에칭 잔류물 세정용 조성물 및 이를 이용한 세정방법

[청구항2] 제 1항에 있어서,불화암모늄을 추가로포함하는것을특징으로 하는세정용 조성물. 제 1항에 있어서,불화암모늄을 추가로포함하는것을특징으로 하는세정용 조성물. [청구항3] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,보론계 혹은 아민계 부식 방지제, 킬레이트제 및 계면활성제로 이루어진 군으로부터 선택된1이상의첨가제를추가포함하는것을특징으로 하는세정용 조성물. [청구항4] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,조성물의 중량을 기준으로, 황산은 0.01 내지 40 중량%, 산화제 0.01 내지 20 중량%, 불화암모늄 0.01내지5중량사용하는것을특징으로 하는세정용 조성물. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,조성물의 중량을 기준으로, 황산은 0.01 내지 40 중량%, 산화제 0.01 내지 20 중량%, 불화암모늄 0.01내지5중량사용하는것을특징으로 하는세정용 조성물. [청구항5] 제 3항에 있어서,상기 부식 방지제는 조성물의 총 중량을 기준으로 0.01 내지 5.00 중량%의 , 상기 킬레이트제는 0.01 내지 5.00 중량% 및 상기 계면활성제는 0.001 내지 0.1중량사용하는것을특징으로 하는세정용 조성물. 제 1항에 있어서,상기 부식 방지제는 조성물의 총 중량을 기준으로 0.01 내지 5.00 중량%, 상기 킬레이트제는 0.01 내지 5.00중량사용하는것을특징으로 하는세정용 조성물. [청구항6] 제 3항에 있어서,상기 보론계 부식 방지제는 붕소산화물(boron oxide), 붕산(boric acid), 보론트리플로라이드(boron trifluoride), 보론트리플루오라이드 디에틸이써레이트(boron trifluoride diethyl etherate), 보론트리플루오라이드-에틸아민 배위체(borontrifluoride ethylamine complex), 보론트리플루오라이드-알코올 배위체, 보레인-암모니아 배위체, 보레인-부틸아민 배위체 및 보레인-디메틸아민 배위체로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 화합물이고, 상기 아민계 부식방지제는 메틸아민(methylamine), 디에틸아민(diethylamine), n-데실아민(n-decylamine), 모르폴린(morpholine), 알릴아민(allylamine), 파이리딘(pyridine), 퀴노린(quinoline), 소듐 벤조에이트(sodium benzoate), 이미다졸린(imidazoline), 이미다졸(imidazole), 벤조트라이아졸(benzotriazole), 아미노테트라졸(aminotetrazole), 벤질메르캅탄(benzylmercaptan), 페닐티오우레아(phenylthiourea), 헥사메틸렌아민-m-니트로벤조에이트(hexamethyleneimene-m-nitrobenzoate), 디시클로헥사민 나이트라이트(dicyclohexamine nitrite), 1-에틸아미노-2-옥타데실이미다졸린(1-ethylamino-2-octadecylimidazoline), 디-sec-부틸설파이드(di-sec-butylsulfide) 및 디페닐설폭사이드 (diphenylsulfoxide)로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 화합물이며, 킬레이트제는, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 및 디에틸렌트리아민의 유기아민계 킬레이트제, 디에틸렌트리아민펜타아세트산의 아민카르복시산 배위체, 및 아미노산으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 화합물이고, 상기 계면활성제는 암모늄 플루오르알킬 술폰 이미드, cnf2n+1ch2ch2so3 -nh4 +, cnf2n+1ch2ch2so3h, (cnf2n+1ch2ch2o)xpo(onh4 +)y(och2ch2oh)z, cnf2n+1ch2ch2o(och2ch2oh)xh, cnf2n+1so2n(c2h5)(ch2ch2)xh, cnf2n+1ch2ch2och2(oh)ch2ch2n(cnf2n+1)2, 및 cnf2n+1ch2ch2och2(och2ch2)nch2ch2n(cnf2n+1)2 [상기 식에서, n은 1 내지 20의 정수이고, x, y 및 z 는 x+y+z = 3을 만족하는 실수이다]로 이루어진 군으로부터 선택된1이상화합물인것을특징으로 하는세정용 조성물. 제 5항에 있어서,암모늄 플루오르알킬 술폰 이미드, cnf2n+1ch2ch2so3-nh4+, cnf2n+1ch2ch2so3h, (cnf2n+1ch2ch2o)xpo(onh4+)y(och2ch2oh)z, cnf2n+1ch2ch2o(och2ch2oh)xh, cnf2n+1so2n(c2h5)(ch2ch2)xh, cnf2n+1ch2ch2och2(oh)ch2ch2n(cnf2n+1)2, 및 cnf2n+1ch2ch2och2(och2ch2)nch2ch2n(cnf2n+1)2 [상기 식에서, n은 1 내지 20의 정수이고, x, y 및 z 는 x+y+z = 3을 만족하는 실수이다]로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 계면활성제를 조성물 총 중량을 기준으로 0.001 내지 0.1 중량%의양더함유하는것을특징으로 하는세정용 조성물. [청구항14] 제 1항에 있어서,상기 산화제는 질산, 과염소산, 하이포염소산, 과산화이황산암모늄, 보론 및 요오드로 이루어진 군으로부터 선택되는하나이상인것을특징으로 하는세정용 조성물.