기판 지지 유닛, 이를 이용한 기판 처리 장치

[청구항1] 기판 지지 유닛에 있어서, 기판을 지지하는 서셉터와 상기 서셉터의 저면에 설치되어 상기 서셉터를 회전시키는 회전축과; 그리고 상기 회전축과 이격되며 상기 서셉터의 저면을 지지하는 서셉터 지지 부재를 포함하되 상기 서셉터 지지 부재는, 지지판과 상기 지지판의 상면에 위치하고 상기 서셉터의 저면과 접촉하여 회전 가능하도록 제공된 복수개의 구름 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 지지 유닛 [청구항2] 제 1항에 있어서,상기 지지판은지면과 수평하게 위치하고, 상기 회전축이 삽입되는개구가지는것을특징으로 하는기판 지지 유닛. [청구항3] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 구름 부재는구형상가지는것을특징으로 하는기판 지지 유닛. [청구항4] 제 3항에 있어서,상기 지지판에는 상기 구름 부재의 일부 영역이 삽입되는 홈이 형성되고, 각각의 구름 부재는 상기 홈에 대한 상대 위치 변경 없이, 상기 홈 내에서 회전 가능하게제공되는것을특징으로 하는기판 지지 유닛. [청구항5] 기판 처리 장치에 있어서, 공정 처리 공간을 제공하는 챔버와 상기 챔버 내에서 기판을 지지하는 기판 지지 부재와 상기 기판 지지 부재의 저면에 설치되어 상기 기판 지지 부재를 회전시키는 회전축과 상기 회전축과 이격되며, 상기 기판 지지 부재의 저면을 지지하는 서셉터 지지 부재와 상기 기판을 가열하는 히터와; 그리고 상기 서셉터에 지지된 기판에 반응 가스를 분사하는 가스 분사 유닛을 포함하되 상기 서셉터 지지 부재는 지지판과 상기 지지판의 상면에 위치하고 상기 서셉터의 저면과 접촉하여 회전 가능하도록 제공된 복수개의 구름 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치 [청구항6] 제 5항에 있어서,상기 지지판은지면과 수평하게 위치하고, 상기 회전축이 삽입되는 개구를 가지고,상기회전축이격되는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항7] 제 5항에 있어서,상기 지지판은상기 챔버의 내벽에고정결합하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항8] 제 5항 내지 제 7항 중 어느 하나에 있어서,셉터 지지 부재는상기 지지판의 저면에 고정 결합되어 상기 지지판을 지지하는지지대가지는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항9] 제 5항 내지 제 7항 중 어느 하나에 있어서,상기 구름 부재는구형상가지는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항10] 제 5항에 있어서,상기 회전축의 내부 중앙에는 상기 기판 지지 부재의 상면까지 연장되는배기라인형성되는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항11] 제 5항에 있어서,상기 히터는상기 지지판의 아래에서상기회전축위치되는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항12] 제 5항에 있어서,상기 기판 지지 부재는상면에 복수개의 홈이 제공되는 서셉터와 상기 홈에 삽입되는기판 홀더가지는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항13] 제 12항에 있어서,상기 회전축은상부에서 바라볼 때 상기 기판 홀더와 중첩되지제공되는것을특징으로 하는기판 처리 장치.