원자층 증착장치

[청구항2] 제1항에 있어서,상기 이너 챔버는,상기 서셉터 상부에 결합 가능하게 형성되고 내부가 다수의 셀로 분할된 하우징(housing); 및상기 하우징 내부 공간을 상기 다수의 셀로 분할하도록 상기 하우징 내부에 구비되는 격벽포함하는원자층 증착장치. 제1항에 있어서,상기 이너 챔버는,상기 서셉터 상부에 결합 가능하게 형성되고 내부가 다수의 셀로 분할된 하우징(housing); 및상기 하우징 내부 공간을 상기 다수의 셀로 분할하도록 상기 하우징 내부에 구비되는 격벽포함하는원자층 증착장치. [청구항3] 제2항에 있어서,상기 하우징 상면에는 상기 각 셀로 증착가스를 유입시킬 수 있도록 다수의 가스 유입구가 형성되고,상기 가스공급 모듈 하면에는 상기 가스 유입구를 통해 상기 증착가스를 공급하도록 다수의 가스 공급구형성된원자층 증착장치. 제2항에 있어서,상기 하우징 상면에는 상기 각 셀로 증착가스를 유입시킬 수 있도록 각 셀에 각각 하나의 가스 유입구가 형성되고,상기 가스공급 모듈 하면에는 상기 가스 유입구를 통해 상기 증착가스를 공급하도록 상기 가스 유입구와 동일한 개수의 가스 공급구형성된원자층 증착장치. [청구항4] 제3항에 있어서,상기 이너 챔버는 각 셀에 각각 하나의 가스 유입구가 형성되고, 상기 가스공급 모듈은 상기 가스 유입구와 동일한 개수의 가스 공급구형성된원자층 증착장치. [청구항5] 제3항에 있어서,상기 이너 챔버와 상기 가스공급 모듈의 결합면 일부가 서로 맞물리도록 요철 형태의 가이드가 구비되고,상기 가이드는 상기 가스공급 모듈에 대해 상기 이너 챔버가 회전 가능하도록 환형 돌기와 환형 홈으로 구성되며, 상기 환형 돌기 및 상기 환형 홈에는 각각 상기 가스 유입구 및 상기 가스 공급구형성되는원자층 증착장치. 제3항에 있어서,상기 이너 챔버와 상기 가스공급 모듈의 결합면 일부가 서로 맞물리도록 요철 형태의 가이드가 구비되고,상기 가이드는 상기 가스공급 모듈에 대해 상기 이너 챔버가 회전 가능하도록 환형 돌기와 환형 홈으로 구성되며, 상기 환형 돌기 및 상기 환형 홈에는 각각 상기 가스 유입구 및 상기 가스 공급구형성되는원자층 증착장치. [청구항6] 제5항에 있어서,상기 이너 챔버 및 상기 가스공급 모듈은 상기 가스 유입구와 상기 가스 공급구가 서로 어긋나게 위치하였을 때 상기 가스 공급구가 폐쇄될 수 있도록 상기 가스 유입구 사이의 간격이 상기 가스 공급구의 크기형성된원자층 증착장치. 제5항에 있어서,상기 이너 챔버 및 상기 가스공급 모듈은 상기 가스 유입구와 상기 가스 공급구가 서로 어긋나게 위치하였을 때 상기 가스 공급구가 폐쇄될 수 있도록 상기 가스 유입구 사이의 간격이 상기 가스 공급구의 크기형성된원자층 증착장치. [청구항7] 제3항에 있어서,상기 가스공급 모듈에는 상기 가스 공급구를 통해 서로 다른 종류의 증착가스를 공급하기 위한 다수의 공급원이 연결되며,상기 각 가스 공급구에는 서로 다른 공급원각각 연결되는원자층 증착장치. 제3항에 있어서,상기 가스공급 모듈에는 상기 가스 공급구를 통해 서로 다른 종류의 증착가스를 공급하기 위한 다수의 공급원이 연결되며,상기 각 가스 공급구에는 서로 다른 공급원각각 연결되는원자층 증착장치. [청구항8] 제7항에 있어서,상기 가스 공급구 중 적어도 하나의 가스 공급구에는 상기 셀 내부에서 배기가스를 흡입하여 배출시키기 위한 배기부가연결된원자층 증착장치. 제7항에 있어서,상기 가스 공급구 중 적어도 하나의 가스 공급구에는 상기 셀 내부에서 배기가스를 흡입하여 배출시키기 위한 배기부가연결된원자층 증착장치. [청구항9] 제7항에 있어서,상기 가스공급 모듈의 각 가스 공급구에는 하나 이상의 소스가스 공급원, 하나 이상의 퍼지가스 공급원 및 하나 이상의 배기부가 각각 연결되고,상기 소스가스 공급원, 상기 퍼지가스 공급원 및 상기 배기부가 서로 교번적으로 배치되도록 상기 각 가스 공급구연결된원자층 증착장치. 제7항에 있어서,상기 가스공급 모듈의 각 가스 공급구에는 하나 이상의 소스가스 공급원, 하나 이상의 퍼지가스 공급원 및 하나 이상의 배기부가 각각 연결되고,상기 소스가스 공급원, 상기 퍼지가스 공급원 및 상기 배기부가 서로 교번적으로 배치되도록 상기 각 가스 공급구연결된원자층 증착장치. [청구항10] 제2항에 있어서,상기 이너 챔버는 상기 가스 유입구 하부에 상기 가스 유입구에서 유입되는 증착가스를 균일하게 분배하기 위한 샤워헤드 형태의 분사부재더 구비된원자층 증착장치. 제2항에 있어서,상기 이너 챔버는 상기 가스 유입구 하부에 상기 가스 유입구에서 유입되는 증착가스를 균일하게 분배하기 위한 샤워헤드 형태의 분사부재더 구비된원자층 증착장치. [청구항11] 제1항에 있어서,셉터는 상기 기판의 로딩 및 언로딩을 위해 원자층 증착장치의 프로세스 챔버 내부에서 승강 이동 가능하게 구비되고,상기 프로세스 챔버 일 측에는 상기 서셉터의 하강 시 상기 이너 챔버의 하강 이동을 제한하고 상기 이너 챔버를 지지하는 스토퍼구비된원자층 증착장치. 제1항에 있어서,셉터는 상기 기판의 로딩 및 언로딩을 위해 원자층 증착장치의 프로세스 챔버 내부에서 승강 이동 가능하게 구비되고,상기 프로세스 챔버 일 측에는 상기 서셉터의 하강 시 상기 이너 챔버의 하강 이동을 제한하고 상기 이너 챔버를 지지하는 스토퍼구비된원자층 증착장치. [청구항12] 제1항에 있어서,상기 이너 챔버와 상기 가스공급 모듈 중 일 측 중앙 부분에는 결합축이 돌출 구비되고 다른 일 측에는 상기 이너 챔버가 회전 가능하도록 상기 결합축과 삽입 결합되는 축 결합부구비된원자층 증착장치. 제1항에 있어서,상기 이너 챔버와 상기 가스공급 모듈 중 일 측 중앙 부분에는 결합축이 돌출 구비되고 다른 일 측에는 상기 이너 챔버가 회전 가능하도록 상기 결합축과 삽입 결합되는 축 결합부구비된원자층 증착장치.