플라즈마 발생장치 및 이를 구비한 기판 처리장치

[청구항 1] 플라즈마가 가 발생되는 캐소드; 및 상기 캐소드의 일측에 마련되되, 상기 캐소드에 파워를 공급하는 파워공급부를 포함하며, 상기 캐소드는, 원형 단면 형상을 가지며, 기판에 증착물질을 제공하는 증착원부 상기 증착원부의 외주면을 감싸는 제1 자성체 상기 증착원부를 관통하는 복수의 홀부를 구비하며, 상기 홀부의 내부에서 플라즈마 가 발생되도록 하는 플라즈마 발생부; 및 상기 플라즈마 발생부에 인접하게 마련되되, 상기 홀부의 내부에서 스퍼터링되는 증착물질이 상기 홀부에 대향되게 설치된 상기 기판 방향으로 스퍼터링되도록 상기 홀부의 개구부에 대응하는 위치에 개방부가 형성된 쉴드를 포함하며, 상기 홀부는, 원형 단면, 비원형 단면 및 이들을 상호 조합한 것 중 어느 하나의 단면 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치 [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 홀부는,상기 증착원부의 원주방향을 따라상호이격되게마련된것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 홀부의 단면적은,상기 증착원부의 반경방향으로갈수록크기증가하는것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 5] 플라즈마가 가 발생되는 캐소드; 및 상기 캐소드의 일측에 마련되되, 상기 캐소드에 파워를 공급하는 파워공급부를 포함하며, 상기 캐소드는, 원형 단면 형상을 가지며, 기판에 증착물질을 제공하는 증착원부 상기 증착원부의 외주면을 감싸는 제1 자성체; 및 상기 증착원부의 일면에 형성된 복수의 홈부를 구비하며, 상기 홈부의 내부에서 플라즈마가 발생되도록 하는 플라즈마 발생부를 포함하며, 상기 홈부는, 원형 단면, 비원형 단면 및 이들을 상호 조합한 것 중 어느 하나의 단면 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치 [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 홈부는,상기 증착원부의 원주방향을 따라상호이격되게마련된것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 7] 제5항에 있어서,상기 홈부의 단면적은,상기 증착원부의 반경방향으로갈수록크기증가하는것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 8] 제5항에 있어서,상기 홈부는,상기 증착원부의 중심에 대해 링형상으로 형성되며, 상기 증착원부의 반경방향으로상호이격되게마련된것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 9] 플라즈마가 가 발생되는 캐소드; 및 상기 캐소드의 일측에 마련되되, 상기 캐소드에 파워를 공급하는 파워공급부를 포함하며, 상기 캐소드는, 비원형 단면 형상을 가지며, 기판에 증착물질을 제공하는 증착원부 상기 증착원부의 외주면을 감싸는 제1 자성체 상기 증착원부를 관통하는 복수의 홀부를 구비하며, 상기 홀부의 내부에서 플라즈마 가 발생되도록 하는 플라즈마 발생부; 및 상기 플라즈마 발생부에 인접하게 마련되되, 상기 홀부의 내부에서 스퍼터링되는 증착물질이 상기 홀부에 대향되게 설치된 상기 기판 방향으로 스퍼터링되도록 상기 홀부의 개구부에 대응하는 위치에 개방부가 형성된 쉴드를 포함하며, 상기 홀부는, 원형 단면, 비원형 단면 및 이들을 상호 조합한 것 중 어느 하나의 단면 형상을 갖는 것을 특징하는 플라즈마 발생장치 [청구항 11] 제9항에 있어서,상기 증착원부는 타원형 단면을 가지며,상기 홀부는 상기 타원형 증착원부의 반경 방향으로상호이격되게마련된것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 홀부의 단면적은,상기 타원형 증착원부의 반경방향으로갈수록크기증가하는것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 13] 플라즈마가 가 발생되는 캐소드; 및 상기 캐소드의 일측에 마련되되, 상기 캐소드에 파워를 공급하는 파워공급부를 포함하며, 상기 캐소드는, 비원형 단면 형상을 가지며, 기판에 증착물질을 제공하는 증착원부 상기 증착원부의 외주면을 감싸는 제1 자성체; 및 상기 증착원부의 일면에 형성된 복수의 홈부를 구비하며, 상기 홈부의 내부에서 플라즈마가 발생되도록 하는 플라즈마 발생부를 포함하며, 상기 홈부는, 원형 단면, 비원형 단면 및 이들을 상호 조합한 것 중 어느 하나의 단면 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치 [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 증착원부는 타원형 단면 형상을 가지며,상기 홈부는 상기 타원형 증착원부의 반경방향으로상호이격되게마련된것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 홈부의 단면적은,상기 타원형 증착원부의 반경방향으로갈수록크기증가하는것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 16] 제1항, 제5항, 제9항 또는 제13항에 있어서,상기 캐소드는,상기 증착원부의 내부에 마련된 적어도 하나 이상의 제2 자성체더 포함하는플라즈마 발생장치. [청구항 17] 제5항 또는 제13항에 있어서,상기 캐소드는,상기 플라즈마 발생부에서 스퍼터링되는 증착물질이 기판 방향으로 스퍼터링되도록, 상기 플라즈마 발생부에 인접하게 마련된 쉴드더 포함하는플라즈마 발생장치. [청구항 18] 제1항, 제5항, 제9항 또는 제13항에 있어서,상기 캐소드는,상기 증착원부 및 상기 제1 자성체 사이에 마련되되, 적어도 하나 이상의 상기 증착원부가 착탈가능하게 연결되는 증착원홀더더 포함하는플라즈마 발생장치. [청구항 19] 제1항, 제5항, 제9항 또는 제13항에 있어서,상기 파워공급부는,dc 파워, dc pulse 파워, rf 파워, lf 파워, microwave 파워 및 이들을 상호 조합한 것중하나인것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 20] 제1항, 제5항, 제9항 또는 제13항에 있어서,복수의 상기 캐소드는 상호 연결되어 캐소드 어셈블리를 형성하며,상기 캐소드 어셈블리는,상기 제1 자성체를 상호 공용으로 사용할 수 있도록 복수의 상기 캐소드가인접되게배치되는것을특징으로 하는플라즈마 발생장치. [청구항 21] 기판에 대한 증착공간을 형성하는 공정챔버; 및 상기 공정챔버 내부에 마련되되, 제1항, 제5항, 제9항 또는 제13항에 따른 플라즈마 발생장치를 포함하는 기판 처리장치