문맥 (context)
[청구항 2]
제 1항에 있어서,검사대상을 보전하고 상기 워킹챔버에 반출입하는반출입기구구비하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 3]
제 2항에 있어서,상기 반출입기구는, 상기 스테이지장치를 수용하고 있고 또한 진공분위기로 제어 가능하게 되어 있는 워킹챔버와, 상기 워킹챔버내의 상기 스테이지장치상에 검사대상을 공급하는 로우더를 구비하고, 상기 워킹챔버는 바닥으로부터의 진동을 차단하는 진동차단장치를 거쳐지지되는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 4]
제 1항에 있어서,상기 워킹챔버내에 배치된 상기 검사대상으로 전위를 인가하는 전위 인가기구와, 상기 전자 광학계에 대한 상기 검사대상의 위치 결정을 위하여 상기 검사대상의 표면을 관찰하여 얼라인먼트를 제어하는얼라인먼트제어장치구비하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 5]
제 1항에 있어서,상기 전자 광학계는, 대물렌즈 및 e ×b 분리기를 가지며, 복수의 상기 빔을 형성하여 상기 검사대상에 조사하고 상기 빔의 조사에 의하여 방출되는 2차 하전입자를 상기 대물렌즈로 가속시켜 상기 e ×b 분리기로 분리하고, 2차 하전입자상을 투영하는 전자 광학계와, 2차 하전입자상을 검출하는복수의검출기구비하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 6]
제 3항에 있어서,상기로우더가, 각각이 독립하여 분위기 제어 가능하게 되어 있는 제 1 로딩챔버및 제 2 로딩챔버와, 상기 검사대상을 제 1 로딩챔버내와 그 외부와의 사이에서 반송하는 제 1 반송유닛과, 상기 제 2 로딩챔버에 설치되어 상기 검사대상을 상기 제 1 로딩챔버내와 상기 스테이지장치상과의 사이에서 반송하는 제 2 반송유닛을 구비하고, 상기 검사장치가 상기 로우더에 검사대상을 공급하기 위한 구획된 미니 엔바이로먼트공간더구비하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 7]
제 1항에 있어서,상기 스테이지장치상의 상기 검사대상의 좌표를 검출하는 레이저 간섭측거장치를 구비하고, 상기 얼라인먼트제어장치에 의하여 검사대상에 존재하는 패턴을 이용하여검사대상의좌표정하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 8]
제 6항에 있어서,상기 검사대상의 위치맞춤은 상기 미니 엔바이로먼트공간내에서 행하여지는 초벌 위치맞춤과, 상기 스테이지장치상에서 행하여지는 xy방향의위치맞춤및회전방향의위치맞춤포함하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 11]
제 10항에 있어서,상기 1차 광학계는 상기 하전입자선의 조사간격보다 넓은 간격으로 상기 하전입자선을 주사하는기능가지는것을특징으로 하는하전입자선장치.
[청구항 12]
제 10항에 있어서,상기 2차 광학계의 초단렌즈와 시료면 사이에는 상기 2차 하전입자선을 가속하는 전계가 인가되고, 시료면으로부터 적어도 45도보다 작은 각도로 방출된 2차 하전입자가상기2차광학계통과하게되는것을특징으로 하는하전입자선장치.
[청구항 13]
제 10항에 있어서,상기 복수의 하전입자선은 시료면에 대략 수직입사되고, 상기 2차 하전입자는 e ×b 분리기에 의하여 편향되어상기1차광학계분리되는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 16]
제 15항에 있어서,상기 칸막이가차동배기구조내장하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 17]
제 15항에 있어서,상기 칸막이가콜드트랩기능가지는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 18]
제 15항에 있어서,상기 칸막이가, 하전입자빔조사위치의근방과정압베어링근방의2개소설치되는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 19]
제 15항에 있어서,상기xy 스테이지의 정압베어링에 공급되는 가스가,질소또는불활성가스인것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 20]
제 15항에 있어서,상기xy 스테이지의 적어도 정압베어링에 면한 부품 표면에 방출가스를 저감하기 위한표면처리실시한것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 25]
제 24항에 있어서,1차 하전입자선을 상기 복수의 피검사영역에 각각 조사하고, 상기 시료로부터 2차 하전입자선을 방출시키는 전자 광학계(3100)를 더욱 포함하고, 상기 화상 취득수단은 상기 복수의 피검사영역으로부터 방출된 2차 하전입자선을 검출함으로써복수의피검사영역의화상을순차취득하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 26]
제 25항에 있어서,상기 전자 광학계(3100)는 1차 하전입자를 방출하는 입자원과, 1차 하전입자를 편향시키는 편향수단을 구비하고, 상기 입자원으로부터 방출된 1차 하전입자를 상기 편향수단으로 편향시킴으로써 상기 1차 하전입자를 상기 복수의 피검사영역에순차조사하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 27]
제 24항 내지 제 26항 중 어느 한 항에 있어서,1차 하전입자선을 시료에 조사하는 1차 광학계와, 2차 하전입자를 검출기로 유도하는2차광학계가지는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 30]
제 29항에 있어서,복수의 1차 하전입자선은 시료면 위에 2차원적으로 형성되는 복수의 조사점의 임의의 2개의 조사점 사이의 거리의 최대값이최소배치되는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 32]
제 31항에 있어서,1차 하전입자선 조사장치가 빔 발생수단과, 빔 발생수단으로부터 방출되는 입자를 받아 n행 m열의 1차 하전입자선 조사점을 형성하는 복수의 하전입자선을 형성하는 복수의 개구를 가지는 개구판을 가지고, 상기 개구는 빔 발생수단으로부터 방출되는하전입자의소정전자밀도의범위내위치하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 33]
제 32항에 있어서,1차 하전입자선 조사점은 시료의 이동방향에 대하여 직각방향으로(m열 사이의 간격)/(행의 수 n) + α의 거리만큼 주사하고, 여기서 α는미소거리인것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 34]
제 29항 내지 제 33항 중 어느 한 항에 있어서,2차 전자검출기에서 검출되는 2차 전자선을 시료면의 결함측정, 시료면 위에 형성되는 집적회로의 배선폭 측정, 전위 콘트라스트측정, 맞춤 정밀도측정등의측정사용하도록한것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 35]
제 32항 또는 제 33항에 있어서,1차 하전입자선 조사장치가 빔 발생수단 및 개구판에 의하여 시료면에 복수의 1차 하전입자선 조사점을 형성하는 1차 하전입자 조사계를 복수개 구비하고, 각 1차 하전입자 조사계의 1차 하전입자가 다른 1차 하전입자 조사계의 1차 하전입자와 간섭하지 않도록 하고 있고, 또 2차 하전입자 검출기를 1차 하전입자 조사계의 각각 에 대응하여복수개설치한것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 47]
제 46항에 있어서,상기 제 1차 광학계 및 제 2차 광학계는, 상기 e ×b 분리기 중의 하나에 의하여 편향된 2차 전자의 경로가 서로 간섭하지 않도록2행복수열의세트배치되는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 49]
제 46항 또는 제 48항에 있어서,상기 제 1차 광학계 및 제 2차 광학계는 상기 e ×b 분리기에 의하여 편향된 2차 하전입자의 경로가 서로 간섭하지 않도록2행복수열의세트배치되는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 53]
제 51항 또는 제 52항에 있어서,검사장치는 웨이퍼상의 패턴이 대전하고 있는 상태에서대물렌즈의여기조건구성되는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 57]
제 56항에 있어서,상기 제 1차 광학계에서의 멀티빔의 축소율과, 상기 제 2차 광학계의 정전렌즈에서의 확대율을 관련짓도록 한 것특징으로 하는검사장치.
[청구항 58]
제 56항에 있어서,상기 제 1차 광학계에서의 크로스오버상을, 상기 스루풋이 크나 해상도가 비교적 낮은 모드에 있어서,상기대물렌즈의주면형성하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 59]
제 56항에 있어서,상기 제 2차 광학계의 확대율은 제 2차 광학계에 배치된 개구 어퍼처보다도 검출기측에 설치된정전렌즈조정되도록한것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 62]
제 61항에 있어서,상기 차지업 조사기능으로부터의 차지업상태에 관한 정보에 의거하여 최적의지연전압을 결정하고 그것을 상기 시료에 인가하는 기능, 또는 1차 하전입자의 조사량을 변화시키는기능더욱구비하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 64]
제 61항 내지 제 63항 중 어느 한 항에 있어서,상기 차지업 조사기능은 시료에 값이 가변인 지연전압을 인가 가능하고, 적어도 2개의 지연전압을 인가한 상태에서 시료의 패턴밀도가 크게 변화하고 있는 경계 부근의 화상형성을 행하고, 상기 화상을 조작자가 패턴왜곡 또는 패턴흐림을 평가 가능하도록 표시하는장치가지는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 68]
제 66항 또는 제 67항에 있어서,트로이달형 또는 새들형의 전자편향기는 전계 및 자계의 양 방향의 자계를 발생시키는 2세트의 전자코일을 가지고, 이들 2세트의 코일에 흘리는 전류비를 조정함으로써 전자편향기에 의한 편향방향이 정전편향기에 의한 편향방향과 반대가 되도록 조정 가능하게구성되는것을특징으로 하는e ×b 분리기.
[청구항 69]
제 68항에 있어서,새들형 또는 트로이달형의 전자편향기의 내부에정전편향기배치되는것을특징으로 하는e ×b 분리기.
[청구항 72]
제 71항에 있어서,상기xy 스테이지의 정압베어링에 공급되는 가스는 질소 또는 불활성 가스이고, 상기 질소 또는 불활성 가스는 상기 스테이지를 수납하는 하우징으로부터 배기된 후 가압되어,다시상기정압베어링공급되는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 78]
제 77항에 있어서,상기 수차를 배율의 색수차nan로서상기크로스오버의위치설정하는것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 79]
제 77항에 있어서,복수의 하전입자는 단일의 빔 발생수단으로부터 방사되어 복수의 개구를 통과하여 형성된 복수의 하전입자, 또는 복수의 빔 발생수단으로부터 방출된 복수의 하전입자 또는 단일의 빔 발생수단에 형성된 복수의 에미터로부터 방출된복수의하전입자인것을특징으로 하는검사장치.
[청구항 80]
제 77항 내지 제 79항 중 어느 한 항에 있어서,상기 크로스오버위치를 대물렌즈의 주면으로부터상기렌즈계측설정한것을특징으로 하는검사장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
검사대상의 위치를 결정하기 위해 사용되는 얼라인먼트제어장치는 검사대상의 무엇을 관찰하여 제어하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
-
1과제 해석
task_interpretation질문에서 요구하는 '얼라인먼트제어장치'가 검사대상의 무엇을 관찰하여 제어하는지 파악해야 한다.
-
2정보 추출
information_extraction청구항 4에서 얼라인먼트제어장치의 기능과 관찰 대상에 관한 내용을 추출한다.
- 상기 전자 광학계에 대한 상기 검사대상의 위치 결정을 위하여 상기 검사대상의 표면을 관찰하여 얼라인먼트를 제어하는얼라인먼트제어장치
-
3근거 선택
evidence_selection얼라인먼트제어장치가 관찰하는 대상이 명시된 구절을 선택한다.
- 상기 검사대상의 표면을 관찰하여
-
4논리 통합
logical_integration얼라인먼트제어장치는 검사대상의 위치 결정을 위해 검사대상의 '표면'을 관찰한다는 인과관계를 도출한다.
- 상기 검사대상의 표면을 관찰하여 얼라인먼트를 제어하는얼라인먼트제어장치
-
5결론 도출
conclusion_formulation관찰 대상은 '검사대상의 표면'임을 확정한다.
- 상기 검사대상의 표면을 관찰하여
-
6답변 생성
answer_generation질문에 대한 직접적인 답변을 추출형 형식으로 작성한다.
- 검사대상의 표면
근거 (evidence)
- 상기 전자 광학계에 대한 상기 검사대상의 위치 결정을 위하여 상기 검사대상의 표면을 관찰하여 얼라인먼트를 제어하는얼라인먼트제어장치
- 상기 검사대상의 표면을 관찰하여
- 상기 검사대상의 표면을 관찰하여 얼라인먼트를 제어하는얼라인먼트제어장치
- 검사대상의 표면
최종 답변 (final_answer)
검사대상의 표면
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명의 얼라인먼트제어장치는 검사대상의 위치를 정밀하게 결정하기 위해 검사대상의 표면을 관찰하여 얼라인먼트를 수행하는 기술적 특징을 가진다.