반도체 장치의 제조를 위한 증착 장치

[청구항1] 증착 공정을 수행하기 위한 챔버 상기 챔버내의 저부에 설치되고, 상부면에 웨이퍼가 놓여지는 서셉터 상기 서셉터와 대향하도록 설치되고, 증착 가스를 챔버 내부로 분사하기 위한 제1 동공을 갖고, 가장자리 부분에는 파워 및 냉각수가 공급되는 각각의 라인이 챔버의 상부로 향하도록 돌출된 알루미늄 샤워헤드 상기 알루미늄 샤워헤드의 라인과 각각 대응하고, 각 라인의 상부면 및 하부면의 지름보다 넓은 지름을 갖는 각각의 포트(port)가 구비되고, 상기 포트에 상기 각 라인을 삽입하여 알루미늄 샤워헤드 상에 놓이도록 결합된 세라믹 샤워헤드를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조를 위한 증착 장치 [청구항2] 제 1항에 있어서,상기 세라믹 샤워헤드에 구비되는 각 포트는 상기 각 라인의 상, 하부면의 지름보다 1.5 내지 3배 더 큰 지름을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조위한증착 장치. [청구항3] 제 1항에 있어서,상기 세라믹 샤워헤드에 구비되는 각 포트의 내측벽에는 상기 콜랙(collect)이 삽입되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조위한증착 장치. [청구항4] 제 1항에 있어서,상기 세라믹 샤워헤드는 1 내지 3㎝의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조위한증착 장치. [청구항5] 제 1항에 있어서,상기 세라믹 샤워헤드는 상기 알루미늄 샤워헤드의 제1 동공과 대응하는 위치에 제2 동공을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조위한증착 장치. [청구항6] 제 1항에 있어서,상기 증착 장치는 디클로로 실란 가스(dcs, sih2cl2)를 반응시켜 실리사이드막을 형성하는 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조위한증착 장치.