대향 타겟식 스퍼터링 장치

[청구항1] 몸체를 이루는 챔버와, 기판을 장착하는 기판 장착부를 구비하는 챔버부와 각각 구비하는 스퍼터링 타겟이 서로 대향하도록 하며 소정의 거리를 두고 배치되는 제 1 타겟부 및 제 2 타겟부와, 상기 제 1 타겟부 및 제 2 타겟부를 수용하며 상기 기판 장착부 방향으로 일부분이 개구된 박스 형태의 케이스를 구비하는 적어도 하나의 박스형 스퍼터링 타겟부를 포함하는 것을 특징으로 하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치 [청구항2] 제 1항에 있어서,상기제 1 타겟부 및 제 2 타겟부는 각각 타겟 몸체와, 상기 타겟 몸체에 지지되어 스퍼터링 타겟을 장착하는 타겟 플레이트와, 상기 타겟 플레이트의 배면에 배치되는 요크와, 상기 타겟 몸체의 내부에 배치되는자계발생수단구비하는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항3] 제 2항에 있어서,상기 자계 발생 수단의 길이는 4.5㎝이상인것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항4] 제 3항에 있어서,상기 자계 발생 수단의 길이는 6㎝이상인것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항5] 제 2항에 있어서,상기 요크는강자성체상자성체로이루어지는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항6] 제 5항에 있어서,상기 요크는강자성체로이루어지는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항7] 제 6항에 있어서,상기 강자성체는 철, 코발트,니켈및이들의합금중하나인것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항8] 제 2항에 있어서,상기제 1 타겟부 및 제 2 타겟부는 상기 자계 발생 수단을 냉각시키기 위한냉각수단더구비하는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항9] 제 2항에 있어서,상기제 1 타겟부 및 제 2 타겟부는 스퍼터링 가스를 공급하는스퍼터링가스공급수단더구비하는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항10] 제 9항에 있어서,상기제 1 타겟부 및 제 2 타겟부 사이의 스퍼터링 가스의 압력은 0.1mtorr내지인것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항11] 제 1항에 있어서,상기제 1 타겟부 및 제 2 타겟부는 힌지 수단을 통하여상기케이스연결되는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항12] 제 1항에 있어서,상기 스퍼터링타겟부는 상기 케이스 내부 바닥면에 이물질제거수단더구비하는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항13] 제 1항에 있어서,상기 챔버 내부 내벽에는 챔버의 오염을 방지하기 위한방착판더구비하는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항14] 제 1항에 있어서,상기 기판은 200℃이하유지되는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터링 장치. [청구항15] 제 14항에 있어서,상기 기판은 40℃이하유지되는것을특징으로 하는대향 타겟식 스퍼터일 장치.