기판처리장치

[청구항2] 제1항에 있어서,상기 하부가이드판은 상기 하부가이드판의 일단이 상기 챔버의 내측벽에 힌지결합되고, 상기 조절부재는 상기 하부가이드판의 저면에 아래로 연장되게 결합되는 이동로드와; 상기 이동로드를 상하로 이동시키는 구동기를 포함하고, 상기 하부가이드판은 복수 개로 제공되고, 상기 하부가이드판들은 서로간에 이격되게 위치하고, 상기 하부가이드판들은 서로간에 독립적으로 경사가 조절되도록제공되는것을특징으로 하는기판처리장치. 제1항에 있어서,상기 하부가이드판은상기 하부가이드판의 일단이 상기 내측벽에힌지결합되는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항3] 제2항에 있어서,상기 조절부재는상기 하부가이드판의 저면으로부터 아래로 연장되도록 상기 하부 가이드판에 결합되는 이동로드와;상기 이동로드를 상하로 이동시키는구동기포함하는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항4] 제3항에 있어서,상기 하부가이드판은 복수 개로 제공되고,상기 하부가이드판들은 서로 간에이격되게위치하는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항5] 제4항에 있어서,상기 하부가이드판들은 서로 간에 독립적으로 경사가 조절되도록제공되는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항6] 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,각각의 상기 분사홀은 슬릿으로 제공되고, 상기 분사홀들은 상기 내측벽에 원주를 따라동일선상위치하는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항7] 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가이드유닛은 상기 분사홀을 사이에 두고 상기 하부가이드판과 마주보도록 상기 내측벽에 고정설치되는상부가이드판더가지는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항8] 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 기판지지부재는상면에 복수개의 홈이 제공되는 서셉터홀더와;상기 홈에 삽입되며 상기 기판을 지지하는 서셉터와;상기 서셉터가 상기 홈 내에서 부유하고 회전되도록 상기 홈으로 가스를 공급하는 기체공급라인과;상기 서셉터홀더의 저면에 결합되어 상기 서셉터홀더를 회전시키는 회전축과;상기 서셉터홀더의 아래에는 기판을 가열하는히터배치되는것을특징으로 하는기판처리장치.