화학 기상 증착 장치

[청구항2] 제1항에 있어서,셉터 위에 구비되어 상기 기판에 열을 제공하는가열수단더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항에 있어서,셉터 위에 구비되어 상기 기판에 열을 제공하는가열수단더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항3] 제1항에 있어서,상기 챔버는,상기 서셉터를 수용하는 상부로와,상기 반응유로부를 형성하는 하부로포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항에 있어서,상기 챔버는,상기 서셉터를 수용하는 상부로와,상기 반응유로부를 형성하는 하부로포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항4] 제3항에 있어서,상기 상부로는 상기 하부로에 대해 개폐 가능하도록구비되는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제3항에 있어서,상기 상부로는 상기 하부로에 대해 개폐 가능하도록구비되는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항5] 제3항 또는 제4항에 있어서,상기 상부로는,상판부와,내부에 소정 크기의 공간을 형성하는 몸통부와,상기 상부로의 하단을 형성하며, 상기 상부로의 개폐에 따라 상기 하부로와 선택적으로 접촉하는플랜지부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제3항 또는 제4항에 있어서,상기 상부로는,상판부와,내부에 소정 크기의 공간을 형성하는 몸통부와,상기 상부로의 하단을 형성하며, 상기 상부로의 개폐에 따라 상기 하부로와 선택적으로 접촉하는플랜지부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항6] 제4항에 있어서,상기 상부로에 고정되어 상기 서셉터를 구동시키며, 상기 상부로의 개폐에 따라 상기 서셉터와 선택적으로 결합하는구동장치더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항7] 제6항에 있어서,상기 구동장치는, 상기 상부로의 상단에 고정되는 구동모터와, 상기 구동모터에 의해 회전하는 회전축을 포함하며,상기 서셉터는 그 상단에 상기 회전축과 선택적으로 결합하는결합부더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항에 있어서,상기 구동장치는, 상기 상부로의 상단에 고정되는 구동모터와, 상기 구동모터에 의해 회전하는 회전축을 포함하며,상기 서셉터는 그 상단에 상기 회전축과 선택적으로 결합하는결합부더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항8] 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 챔버 내에 구비되어 상기 서셉터를 지지하는지지부재더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 챔버의 내주면에 돌출되어 구비되며, 상기 서셉터가 상기 반응유로부 위에 배치될 수 있도록 상기 서셉터의 하단부 가장자리와 접하여 상기 서셉터를 지지하는지지부재더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항9] 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,셉터의 하단 일측에 구비되어 상기 기판이 수용되어 지지되도록 하는적어도하나의고정클립더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,셉터의 하단 일측에 구비되어 상기 기판이 수용되어 지지되도록 하는적어도하나의고정클립더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항10] 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가스도입부는,상기 챔버의 측단부 둘레에 구비되어 외부로부터 도입되는 소정의 가스를 저장하는 적어도 하나의 리저버와, 상기 리저버와 상기 반응유로부를 연통하며, 상기 리저버에 저장된 가스를 상기 반응유로부로 분사되도록 하는분사노즐포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항11] 제1항에 있어서,상기 복수의 가스 도입부는,외부로부터 도입되는 제1가스를 저장하는 제1리저버와, 상기 제1리저버와 상기 반응유로부의 일측을 연통하여 상기 제1가스가 분사되도록 하는 제1분사노즐을 포함하는 제1가스도입부; 및상기 제1가스도입부의 아래에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제2가스를 저장하는 제2리저버와, 상기 제2리저버와 상기 반응유로부의 타측을 연통하여 상기 제2가스가 분사되도록 하는 제2분사노즐을 포함하는제2가스도입부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제10항에 있어서,상기 가스도입부는,외부로부터 도입되는 제1가스를 저장하는 제1리저버와, 상기 제1리저버와 상기 반응유로부의 일측을 연통하여 상기 제1가스가 분사되도록 하는 제1분사노즐을 포함하는 제1가스도입부; 및상기 제1가스도입부의 아래에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제2가스를 저장하는 제2리저버와, 상기 제2리저버와 상기 반응유로부의 타측을 연통하여 상기 제2가스가 분사되도록 하는 제2분사노즐을 포함하는제2가스도입부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항12] 제10항에 있어서,상기 가스도입부는,외부로부터 도입되는 제1가스를 저장하는 제1리저버와, 상기 제1리저버와 상기 반응유로부의 일측을 연통하여 상기 제1가스가 분사되도록 하는 제1분사노즐을 포함하는 제1가스도입부;상기 제1가스도입부의 아래에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제2가스를 저장하는 제2리저버와, 상기 제2리저버와 상기 반응유로부의 다른 일측을 연통하여 상기 제2가스가 분사되도록 하는 제2분사노즐을 포함하는 제2가스도입부; 및상기 제2가스도입부의 아래에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제3가스를 저장하는 제3리저버와, 상기 제3리저버와 상기 반응유로부의 타측을 연통하여 상기 제3가스가 분사되도록 하는 제3분사노즐을 포함하는제3가스도입부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항에 있어서,상기 복수의 가스 도입부는,외부로부터 도입되는 제1가스를 저장하는 제1리저버와, 상기 제1리저버와 상기 반응유로부의 일측을 연통하여 상기 제1가스가 분사되도록 하는 제1분사노즐을 포함하는 제1가스도입부;상기 제1가스도입부의 아래에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제2가스를 저장하는 제2리저버와, 상기 제2리저버와 상기 반응유로부의 다른 일측을 연통하여 상기 제2가스가 분사되도록 하는 제2분사노즐을 포함하는 제2가스도입부; 및상기 제2가스도입부의 아래에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제3가스를 저장하는 제3리저버와, 상기 제3리저버와 상기 반응유로부의 타측을 연통하여 상기 제3가스가 분사되도록 하는 제3분사노즐을 포함하는제3가스도입부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항13] 제10항에 있어서,상기 가스도입부는,외부로부터 도입되는 제1가스를 저장하는 제1리저버와, 상기 제1리저버와 상기 반응유로부의 일측을 연통하여 상기 제1가스가 분사되도록 하는 제1분사노즐을 포함하는 제1가스도입부; 및상기 제1리저버 보다 안쪽에 배치되고 상기 제1분사노즐의 아래에 배치되어 외부로부터 도입되는 제2가스를 저장하는 제2리저버와, 상기 제2리저버와 상기 반응유로부의 타측을 연통하여 상기 제2가스가 분사되도록 하는 제2분사노즐을 포함하는제2가스도입부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항에 있어서,상기 복수의 가스 도입부는,외부로부터 도입되는 제1가스를 저장하는 제1리저버와, 상기 제1리저버와 상기 반응유로부의 일측을 연통하여 상기 제1가스가 분사되도록 하는 제1분사노즐을 포함하는 제1가스도입부; 및상기 제1리저버 보다 안쪽에 배치되고 상기 제1분사노즐의 아래에 배치되어 외부로부터 도입되는 제2가스를 저장하는 제2리저버와, 상기 제2리저버와 상기 반응유로부의 타측을 연통하여 상기 제2가스가 분사되도록 하는 제2분사노즐을 포함하는제2가스도입부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항14] 제10항에 있어서,상기 가스도입부는,외부로부터 도입되는 제1가스를 저장하는 제1리저버와, 상기 제1리저버와 상기 반응유로부의 일측을 연통하여 상기 제1가스가 분사되도록 하는 제1분사노즐을 포함하는 제1가스도입부;상기 제1가스도입부의 아래에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제2가스를 저장하는 제2리저버와, 상기 제2리저버와 상기 반응유로부의 다른 일측을 연통하여 상기 제2가스가 분사되도록 하는 제2분사노즐을 포함하는 제2가스도입부; 및상기 제1분사노즐의 아래 및 상기 제2리저버 보다 안쪽에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제3가스를 저장하는 제3리저버와, 상기 제3리저버와 상기 반응유로부의 타측을 연통하여 상기 제3가스가 분사되도록 하는 제3분사노즐을 포함하는제3가스도입부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항에 있어서,상기 복수의 가스 도입부는,외부로부터 도입되는 제1가스를 저장하는 제1리저버와, 상기 제1리저버와 상기 반응유로부의 일측을 연통하여 상기 제1가스가 분사되도록 하는 제1분사노즐을 포함하는 제1가스도입부;상기 제1가스도입부의 아래에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제2가스를 저장하는 제2리저버와, 상기 제2리저버와 상기 반응유로부의 다른 일측을 연통하여 상기 제2가스가 분사되도록 하는 제2분사노즐을 포함하는 제2가스도입부; 및상기 제1분사노즐의 아래 및 상기 제2리저버 보다 안쪽에 배치되며, 외부로부터 도입되는 제3가스를 저장하는 제3리저버와, 상기 제3리저버와 상기 반응유로부의 타측을 연통하여 상기 제3가스가 분사되도록 하는 제3분사노즐을 포함하는제3가스도입부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항15] 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 반응유로부는,상기 가스도입부로부터 상기 가스배출부로 하향 경사지도록 마련되는하향경사부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 반응유로부는,상기 가스도입부로부터 상기 가스배출부로 하향 경사지도록 마련되는하향경사부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항16] 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 반응유로부는,상기 가스도입부로부터 상기 가스배출부로 상향 경사지도록 마련되는상향경사부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 반응유로부는,상기 가스도입부로부터 상기 가스배출부로 상향 경사지도록 마련되는상향경사부포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항17] 제8항에 있어서,상기 지지부재는 환형의 고리형상으로 상기 챔버의 내주면을 따라 연속하여 구비되거나, 일정한 간격을 두고비연속적구비되는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치.