C-축 강도가 높은 광폭 전기 전도체

[청구항1] 적층형 전기 전도체로서, 제1 지지 박층부(lamina); 제2 지지 박층부; 상기 제1 지지 박층부와 상기 제2 지지 박층부 사이에 위치하는 고온 초전도체를 포함하는 삽입부; 및 상기 삽입부를 상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 각각에 결합시키는, 상기 삽입부 주위의 충전재 물질 을 포함하고, 상기 삽입부 위치에 상응하는 상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 사이의 위치에서, 상기 삽입부의 각 측면 상의 충전재 물질의 폭 치수는 상기 적층형 전기 전도체 폭의 10 퍼센트 이상이고, 상기 제1 지지 박층부에 수직인 축에 따른 적층형 전기 전도체의 인장 강도는 신뢰성 있게(reliably) 21 mpa 이상이며, 여기서 용어 '신뢰성 있게 21 mpa 이상'은, 상기 제1 지지 박층부에 수직인 축에 따른 인장 시험 데이터를 갖는 전도체로서, 상기 인장 시험 데이터의 99.7 퍼센트가 상기 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차(three standard deviations) 내에 있고 상기 인장 시험 데이터의 평균과 상기 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 간의 차이가 21 mpa 이상인 것인 전도체를 의미하는 것인 적층형 전기 전도체 [청구항2] 제1항에 있어서,상기 충전재 물질은 솔인 것인적층형 전기 전도체. 제1항에 있어서,상기 충전재 물질은 솔인 것인적층형 전기 전도체. [청구항3] 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 전기 전도성 물질형성되는 것인적층형 전기 전도체. 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 전기 전도성 물질형성되는 것인적층형 전기 전도체. [청구항4] 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부는 상기 제2 지지 박층부와 다른 물질형성되는 것인적층형 전기 전도체. 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부는 상기 제2 지지 박층부와 다른 물질형성되는 것인적층형 전기 전도체. [청구항5] 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부와 상기 제2 지지 박층부 사이에 위치하는 고온 초전도체를 포함하는 제2 삽입부를 추가포함하는적층형 전기 전도체. 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부와 상기 제2 지지 박층부 사이에 위치하는 고온 초전도체를 포함하는 제2 삽입부를 추가포함하는적층형 전기 전도체. [청구항6] 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 폭이 12 mm 이상이고, 상기 삽입부는 폭이상인 것인적층형 전기 전도체. 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 폭이 12 mm 이상이고, 상기 삽입부는 폭이상인 것인적층형 전기 전도체. [청구항7] 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 폭이 16 mm 이상이고, 상기 삽입부는 폭이상인 것인적층형 전기 전도체. 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 폭이 16 mm 이상이고, 상기 삽입부는 폭이상인 것인적층형 전기 전도체. [청구항8] 전도체 길이에 상응하는 방향으로 연장하는 a-축, 상기 a-축에 횡단하고 전도체 폭에 상응하는 방향으로 연장하는 b-축, 및 상기 a-축 및 상기 b-축 둘 모두에 횡단하고 전도체 두께에 상응하는 방향으로 연장하는 c-축을 갖는 적층형 전기 전도체로서, 제1항에 있어서,상기 제1 지지 박층부에 수직인 축에 따른 적층형 전기 전도체의 인장 강도는 신뢰성 있게(reliably) 21 mpa 이상이며, 여기서 용어 '신뢰성 있게 21 mpa 이상'은, 상기 제1 지지 박층부에 수직인 축에 따른 인장 시험 데이터를 갖는 전도체로서, 상기 인장 시험 데이터의 99.7 퍼센트가 상기 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차(three standard deviations) 내에 있고 상기 인장 시험 데이터의 평균과 상기 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 간의 차이가 21 mpa 이상인 것인 전도체의미하는 것인적층형 전기 전도체. 상기 적층형 전기 전도체 폭에 상응하는 폭을 갖는 제1 지지 박층부 상기 제1 지지 박층부에 대해서 c-축에 따라 층상 구성으로 배열된 제2 지지 박층부 상기 제1 지지 박층부와 상기 제2 지지 박층부 사이에 위치하는 고온 초전도체를 포함하는 삽입부; 및 상기 삽입부를 상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 각각에 결합시키는, 상기 삽입부 주위의 충전재 물질 을 포함하고, 상기 삽입부 위치에 상응하는 상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 사이의 위치에서, 상기 삽입부의 각 측면 상의 충전재 물질의 폭 치수는 상기 적층형 전기 전도체 폭의 10 퍼센트 이상이고, 상기 적층형 전기 전도체의 c-축 인장 강도는 신뢰성 있게 21 mpa 이상이며, 여기서 용어 '신뢰성 있게 21 mpa 이상'은, c-축 인장 시험 데이터를 갖는 전도체로서, 상기 c-축 인장 시험 데이터의 99.7 퍼센트가 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 내에 있고 상기 c-축 인장 시험 데이터의 평균과 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 간의 차이가 21 mpa 이상인 것인 전도체를 의미하는 것인 적층형 전기 전도체 [청구항9] 제8항에 있어서,상기 충전재 물질은 솔더인 것인적층형 전기 전도체. [청구항10] 제8항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 전기 전도성 물질형성되는 것인적층형 전기 전도체. 제9항에 있어서,상기 충전재 물질은 솔더인 것인적층형 전기 전도체. [청구항11] 제9항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 전기 전도성 물질형성되는 것인적층형 전기 전도체. 제8항에 있어서,상기 제1 지지 박층부는 상기 제2 지지 박층부와 다른 물질형성되는 것인적층형 전기 전도체. [청구항12] 제9항에 있어서,상기 제1 지지 박층부는 상기 제2 지지 박층부와 다른 물질형성되는 것인적층형 전기 전도체. 제8항에 있어서,상기 제1 지지 박층부와 상기 제2 지지 박층부 사이에 위치하는 고온 초전도체를 포함하는 제2 삽입부를 추가포함하는적층형 전기 전도체. [청구항13] 제8항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 폭이 12 mm 이상이고, 상기 삽입부는 폭이상인 것인적층형 전기 전도체. 제9항에 있어서,상기 제1 지지 박층부와 상기 제2 지지 박층부 사이에 위치하는 고온 초전도체를 포함하는 제2 삽입부를 추가포함하는적층형 전기 전도체. [청구항14] 제8항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 폭이 16 mm 이상이고, 상기 삽입부는 폭이상인 것인적층형 전기 전도체. 제9항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 폭이 12 mm 이상이고, 상기 삽입부는 폭이상인 것인적층형 전기 전도체. [청구항15] 제9항에 있어서,상기 제1 지지 박층부 및 상기 제2 지지 박층부 중 1 이상은 폭이 16 mm 이상이고, 상기 삽입부는 폭이상인 것인적층형 전기 전도체. [청구항16] 제9항에 있어서,상기 적층형 전기 전도체의 c-축 인장 강도는 신뢰성 있게 21 mpa 이상이며, 여기서 용어 '신뢰성 있게 21 mpa 이상'은, c-축 인장 시험 데이터를 갖는 전도체로서, 상기 c-축 인장 시험 데이터의 99.7 퍼센트가 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 내에 있고 상기 c-축 인장 시험 데이터의 평균과 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 간의 차이가 21 mpa 이상인 것인 전도체의미하는 것인적층형 전기 전도체. [청구항18] 제17항에 있어서,상기 1 이상의 회전자 권취부는 상기 전도체 b-축이 상기 회전자 어셈블리의 반경과 평행하도록 상기 회전자 어셈블리 내지지되는 것인회전 장치. [청구항19] 제17항에 있어서,상기 횡단축에 따른 각각의 회전자 권취부 치수는 상기 적층형 전기 전도체의 b-축 치수와 실질적동일한 것인회전 장치. [청구항20] 제17항에 있어서,상기 적층형 전기 전도체는 턴(turn)당600암페어이상전송하도록구성되는 것인회전 장치. [청구항21] 제17항에 있어서,상기 적층형 전기 전도체의 c-축 인장 강도는 신뢰성 있게 21 mpa 이상이며, 여기서 용어 '신뢰성 있게 21 mpa 이상'은, c-축 인장 시험 데이터를 갖는 전도체로서, 상기 c-축 인장 시험 데이터의 99.7 퍼센트가 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 내에 있고 상기 c-축 인장 시험 데이터의 평균과 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 간의 차이가 21 mpa 이상인 것인 전도체의미하는 것인회전 장치. [청구항23] 제22항에 있어서,상기 적층형 전기 전도체는 상기 b-축에 실질적으로 평행한 권취축(winding axis) 주위에서 권취되는 것인코일 권취부. [청구항24] 제22항에 있어서,상기 권취축에 따른 각각의 회전자 권취부의 치수는 상기 적층형 전기 전도체의 b-축 치수와 실질적동일한 것인회전 장치. [청구항25] 제22항에 있어서,상기 적층형 전기 전도체는턴당600암페어이상전송하도록구성되는 것인코일 권취부. [청구항26] 제22항에 있어서,상기 적층형 전기 전도체의 c-축 인장 강도는 신뢰성 있게 21 mpa 이상이며, 여기서 용어 '신뢰성 있게 21 mpa 이상'은, c-축 인장 시험 데이터를 갖는 전도체로서, 상기 c-축 인장 시험 데이터의 99.7 퍼센트가 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 내에 있고 상기 c-축 인장 시험 데이터의 평균과 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 간의 차이가 21 mpa 이상인 것인 전도체의미하는 것인코일 권취부. [청구항27] 제22항에 있어서,상기 적층형 전기 전도체의 복수의 턴을 포함하고, 상기 적층형 전기 전도체의 각각의 턴은 에폭시를 사용하여 남은턴연계하여고정되는 것인코일 권취부. [청구항28] 제27항에 있어서,상기 적층형 전기 전도체의 c-축 인장 강도는 신뢰성 있게 상기 에폭시의 인장 강도 이상이며, 여기서 용어 '신뢰성 있게 상기 에폭시의 인장 강도 이상'은, c-축 인장 시험 데이터를 갖는 전도체로서, 상기 c-축 인장 시험 데이터의 99.7 퍼센트가 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 내에 있고 상기 c-축 인장 시험 데이터의 평균과 상기 c-축 인장 시험 데이터 평균의 3 표준편차 간의 차이가 상기 에폭시 인장 강도 이상인 것인 전도체의미하는 것인코일 권취부. [청구항29] 제32항에 있어서,새들(saddle) 코일 권취부 형태형성되는코일 권취부. [청구항30] 제32항에 있어서,상기c-축 방향으로 적층되고 상기 b-축 방향으로 단일 두께를 갖도록 축 주위에 권취되는 단일 전도체형성되는코일 권취부.