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PDP 어드레스 전극용 Pb 미함유 Ag 페이스트 조성물

uuid
22bd8bd9-4a54-562b-82e6-1383a93b12fa
출원번호
1020040039623
출원연도
2004
IPC
C08F 2/48
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제1항에 있어서,상기ag 분말은입자형상구형인것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기ag 분말의 평균 입경 (d50)이 0.5 내지 3㎛이고, 최대 입경 (dmax)이3내지인것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기ag분말의순도이상인것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기ag 분말의 탭 밀도 (tap density)가 4.3내지인것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기pb 미함유 무기질계 바인더는 bi2o3, sio2, b2o3, zro2 및 al2o3로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택되며,포함하지않는것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기pb 미함유 무기질계 바인더는 유리 전이 온도가 350 내지 500℃이고, 유리 연화 온도가400내지인것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기pb 미함유 무기질계 바인더는 평균입경 (d50)이 0.5 내지 3 ㎛이고, 최대입경 (dmax)이3내지인것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기pb 미함유 무기질계 바인더는 80 내지 300 ℃ 사이에서, 상기 pb 미함유 무기질계 바인더의 유리 전이 온도보다 100 ℃ 낮은온도건조된것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기 무기 증점제는 실리카, 카오린, 알루미나 및 마이카로 이루어진 군으로부터하나이상선택된것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 미세 도전성 분말 분산용 알칼리 가용성의 네가형 포토레지스트 조성물은, a) 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 포토레지스트용 아크릴레이트 공중합체 5 내지 50 중량%; b) 광중합성 모노머 5 내지 40 중량%; c) 광중합 개시제 5 내지 20 중량%; d) 소포제 5 내지 10 중량%; e) 레벨링제 4.5 내지 30 중량%; f) 가소제 0.5 내지 10 중량%; 및 g) 용매 30 내지 60 중량% 를 포함하는 것을 특징으로 하는 pb 미함유 ag 페이스트 조성물: [화학식 1] 상기 식에서, r1은 수소, 페닐기, 벤질기, 니트로기로 치환된 페닐기, 할로겐으로 치환된 페닐기, 니트로기로 치환된 벤질기, 불포화기 또는 불포화 탄소를 포함할 수도 있는 c1 내지 c10의 알킬기, 또는 c1 내지 c10의 히드록시기로 치환된 알킬기이며; r2는 에틸헥실기, 이소부틸기, tert-부틸기 및 옥틸기로 이루어진 군으로부터 선택된 알킬기, 3-메톡시부틸기, 또는 메톡시프로필렌글리콜기이며; r3는 수소 또는 알킬기이며; r4는 수소 또는 알킬기이며; n1 및 n2는 1 내지 120의 정수이다; [화학식 2] 상기 식에서, r5는 수소 또는 카르복실기이며; r6는 페닐기, 카르복실기 또는 -ococh3기이며; r7은 수소 또는 -ch2cooh기이고; r2, r4, n1, 및 n2는 상기정의한 바와 같다. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 미세 도전성 분말 분산용 알칼리 가용성의 네가형 포토레지스트 조성물은 3 중량%이하의분산제더포함하는것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 13] 제11항에 있어서,상기 광중합성 모노머는 부탄디올 디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸프로판 트리아크릴레이트(tmpta), 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트(tpgda), 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트(ttegda), 트리메틸프로판에톡시트리아크릴레이트(tmpeota),?폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디펜타에리스리톨키사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨히드록시펜타아크릴레이트, 글리세롤디아크릴레이트, 트리메티올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨디메타크릴레이트, 솔비톨트리메타크릴레이트, 비스페놀a 디아크릴레이트 유도체, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트로 이루어진 군으로부터하나이상선택되는것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 14] 제11항에 있어서,상기 광중합 개시제는 2,4-비스트리클로로메틸-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2-p-메톡시스티릴-4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-4-메틸나프틸-6-트리아진, 벤조페논, p-(디에틸아미노)벤조페논, 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2,2''-디에톡시아세토페논, 2,2''-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로리오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, p-t-부틸디클로로아세토페논, 벤질디메틸케탈, 4,4''-에틸아미노벤조페논, 2-메틸-1-4-메틸티오페닐-2-4-몰폴리닐-1-프로파논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-4-4''몰폴리닐페닐-1-부타논, 2,4,6-트리메틸 벤조일, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2-이소부틸티오크산톤, 2-도데실티오크산톤, 이소프로필-9h-티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤 및 2,4-디에틸티오크산톤-2,2''-비스-2-클로로페닐-4,5,4'',5''-테트라페닐-2''-1,2''-비이미다졸로 이루어진 군으로부터하나이상선택되는것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 15] 제11항에 있어서,상기 레벨링제는 음이온계의 공중합체 또는 아랄킬 변성 폴리메틸알킬실록산계 화합물이고, 상기 소포제는 폴리에스테르 변성 폴리메틸알킬실록산계, 폴리실록산계, 비실리콘계 고분자 화합물, 변성 우레아 용액, 폴리에스테르 변성 디메틸폴리실록산, 및 폴리에스테르 변성 디메틸폴리실록산 공중합체로 이루어진 군으로부터하나이상선택되는것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 16] 제11항에 있어서,상기 가소제는 파라핀유, 디옥틸프탈레이트, 디부톡시에틸 프탈레이트, 트리크리실포스페이트, 디옥틸세바케이트, 트리페닐포스페이트, 염소화 비페닐, 디헥실프탈리에트, 수소화 터페닐, 디부틸프탈레이트, 디프로필프탈레이트, 디에틸 프탈레이트, 디메틸프탈레이트, 산티사이저 및 글리세린으로 이루어진 군으로부터하나이상선택되는것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 17] 제11항에 있어서,상기 용매는 카비톨아세테이트, 감마부티로락톤, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리메틸펜탄디올모노이소부티레이트, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 메틸에틸케톤, 디옥산, 아세톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 이소부틸알코올, 이소프로필알코올, 및 테트라히드로푸란으로 이루어진 군으로부터하나이상선택되는것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물. [청구항 18] 제1항에 있어서,상기ag 페이스트 조성물은 점도가3000내지인것을특징으로 하는pb 미함유 ag 페이스트 조성물.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
Pb 미함유 Ag 페이스트 조성물에 포함되는 미세 도전성 분말 분산용 알칼리 가용성 네가형 포토레지스트 조성물의 구성 성분과 각 성분의 중량 범위를 모두 나열하시오.
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    Pb 미함유 Ag 페이스트 조성물에 포함되는 '미세 도전성 분말 분산용 알칼리 가용성 네가형 포토레지스트 조성물'의 구성 성분과 각각의 중량 범위를 추출해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 11에서 해당 포토레지스트 조성물의 구성 성분(a~g)과 각각의 중량 범위를 확인한다.

    • a) 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 포토레지스트용 아크릴레이트 공중합체 5 내지 50 중량%; b) 광중합성 모노머 5 내지 40 중량%; c) 광중합 개시제 5 내지 20 중량%; d) 소포제 5 내지 10 중량%; e) 레벨링제 4.5 내지 30 중량%; f) 가소제 0.5 내지 10 중량%; 및 g) 용매 30 내지 60 중량%
  3. 3근거 선택evidence_selection

    질문에서 요구하는 성분과 중량 범위가 명시된 청구항 11의 구절을 선택한다.

    • a) 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 포토레지스트용 아크릴레이트 공중합체 5 내지 50 중량%; b) 광중합성 모노머 5 내지 40 중량%; c) 광중합 개시제 5 내지 20 중량%; d) 소포제 5 내지 10 중량%; e) 레벨링제 4.5 내지 30 중량%; f) 가소제 0.5 내지 10 중량%; 및 g) 용매 30 내지 60 중량%
  4. 4논리 통합logical_integration

    추출된 각 성분(a~g)과 그에 대응하는 중량 범위를 매칭하여 리스트 형태로 정리한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    모든 구성 성분과 중량 범위가 누락 없이 포함되었는지 검토하여 최종 답변을 구성한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문의 요구사항에 따라 구성 성분과 중량 범위를 나열한다.

근거 (evidence)
  • a) 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 포토레지스트용 아크릴레이트 공중합체 5 내지 50 중량%; b) 광중합성 모노머 5 내지 40 중량%; c) 광중합 개시제 5 내지 20 중량%; d) 소포제 5 내지 10 중량%; e) 레벨링제 4.5 내지 30 중량%; f) 가소제 0.5 내지 10 중량%; 및 g) 용매 30 내지 60 중량%
최종 답변 (final_answer)
- 포토레지스트용 아크릴레이트 공중합체: 5 내지 50 중량% - 광중합성 모노머: 5 내지 40 중량% - 광중합 개시제: 5 내지 20 중량% - 소포제: 5 내지 10 중량% - 레벨링제: 4.5 내지 30 중량% - 가소제: 0.5 내지 10 중량% - 용매: 30 내지 60 중량%
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 Pb 미함유 Ag 페이스트 조성물 내에서 미세 도전성 분말의 분산을 돕는 알칼리 가용성 네가형 포토레지스트 조성물의 구체적인 성분 구성과 그 중량 비율을 정의하고 있다.