최종산출물 · 특허 지식베이스

기판처리장치

uuid
29dd7ccb-4fa3-5da1-9b1e-a746bf2556a8
출원번호
1020130088944
출원연도
2013
IPC
C23C
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항1] 기판을 처리하는 장치에 있어서, 내부에 기판을 처리하는 처리공간을 제공하는 챔버와 상기 처리공간에서 기판을 지지 및 회전시키는 서셉터와 상기 서셉터에 지지된 기판으로 공정가스를 공급하는 가스공급유닛과 전자기장을 발생하여 공정가스가 기판을 향하도록 유도시키는 마그네틱부재를 가지는 자력발생유닛을 포함하는 기판처리장치 [청구항2] 제1항에 있어서,셉터의 아래에서 상기 서셉터에 지지된 기판을 가열하는 히터를 더 포함하되,상기 마그네틱 부재는 상기 서셉터와 상기 히터 사이위치되는기판처리장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
기판처리장치에서 마그네틱 부재는 어떤 구성요소들 사이에 위치하며, 어떠한 역할을 수행하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    마그네틱 부재의 물리적 위치와 기능적 역할을 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 1에서 마그네틱 부재의 기능을, 청구항 2에서 마그네틱 부재의 위치를 추출한다.

    • 전자기장을 발생하여 공정가스가 기판을 향하도록 유도시키는 마그네틱부재
    • 상기 마그네틱 부재는 상기 서셉터와 상기 히터 사이위치되는
  3. 3근거 선택evidence_selection

    위치 정보를 담은 '서셉터와 히터 사이'와 기능 정보를 담은 '전자기장을 발생하여 공정가스가 기판을 향하도록 유도' 문구를 선택한다.

    • 상기 마그네틱 부재는 상기 서셉터와 상기 히터 사이위치되는
    • 전자기장을 발생하여 공정가스가 기판을 향하도록 유도시키는 마그네틱부재
  4. 4논리 통합logical_integration

    마그네틱 부재는 서셉터와 히터 사이에 위치하며, 전자기장을 통해 가스 흐름을 제어함을 통합한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    마그네틱 부재의 위치는 서셉터와 히터 사이이고, 기능은 전자기장을 발생시켜 공정가스가 기판을 향하도록 유도하는 것이다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 적합한 형태로 최종 답변을 작성한다.

근거 (evidence)
  • 전자기장을 발생하여 공정가스가 기판을 향하도록 유도시키는 마그네틱부재
  • 상기 마그네틱 부재는 상기 서셉터와 상기 히터 사이위치되는
최종 답변 (final_answer)
마그네틱 부재는 서셉터와 히터 사이에 위치하며, 전자기장을 발생시켜 공정가스가 기판을 향하도록 유도하는 역할을 수행한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
마그네틱 부재의 설치 위치(서셉터-히터 사이)와 기능(전자기장을 통한 공정가스 유도)을 정의함.