스퍼터링 장치

[청구항2] 제 1 항에 있어서,상기 스퍼터링 장치는 상기 챔버 내부의 제 3 및 제 4 측에 소정의 거리를 두고 서로 평행하게 대향하는 제 3 및 제 4 타겟, 상기 제 3 및 제 4 타겟이 각각 안착되는 제 3 및 제 4 타겟 플레이트, 상기 제 1 내지 제 4 타겟 플레이트 각각의 배면에서 자기장을 형성시키는 복수의 자석, 상기 제 1 내지 제 4 타겟 플레이트를 고정시키는 복수의 조립체, 플라즈마 상태에서 발생된 이온들로부터 상기 제 1 타겟 또는 제 3 타겟을 커버하는 제 1 셔터부, 및 상기 플라즈마 상태에서 발생된 이온들로부터 상기 제 2 타겟 또는 제 4 타겟을 커버하는제2셔터부더구비한것을특징으로 하는스퍼터링 장치. 제 1 항에 있어서,상기 스퍼터링 장치는 상기 챔버 내부의 제 3 및 제 4 측에 소정의 거리를 두고 서로 평행하게 대향하는 제 3 및 제 4 타겟, 상기 제 3 및 제 4 타겟이 각각 안착되는 제 3 및 제 4 타겟 플레이트, 상기 제 1 내지 제 4 타겟 플레이트 각각의 배면에서 자기장을 형성시키는 복수의 자석, 상기 제 1 내지 제 4 타겟 플레이트를 고정시키는 복수의 조립체, 플라즈마 상태에서 발생된 이온들로부터 상기 제 1 타겟 또는 제 3 타겟을 커버하는 제 1 셔터부, 및 상기 플라즈마 상태에서 발생된 이온들로부터 상기 제 2 타겟 또는 제 4 타겟을 커버하는제2셔터부더구비한것을특징으로 하는스퍼터링 장치. [청구항3] 제 2 항에 있어서,상기 제 1 셔터부는 상기 제 1 타겟 또는 제 3 타겟의 전면에 소정의 간격을 두고 위치하여 상기 이온들로부터 상기 제 1 타겟 또는 제 3 타겟을 차단하는 제 1 셔터, 상기 제 1 셔터가 상기 제 1 타겟 또는 제 3 타겟의 전면에 위치되도록 상기 제 1 셔터를 회전 이동시키기 위한 제 1 회전축, 및 상기 제 1 회전 축을 구동하는제1셔터구동부구비한것을특징으로 하는스퍼터링 장치. 제 2 항에 있어서,상기 제 1 셔터부는 상기 제 1 타겟 또는 제 3 타겟의 전면에 소정의 간격을 두고 위치하여 상기 이온들로부터 상기 제 1 타겟 또는 제 3 타겟을 차단하는 제 1 셔터, 상기 제 1 셔터를 제 1 내지 제 3 축 중 적어도 하나의 축으로 회전 이동시킴으로써 상기 제 1 셔터를 상기 제 1 타겟 또는 제 3 타겟의 전면에 위치시키는 제 1 회전 축, 및 상기 제 1 회전 축을 구동하는제1셔터구동부구비한것을특징으로 하는스퍼터링 장치. [청구항4] 제 3 항에 있어서,상기 제 2 셔터부는 상기 제 2 타겟 또는 제 4 타겟의 전면에 소정의 간격을 두고 위치하여 상기의 이온들로부터 상기 제 2 타겟 또는 제 4 타겟을 차단하는 제 2 셔터, 상기 제 2 셔터를 제 1 내지 제 3 축(a 내지 c)중 적어도 하나의 축으로 회전 이동시킴으로써 상기 제 2 셔터를 상기 제 2 타겟 또는 제 4 타겟의 전면에 위치시키는 제 2 회전 축, 및 상기 제 2 회전 축을 구동하는제2셔터구동부구비한것을특징으로 하는스퍼터링 장치. 제 2 항에 있어서,상기 제 2 셔터부는 상기 제 2 타겟 또는 제 4 타겟의 전면에 소정의 간격을 두고 위치하여 상기의 이온들로부터 상기 제 2 타겟 또는 제 4 타겟을 차단하는 제 2 셔터, 상기 제 2 셔터가 상기 제 2 타겟 또는 제 4 타겟의 전면에 위치되도록 상기 제2셔터를 회전 이동시키기 위한 제 2 회전축, 및 상기 제 2 회전 축을 구동하는제2셔터구동부구비한것을특징으로 하는스퍼터링 장치. [청구항5] 제 4 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 타겟은 ito, 구리(cu), 알루미늄(al), 몰리브덴(mo), 은(si) 등의 물질 중 어느 하나의 물질로 동일하게 이루어지며, 상기 제 3 및 제 4 타겟은 상기 제 1 및 제 2 타겟과는 다른 물질로 이루어지지만 ito, 구리(cu), 알루미늄(al), 몰리브덴(mo), 은(si) 등의 물질 중 어느하나의물질동일하게이루어진것을특징으로 하는스퍼터링 장치. 제 4 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 타겟은 ito, 구리(cu), 알루미늄(al), 몰리브덴(mo), 은(si) 중 어느 하나의 물질로 동일하게 이루어지며, 상기 제 3 및 제 4 타겟은 상기 제 1 및 제 2 타겟과는 다른 물질로 이루어지지만 ito, 구리(cu), 알루미늄(al), 몰리브덴(mo), 은(si) 중 어느하나의물질동일하게이루어진것을특징으로 하는스퍼터링 장치. [청구항6] 제 1 항에 있어서,상기 방착판은 상기 제 1 및 제 2 타겟 플레이트의 사이 공간에 비례하는 크기로 형성되며, 그 상부면이 하나의 원형, 사각형,및다각형중형태로이루어진것을특징으로 하는스퍼터링 장치. 제 1 항에 있어서,상기 방착판은 그 상부면이 하나의 원형, 사각형,및다각형중형태로이루어진것을특징으로 하는스퍼터링 장치. [청구항7] 제 6 항에 있어서,상기 방착판은 그 단면이 하나의 직선형의 "v" 형태 또는 곡선형의 "v"형태형성된것을특징으로 하는스퍼터링 장치. 제 6 항에 있어서,상기 방착판은 그 단면이 하나의 직선형의 "v" 형태 또는 곡선형의 "v"형태형성된것을특징으로 하는스퍼터링 장치. [청구항8] 제 7 항에 있어서,상기 방착판은그 상부면에복수의삼각산형태의돌출부또는복수의반구형돌출부더형성된것을특징으로 하는스퍼터링 장치. 제 7 항에 있어서,상기 방착판은그 상부면에복수의삼각산형태의돌출부또는복수의반구형돌출부더형성된것을특징으로 하는스퍼터링 장치.