예비가열 부재를 셀프 센터링하기 위한 장치

[청구항 1] 처리 챔버를 위한 정렬 어셈블리로서, 립을 갖는 하부 라이너 최하부 표면을 갖는 예비가열 부재 상기 예비가열 부재의 최하부 표면으로부터 연장되는 정렬 메커니즘; 및 상기 립의 최상부 표면에 형성되며, 상기 정렬 메커니즘을 수용하도록 구성된 긴 홈(elongated groove) 을 포함하는 정렬 어셈블리 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 정렬 메커니즘은 상기 예비가열 부재의 일체형부분인,정렬 어셈블리. [청구항 3] 처리 챔버를 위한 정렬 어셈블리로서, 립을 갖는 하부 라이너 최하부 표면을 갖는 예비가열 부재 상기 립의 최상부 표면으로부터 연장되는 정렬 메커니즘; 및 상기 예비가열 부재의 최하부 표면에 형성되며, 상기 정렬 메커니즘을 수용하도록 구성된 긴 홈 을 포함하는 정렬 어셈블리 [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 정렬 메커니즘은 상기 립의 일체형부분인,정렬 어셈블리. [청구항 5] 제3항에 있어서,상기 정렬 메커니즘은 독립적으로 위치되고, 상기 예비가열 부재에서의 상기 긴 홈과 정렬되는 상기 립에서의홈들형성된슬롯에서 움직이는(ride), 정렬 어셈블리. [청구항 6] 제4항에 있어서,상기 정렬 메커니즘은 볼인,정렬 어셈블리. [청구항 7] 제1항 또는 제3항에 있어서,상기 예비가열 부재 및 상기 하부 라이너는 상기 하부 라이너의 중심선에 대하여 상기 예비가열 부재를 셀프 센터링(self-center)하는 3개의 정렬 어셈블리갖는,정렬 어셈블리. [청구항 8] 제1항 또는 제3항에 있어서,상기 정렬 메커니즘이 상기 홈 내에 배치될 때, 상기 예비가열 부재와, 상기 하부 라이너의 상기 립 사이에 형성되는 제1 갭더 포함하는정렬 어셈블리. [청구항 9] 제1항 또는 제3항에 있어서,홈은 깊은 v자형갖는타원 형상인, 정렬 어셈블리. [청구항 10] 제1항 또는 제3항에 있어서,홈은 사다리꼴 트랙갖는타원 형상인, 정렬 어셈블리. [청구항 11] 처리 챔버로서, 상부 돔; 하부 돔; 상기 상부 돔과 상기 하부 돔 사이에 배치된 하부 라이너 - 상기 상부 돔, 상기 하부 돔 및 상기 하부 라이너는 프로세스 가스 영역을 정의함 - 상기 프로세스 가스 영역 내에 배치된 서셉터 지지 어셈블리 상기 서셉터 지지 어셈블리 상에 배치된 예비가열 부재; 및 상기 예비가열 부재와 상기 하부 라이너 사이에 배치된 복수의 정렬 어셈블리 - 상기 복수의 정렬 어셈블리 중 2개의 정렬 어셈블리는 공통의 직경 상에 있지 않음 - 를 포함하고, 각각의 정렬 어셈블리는, 정렬 메커니즘; 및 상기 서셉터 지지 어셈블리의 중심선과 방사상 정렬되는 긴 홈 - 상기 정렬 메커니즘과 상기 홈은 상기 예비가열 부재와 상기 하부 라이너 사이에 균일한 갭을 유지하도록 구성됨 - 을 포함하는, 처리 챔버 [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 정렬 메커니즘이 상기 홈 내에 배치될 때, 상기 예비가열 부재와 상기 서셉터 지지 어셈블리 사이에 형성되는 갭더 포함하는처리 챔버. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 갭은015 인치인,처리 챔버. [청구항 14] 제12항에 있어서,상기 예비가열 부재는 상기 서셉터동심인,처리 챔버. [청구항 15] 제11항에 있어서,상기 예비가열 부재 및 상기 하부 라이너는 3개의 정렬 어셈블리를 갖고, 상기 3개의 정렬 어셈블리는 중심선에 대하여 상기 예비가열 부재를 셀프 센터링하며, 상기 예비가열 부재가 상기 서셉터 지지 어셈블리에 대하여 회전하고 측방향으로또는방위각이동하는것을방지하는,처리 챔버.