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샤워헤드용 토출관, 이를 이용한 샤워헤드 및 화학기상 증착장치

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출원번호
1020110002468
출원연도
2011
IPC
C23C
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항1] 제 1가스가 토출되는 제 1토출로와, 상기 제 1토출로로부터 이격되어 제 2가스가 토출되는 제 2토출로가 형성되되, 상기 제 1토출로와 상기 제 2토출로는 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 서로 다른 공급면을 통해 상기 제1 토출로와 상기 제 2토출로로 각각 공급되고, 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 동일한 토출면을 통해 상기 제 1토출로와 상기 제 2토출로로부터 각각 토출되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드용 토출관 [청구항2] 제 1항에 있어서,상기 제 2가스의 토출량은 상기 제 1가스의 토출량보다 많으며,상기 제 2토출로의 개수는 상기 제 1토출로의 개수보다 많게 형성되는 것을 의특징으로 하는샤워헤드용 토출관. [청구항3] 제 2항에 있어서,상기 제 2토출로는 상기 제1 토출로의 주변부에복수개형성되는것을특징으로 하는샤워헤드용 토출관. [청구항4] 본체와, 상기 본체의 내부에 마련되어 제 1가스가 공급되는 제 1가스챔버와, 상기 제 1가스챔버의 하부에 마련되어 제 2가스가 공급되는 제 2가스챔버와, 상기 제 1가스챔버에 연통되는 제 1토출로와, 상기 제 1토출로와 이격되고 상기 제2 가스챔버에 연통되는 토출로가 각각 형성되는 토출관을 포함하며, 상기 제1 토출로와 상기 제 2토출로는 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 동일한 토출면을 통해 상기 제 1토출로와 상기 제 2토출로로부터 각각 토출되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드 [청구항5] 제 4항에 있어서,상기 제 2가스의 토출량은 상기 제 1가스의 토출량보다 많으며,상기 제 2토출로의 개수는 상기 제 1토출로의 개수보다 많게 형성되는 것을 의특징으로 하는샤워헤드. [청구항6] 제 5항에 있어서,상기 제 2토출로는 상기 제1 토출로의 주변부에복수개형성되는것을특징으로 하는샤워헤드. [청구항7] 제 4항에 있어서,상기 제 1가스챔버에 연통되어 상기 제 1가스챔버로 상기 제 1가스를 공급하는 제 1가스공급관과,상기 제 2가스챔버에 연통되어 상기 제 2가스챔버로 상기 제 2가스를 공급하는제2가스공급관더포함하는것을특징으로 하는샤워헤드. [청구항8] 제 4항에 있어서,상기 제 2가스챔버의 하부에 마련되어 내부에 냉매가 순환되는냉각챔버더포함하는것을특징으로 하는샤워헤드. [청구항9] 공정챔버와, 상기 공정챔버의 내부에 배치되어 기판을 지지하는 서셉터와, 상기 공정챔버의 내부로 제 1가스와 제 2가스를 분사하는 샤워헤드를 포함하되, 상기 샤워헤드는 본체와, 상기 본체의 내부에 마련되어 제 1가스가 공급되는 제 1가스챔버와, 상기 제 1가스챔버의 하부에 마련되어 제 2가스가 공급되는 제 2가스챔버와, 상기 제 1가스챔버에 연통되는 제 1토출로와, 상기 제 1토출로와 이격되고 상기 제2 가스챔버에 연통되는 토출로가 각각 형성되는 토출관을 포함하며, 상기 제1 토출로와 상기 제 2토출로는 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 동일한 토출면을 통해 상기 제 1토출로와 상기 제 2토출로로부터 각각 토출되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 화학기상 증착장치 [청구항10] 제 9항에 있어서,상기 제 2가스의 토출량은 상기 제 1가스의 토출량보다 많으며,상기 제 2토출로의 개수는 상기 제 1토출로의 개수보다 많게 형성되는 것을 의특징으로 하는화학기상 증착장치. [청구항11] 제 10항에 있어서,상기 제 2토출로는 상기 제1 토출로의 주변부에복수개형성되는것을특징으로 하는화학기상 증착장치. [청구항12] 제 10항에 있어서,상기 제 1가스는 ⅲ족 가스이며, 상기 제 2가스는ⅴ족가스인것을특징으로 하는화학기상 증착장치. [청구항13] 제 9항에 있어서,상기 샤워헤드는상기 제 1가스챔버에 연통되어 상기 제 1가스챔버로 상기 제 1가스를 공급하는 제 1가스공급관과,상기 제 2가스챔버에 연통되어 상기 제 2가스챔버로 상기 제 2가스를 공급하는제2가스공급관더포함하는것을특징으로 하는화학기상 증착장치. [청구항14] 제 9항에 있어서,상기 샤워헤드는상기 제 2가스챔버의 하부에 마련되어 내부에 냉매가 순환되는냉각챔버더포함하는것을특징으로 하는화학기상 증착장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
샤워헤드용 토출관에서 제 1가스와 제 2가스는 각각 어떠한 공급면과 토출면을 통해 전달되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    제 1가스와 제 2가스의 공급 및 토출 방식에 관한 관계를 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    가스의 공급 방식과 토출 방식에 대한 청구항 내용을 추출한다.

    • 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 서로 다른 공급면을 통해 상기 제1 토출로와 상기 제 2토출로로 각각 공급되고
    • 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 동일한 토출면을 통해 상기 제 1토출로와 상기 제 2토출로로부터 각각 토출되도록 형성되는
  3. 3근거 선택evidence_selection

    공급면과 토출면에 대한 직접적인 기술 문구를 선택한다.

    • 서로 다른 공급면
    • 동일한 토출면
  4. 4논리 통합logical_integration

    공급 시에는 서로 다른 면을 사용하지만, 토출 시에는 하나의 동일한 면을 사용한다는 점을 연결한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    제 1가스와 제 2가스는 서로 다른 공급면을 통해 각각의 토출로로 공급되며, 동일한 토출면을 통해 각각 토출된다는 결론을 도출한다.

    • 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 서로 다른 공급면을 통해 상기 제1 토출로와 상기 제 2토출로로 각각 공급되고
    • 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 동일한 토출면을 통해 상기 제 1토출로와 상기 제 2토출로로부터 각각 토출되도록
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 적합한 형태로 최종 답변을 작성한다.

근거 (evidence)
  • 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 서로 다른 공급면을 통해 상기 제1 토출로와 상기 제 2토출로로 각각 공급되고
  • 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 동일한 토출면을 통해 상기 제 1토출로와 상기 제 2토출로로부터 각각 토출되도록 형성되는
  • 서로 다른 공급면
  • 동일한 토출면
  • 상기 제 1가스와 상기 제 2가스가 동일한 토출면을 통해 상기 제 1토출로와 상기 제 2토출로로부터 각각 토출되도록
최종 답변 (final_answer)
제 1가스와 제 2가스는 서로 다른 공급면을 통해 각각의 토출로(제 1토출로 및 제 2토출로)로 공급되며, 토출될 때는 동일한 토출면을 통해 각각 토출된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
가스의 공급 단계에서는 독립된(서로 다른) 공급면을 사용하지만, 토출 단계에서는 통합된(동일한) 토출면을 사용하는 구조적 특징을 가진다.