (1)에 프라이머 용액 e)을 적용시킨 다음, 공액 고분자 b) 및 용제 또는 분산제 d)를 포함하는 용액 또는 분산액 a)을 적용한 후에, 상기 커패시터체 (1) 상에 형성되는 고분자 외부층 (5)의 형성을 위해 상기 용제 또는 분산제 d)가 적어도 부분 제거되는, 프라이머 용액의 적용 단계를 포함하며
여기서 상기 프라이머 용액 e)은 적어도 하나의 단관능성 아민 및 적어도 하나의 카르복실산을 포함하는, 전해 커패시터의 생산 공정
[청구항 2]
청구항 1에 있어서,상기 단관능성 아민은 하기 화학식 1의 1차, 2차 또는 3차 아민인, 전해 커패시터의 생산 공정: [화학식 1]여기서 r은 같거나 다를 수 있고, - 수소,- c1-c300-지방족, 또는 헤테로 지방족기,- c6-c18, 방향족, 또는 헤테로 방향족기, 또는- c7-c18 아랄킬 또는 헤테로 아랄킬기를 나타내며,여기서로 연결될 수있다.
[청구항 3]
청구항 2에 있어서,수소,- 선형 c1-c18-알킬기,- 분지형 c3-c18-알킬기,- c5-c18-시클로알킬기,- 적어도 하나의 oh-기를 갖는 선형 c1-c18-히드록시알킬기,- 적어도 하나의 oh-기를 갖는 분지형 c3-c18-히드록시알킬기, - 적어도 하나의 oh-기를 갖는 시클릭 c5-c18-히드록시알킬기, - 식 -(ch2ch2o)n-or' 또는 -(ch2chch3o)n-or'의 폴리알킬렌옥시드기, 여기서 n은 2 내지 100의 정수이고, r'는 h 또는 선형 c1-c10-알킬기, 분지형 c3-c10-알킬기 또는 c5-c10-시클로알킬기임,- c2-c18-알케닐기,- c6-c18-아릴기, 또는- c7-c18-아랄킬나타내는,전해 커패시터의 생산 공정.
[청구항 5]
청구항 4에 있어서,상기 단관능성 아민은, 헥실아민, 터트-옥틸아민, 옥틸아민, 디-옥틸아민, 트리-옥틸아민 및 도데실아민으로 이루어진 군선택되는,전해 커패시터의 생산 공정.
[청구항 6]
전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 카르복실산은 단관능성, 이관능성 또는 삼관능성 카르복실산 또는 다관능성 카르복실산이며, 여기서 상기 카르복실산은 또한 히드록실기, 에테르기, 티올기 또는 티오에테르기로 이루어진 군으로부터 선택된 관능기를 포함하는, 전해 커패시터의 생산 공정
[청구항 7]
청구항 6에 있어서,상기 카르복실산은, 아세트산, 헥사노익산, 아디프산, 숙신산 및 트리메스산으로 이루어진 군선택되는,전해 커패시터의 생산 공정.
[청구항 10]
전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 공액 고분자 b)는 양이온성 고분자이고, 여기서 용액 또는 분산액 a)은, 공액 고분자에 대한 반대-이온으로 제공되는 고분자성 음이온을 포함하는, 전해 커패시터의 생산 공정
[청구항 11]
청구항 10에 있어서,상기 고분자성음이온은 고분자 카르복실산 또는 술폰산의 음이온인,전해 커패시터의 생산 공정.
[청구항 13]
전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 용액 또는 분산액 a)은, 공액 고분자로서, 선택적으로 치환된 폴리티오펜, 선택적으로 폴리아닐린 및 선택적으로 치환된 폴리피롤로 이루어진 군으로부터 선택된 전기 전도성 고분자를 포함하는, 전해 커패시터의 생산 공정
[청구항 14]
전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 용액 또는 분산액 a)은, 공액 고분자로서, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리스티렌술폰산-복합체의 형태로 존재하는, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)을 포함하는, 전해 커패시터의 생산 공정
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
전해 커패시터의 생산 공정에서 고분자 외부층(5)을 형성하기 위해 프라이머 용액 e)을 적용한 후, 공액 고분자 b) 및 용제 또는 분산제 d)를 포함하는 용액 또는 분산액 a)를 적용한 뒤 수행해야 하는 단계는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation전해 커패시터 생산 공정 중 프라이머 용액 적용 및 용액/분산액 적용 이후에 수행되어야 하는 특정 단계를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 1에서 프라이머 용액 e) 적용 후, 용액 또는 분산액 a)를 적용하는 공정 순서를 확인한다.
- 상기 커패시터체 (1)에 프라이머 용액 e)을 적용시킨 다음, 공액 고분자 b) 및 용제 또는 분산제 d)를 포함하는 용액 또는 분산액 a)을 적용한 후에
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3근거 선택
evidence_selection용액/분산액 적용 이후에 발생하는 동작인 '용제 또는 분산제 d)가 적어도 부분 제거되는' 구절을 선택한다.
- 상기 용제 또는 분산제 d)가 적어도 부분 제거되는
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4논리 통합
logical_integration프라이머 적용 -> 용액/분산액 적용 -> 용제/분산제 제거 순으로 공정이 진행됨을 파악한다.
- 프라이머 용액 e)을 적용시킨 다음, 공액 고분자 b) 및 용제 또는 분산제 d)를 포함하는 용액 또는 분산액 a)을 적용한 후에, 상기 커패시터체 (1) 상에 형성되는 고분자 외부층 (5)의 형성을 위해 상기 용제 또는 분산제 d)가 적어도 부분 제거되는
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에서 요구하는 '수행해야 하는 단계'는 용제 또는 분산제 d)를 적어도 부분적으로 제거하는 단계이다.
- 상기 용제 또는 분산제 d)가 적어도 부분 제거되는
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6답변 생성
answer_generation추출된 핵심 문구를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- 상기 용제 또는 분산제 d)가 적어도 부분 제거되는
근거 (evidence)
- 상기 커패시터체 (1)에 프라이머 용액 e)을 적용시킨 다음, 공액 고분자 b) 및 용제 또는 분산제 d)를 포함하는 용액 또는 분산액 a)을 적용한 후에
- 상기 용제 또는 분산제 d)가 적어도 부분 제거되는
- 프라이머 용액 e)을 적용시킨 다음, 공액 고분자 b) 및 용제 또는 분산제 d)를 포함하는 용액 또는 분산액 a)을 적용한 후에, 상기 커패시터체 (1) 상에 형성되는 고분자 외부층 (5)의 형성을 위해 상기 용제 또는 분산제 d)가 적어도 부분 제거되는
최종 답변 (final_answer)
상기 용제 또는 분산제 d)가 적어도 부분 제거되는 단계
핵심 해석 (core_interpretation)
전해 커패시터의 고분자 외부층 형성을 위해 프라이머와 공액 고분자 용액을 순차적으로 적용한 후, 용제 또는 분산제를 제거하여 층을 형성하는 공정 기술에 관한 것이다.