최종산출물 · 특허 지식베이스

광역 이미지 지지 표면 주사용 박막 광 기전성 소자들의 배열

uuid
76d5fe4b-4ca8-51b8-a8e6-42f82699b605
출원번호
1019870007640
출원연도
1987
IPC
H04N 1/04
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 배열이 미리 선택된 비평면 형태속으로 영구적구부러지는디바이스. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 배열을 평형 상태로부터 원하는 비평면상태로 구부리기 위한 바이어스 수단더욱 포함하는디바이스. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 배열이 불규칙한 비대칭 형상을 포함하는 미리 선택된 형태속에서 구부러지는디바이스. [청구항 5] 제3항에 있어서,바이어스 수단이 상기 표면에 대하여 상기 배열주사되도록 되는디바이스. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 배열이 유사방사가 이산 광감성 소자들상에 충돌하는 것을 막기위하여 비연마성, 변형 마스크(mask)을 형성하는 표면-접촉 재료로된 본체포함하는디바이스. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 마스크 수단이 상기 표면 부분들로부터 나오는 광에너지 통과할 수 있는 최소한 제1 및 제2 세트들의 개구부들(406)을 포함하며, 상기 제1 및 제2 개구부들이 표면부분들과 해당하는 감광성 소자들 사이에서 확장한 광학축을 따라 미리 선택된 거리이격되어 있는장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 마스크수단이 고체를 통과하여 확장한 다수의 홀(hole)들을 갖는 고체로서 형성되며, 각각의 상기 감광성 소자들이 상기 홀들의 하나와 각각 관련되어 있으며, 상기 제1 및 제2 세트들의 개구부들이 상기 홀들의 마주보는 끝부분들에 의해정해지는장치. [청구항 11] 제10항에 있어서,상기 홀들의 내부측벽들이 실질적으로 내부측벽에 충돌하는 광에너지흡수하는장치. [청구항 12] 제10항에 있어서,상기 고체가 상기 연장된 배열과 접촉하기 위해서 설치된 불투명한 재료의 두꺼운 스트립(strip)으로 정해지며, 일정한 상기 홀들이 상기 배열의 해당하는 감광성 소자들정렬되는장치. [청구항 13] 제9항에 있어서,상기제 1 및 제 2 세트들내에 있는 각각의 개구부들이 실질적으로 원형형태인장치. [청구항 14] 제9항에 있어서,상기 마스크 수단이 한쌍의 이격된 불투명한 박판들형성되는장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 불투명한 박판들이 광흡수하는장치. [청구항 16] 제8항에 있어서,연장된 배열을 통하여 형성된 이격된 흘들이 연장된 배열을 갖는 미리결정된 두께의 실질적으로 평면인, 불투명한 부재를 상기 마스크수단이 포함하며, 감광성 소자들의 상기 배열이 상기 평면 부재상설치된장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 마스크수단이 상기 평면부재상에 설치된 마모판더욱 포함하는장치. [청구항 18] 제17항에 있어서,상기 마스크수단이 상기 평면부재상에 설치된 마모판더욱 포함하는장치. [청구항 19] 제9항에 있어서,상기 마스크수단에 인접하여 고정배치된 연장된 광수단더욱 포함하는장치. [청구항 20] 제19항에 있어서,각각의 표면부분들을 조사하기 위하여 상기 제 1 및 제 2 세트들의 개구부들에 해당하는 이산발광다이오드들의 제1 선형 배열을 연장된 광수단이 최소한 하나의포함하는장치. [청구항 21] 제20항에 있어서,각각의 표면부분들을 조사하기 위하여한세크의 개구부들에 해당하는 이산 광원들의 제2선형 배열을 제2광수단이 표함하여, 상기 제1 및 제2선형 배열의 광수단이 실질적으로 마주보는 각도로부터 각각의 표면부분들로 광에너지배열된장치. [청구항 22] 제8항에 있어서,상기 마스크수단을 이루는 다수의 개구부들(52), 상기 표면부분들(42)을 조사하기 위하여 상기 암상에 있는 광원(34), 및 상기 광원으로부터 상기 개구부들 바로 아래에 실질적으로 배치된 각각의 표면 부분들로 방사하는 광을 증강하기 위하여 상기 암상에 놓인 수단(35)을 포함하는 연장된 불투명한 암더욱 포함하는장치. [청구항 23] 제22항에 있어서,상기 연장된 배열이 상기 감광성 소자들의 개별적인 소자들과 일치하는 상기 개구부들과 가깝게 중첩하는 관계설치된장치. [청구항 24] 제22항에 있어서,상기 암이 상기 광원으로부터 광에너지가 통과할 수 있는 연장된 구멍을 갖는 실질적으로 폐쇄된 챔버(32)을 포함하며, 상기 증강수단은 상기 연장된 구멍내에 배치된 최소한 제 1 의 연장된 광학렌즈포함하는장치. [청구항 25] 제24항에 있어서,상기 연장된 구멍이 광원에 가깝게 배치된 곳에서는 큰 끝부분으로 되어 있으며 상기 표면부분들에 가깝게 배치된 곳에서는 적은 끝부분으로 되어 있는 가늘어지는 단면갖는장치. [청구항 26] 제24항에 있어서,상기 개구부들 각각의 중앙 광학측이 상기 평면에 필연적으로 직각인 평면내로 확장되며, 상기 광학 렌즈들의 광학축 평면이 상기 평면 표면의 평면경사진장치. [청구항 27] 제22항에 있어서,상기 감광성 소자들과 상기 평면 표면 사이에서 실질적으로 일정한 공간을 유지하기 위하여 상기 평면 표면을 따라서 회전가능한 수단을 상기 암 상포함하는장치. [청구항 28] 제26항에 있어서,상기 연장된 배열이 상기 마스크수단에 의해 보호되며, 상기 개구부가 상기 평면 표면과 접촉하여 상기 마스크수단을 바이어스시키는 수단더욱 포함하는장치. [청구항 29] 제27항에 있어서,마모 방지 부재가 상기 마스크 수단을 보호하며, 상기 평면 표면과 미끄럽게 결합하기 위해서 상기 마스크 수단과 상기 평면 표면 사이삽입된장치. [청구항 31] 제30항에 있어서,상기 표면이 장방향이며 상기 암이장방향가로질러이동하도록 된장치. [청구항 32] 제30항에 있어서,상기 표면이 원형(101)이며, 상기 암이 원형을 회전된장치. [청구항 33] 제30항에 있어서,상기 반도체 재료가 실리콘으로 된 비정질합금인장치. [청구항 34] 제30항에 있어서,상기 감광성 소자들이 광기전성모드로 동작하며, 상기 전기적 신호들의 각각이 미리 결정된 주기의 시간동안에 해당하는 표면 부분으로 부터 나오는 광에너지의 총량해당하는장치. [청구항 35] 제30항에 있어서,상기 배열이 상이한 전도율 형태를 갖는 반도체 재료의 다수 층들에 의한 공통 기판상에 형성된 감광성 소자들의 최소한 하나의 선형 그룹(56)을 포함하여, 상기 층들의 최소한 몇몇이 상기 기판의 틈새 부분들위로 연속적으로 확장하고, 다수의 이산되고 이격된 선형 배열 전극들이 반도체 재료의 상기층들 상부에 있는 전도성 재료에 의해정해지는장치. [청구항 36] 제35항에 있어서,산 패드가 각각의 상기 감광성 소자들(64)상부에 배치된 다수의 전기적 전도성 패드들(68), 및 각각의 전극들과 상기 패드들의 하나를 각각 연결시키는 다수의 전기적 전도성 트레이스들(66)을 포함하여, 상기 패드들이 반도체재료의 상기 층들위에 놓이는전기적전도성재료에의해형성되는장치. [청구항 37] 제35항에 있어서,광다이오드를 형성하는 반도체 재료의 상기 다수층들이 전류-전압 곡선의 4상한내에서 순 바이어스 모드동작되는장치. [청구항 38] 제36항에 있어서,상기 배열이 이 산기판상에서 형성되는 각각의 그룹으로 된 다수의 상기 그룹들을 포함하며, 상기 기판들이 끝에서 끝으로 된 관계배열된장치. [청구항 39] 제30항에 있어서,상기 표면 부분들로부터 나오는 광에너지를 각각의 관련된 감광성 소자들로 보내기 위한 수단을 상기 암상더욱 포함하는장치. [청구항 40] 제31항에 있어서,상기 감광성 소자들을 주위 방사로 부터 차폐하기 위한 수단더욱 포함하는장치. [청구항 41] 제30항에 있어서,상기 감광성 소자들의 개별적인 하나와 관련된 연장된 그룹의 개구부들(52)을 갖는 불투명한 재료로 된 마스크를 포함하며, 상기 그룹의 개구부들은 인접한 개구부들과 정렬되어 미리 선택된 거리로 이격되어 있어서 관련된 감광성 소자에 입사하는 광에너지를 상기 표면의 해당하는 부분으로부터 나오는 광에너지로 실질적제한하는장치. [청구항 42] 제38항에 있어서,상기 표면 부분들로부터 나오는 광에너지를 해당하는 감광성 소자들로 집중시키기 위하여 상기 감광성 소자들과 각각 관련되어 상기 암상에 설치된 다수의 렌즈들(45)로된 연장된 배열 수단포함하는장치. [청구항 43] 제30항에 있어서,상기 감광성 소자들을 위해 발생된 전기 신호들을 멀티플랙싱하는 수단(86), 및 상기 멀티플렉싱 수단을 지지하기 위해 상기 암상에 설치된 회로기판 수단(36)을 더욱 포함하여, 상기 감광성 소자들이 상기 회로 기판수단 상설치되는장치. [청구항 44] 제30항에 있어서,각각의 소자가 소자의 응답에 맞추기 위하여 상이한 파장들의 광을 여과시키기 위한 수단포함하는장치. [청구항 45] 제44항에 있어서,상기 소자들과 대응하여 감지하기 위하여 각각의 이산 소자와 관련된 하나의 청색 녹색 및 적색 여과 수단을 상기 여과 수단포함하는장치. [청구항 46] 제45항에 있어서,인간눈의 광감지도에 가깝도록 상대적인 수의 청색, 녹색, 및 적색 감지 소자들선택되는장치. [청구항 47] 제46항에 있어서,상대적nan인 수의 녹색 감지 소자들이 적색 또는 청색 감지 소자들보다 많은 장치. [청구항 48] 제47항에 있어서,감지 소자들이연장된배열의 길이를 통하여 주기적으로 사이에 끼워진 장치. [청구항 49] 제30항에 있어서,상기 연장된 배열이 m×n 행렬을 정하도록 정렬된 최소한 3열의 감광성 소자들포함하는장치. [청구항 50] 제44항에 있어서,각각의 소자에 의해 발생된 신호를 수신하는 수단(101), 및 상기 소자 발생 신호를 상이한 파장들의 광에 해당하는 기억된 기준 신호(88)와 비교하는 수단포함하는장치. [청구항 51] 제44항에 있어서,이미지를 지지하도록 된 표면, 및 상기 이미지-지지표면상에서 이미지를 형성할 수 있는 다수의 상이한 색 표시기더욱 포함하는장치. [청구항 52] 제51항에 있어서,상기 프린터 수단이 각각의 상이한 색 표시기들의 색을 각각 정확하게실질적복사할수있는장치. [청구항 53] 제52항에 있어서,상기 여과수단이 상기 감광성 소자들의 응답을 상기 상이한 색 표시기들의 각각의 색들된장치. [청구항 54] 제44항에 있어서,광입사 전극이 투명한 전도성 산화물로 형성되며, 상기 산화물은 상기 소자들의 응답을 입사광에 맞추기 위하여 여과 수단형성하는장치. [청구항 56] 제55항에 있어서,감광성 소자들의 상기 배열이 공통 기판상에 완전하게 형성된 최소한 한 그룹의 감광성 소자들을 포함하며, 상기 배열의 각각의 감광성 소자들의 하나의 박막층의 반도체 재료포함하는시스템. [청구항 57] 제56항에 있어서,각각의 감광성 소자들이 이산 전극을 형성하는 형태로 된 박막층의 전도성 재료포함하는시스템. [청구항 58] 제57항에 있어서,감광성 소자들의 상기 그룹이 최소한 하나의 반도체 재료의 공통 층과 최소한 하나의 전도성 재료의 공통층형성되는시스템. [청구항 59] 제55항에 있어서,상기 연장된 배열이 주사방향을 정하기 위해 상기 표면에 관해 배열되며, 광검출기 수단과 상기 표면이 상기 주사 방향에 실질적으로 직각인 주사방향 아래서로 이동하는시스템. [청구항 60] 제55항에 있어서,상기 감광성 소자들 모두가 광강도를 감지하며, 상기 제2 비교 수단이 각각의 감광성 소자에 의해 발생된 감지된 신호를 상기 감광성 소자에 의해 이미 수신된 가장 큰 광강도를 나타내는 미리 결정된 부분비교하는시스템. [청구항 61] 제55항에 있어서,상기 표면을 주사하기 전에 상기 기억 수단을 리세트하는 수단포함하는시스템. [청구항 62] 제55항에 있어서,상기 기억 수단이 공통적으로 어드레스된 각 그룹의 감광성 소자들에 의해 감지된 광강도를 나타내는 단 하나의 값기억하는시스템. [청구항 63] 제55항에 있어서,감광성 소자들의 각각이 미리 결정된 주기의 시간동안 상기 표면의 각 소자의 해당하는 적은 면적 부분으로 부터 수신된 광강도집적시키도록된시스템. [청구항 64] 제63항에 있어서,각각의 감광성 소자가 조명에 응답하여 전류 또는 전압을 발생시키는 광다이오드동작하는시스템. [청구항 65] 제64항에 있어서,상기 감광성 소자들의 각각에 관한 전류-전압 곡선의 4상한이 니(knee)부분, 니부분 앞에 있는 완만한 경사부분, 및 니부분 다음에 있는 급경사 부분을 포함하여, 상기 소자들의 각각이 전적으로 완만하는 경사부분동작하는시스템. [청구항 66] 제65항에 있어서,상기 감광성 소자들의 각각의 역바이어스 모드로 동작가능하여서, 이전에 부과된 전하가광발생전류에의해방전되는시스템. [청구항 67] 제55항에 있어서,최소한 상기 감지된 신호가 상기 해당하는 기억된 값보다 큰 광강도값을 나타낼때 각각의 감지된 신호를 나타내는 디지탈 신호를 발생하는 a/d변환 수단(152)을 상기 제 1 비교 수단이 포함하며, 상기 기억 수단(92)이 상기 a/d변환수단에 연결된 디지탈 메모리포함하는시스템. [청구항 68] 제67항에 있어서,상기 제1비교 수단에 의한 상기 기억된 값들의 수신전에 상기 디지탈 메모리에 기억된 값들을 애널로그 신호들(107)로 변환하는 d/a변환수단더욱 포함하는시스템. [청구항 69] 제55항에 있어서,상기 감지된 값들을 샘플하여 일시적으로 유지시키는 회로 수단을 더욱 포함하여, 상기 샘플 및 유지회로 수단이 전기적으로 연결된 상기 광검출기 수단과 상기 제1 및 제2 비교 수단 사이삽입되는시스템. [청구항 70] 제55항에 있어서,미리 결정된 순서로 감광성 소자들로부터 감지된 신호들을 멀티플렉싱하는 수단더욱 포함하는시스템. [청구항 71] 제70항에 있어서,상기 멀티플렉싱 수단이 최소한 시스템 하나의 에널로그버스(107)와 최소한 하나의 다도선 디지탈 어드레스 버스포함하는시스템. [청구항 72] 제70항에 있어서,상기 감지된 신호들을 증폭하는 수단(100)을 포함하여, 상기 증폭수단이 전기적으로 연결된 상기 멀리플렉싱수단과 상기 제1비교 수단 사이삽입되는시스템. [청구항 73] 제55항에 있어서,상기 제1비교 수단이 애널로그 비교기포함하는시스템. [청구항 74] 제55항에 있어서,상기 제2비교 수단이 애널로그 비교기포함하는시스템. [청구항 75] 제67항에 있어서,미리 결정된 부분의 값9 범위에 있는시스템. [청구항 76] 제55항에 있어서,각각의 감광성 소자를 판독하기 위해 할당된 주기시간중에 상기 기억수단, 상기 제1 비교 수단 및 제2 비교 수단의 동작 순서를 제어하는 수단(84)을 더욱 포함하여, 상기 순서 제어 수단이 상기 주기 시간중, (1) 상기 기억 수단이 상기 해당하는 기억된 값을 얻으며, (2) 상기 제1 및 제 2 비교수단이 각각의 비교기능을 수행하며, 또한 (3) 필요한 경우 상기 기억수단이 비교되는 값보다 더 큰 강도를 갖는 상기 제1 비교 수단 표시에 의한 감지된 값을 기억시키도록 연속적동작하는시스템. [청구항 78] 제77항에 있어서,상기 감광성 소자들이 상기 하나의 박막층의 반도체 재료를 포함하는 광다이오드를 형성하여, 상기 광다이오드를 각각이 광발생 전류로 부터 나온 전하수신하도록된시스템. [청구항 79] 제78항에 있어서,상기 광다이오드를 각각이 비정질 실리콘 합금다이오드인시스템. [청구항 80] 제79항에 있어서,상기 감광성 소자들의 각각이 상기 제1광다이오드와 물리적 및 전기적으로 직렬로 배열된 제2 비정질 실리콘 함급 p-i-n광다이오드포함하는시스템. [청구항 81] 제77항에 있어서,상기 증폭 수단이 고 임피던스 입력전압 증폭기와 상기 증폭기에 전압 압력을 제공하는 상기 애널로그 버스에 연결된 저항포함하는시스템. [청구항 82] 제79항에 있어서,상기 시분할 멀티플렉싱 수단이 상기 감광성 소자의 방전율을 반사시키는 전압 입력을 위하여 충분한 주기의 시간동안 상기 최소한 한 소자와 상기 애널로그 버스 사이에서 저 임피던스 접속유지하는시스템. [청구항 83] 제77항에 있어서,상기 증폭 수단이 상기 애널로그 버스(83)에 연결된 비교적 저 임피던스 입력을 갖는 전류 증폭기를 포함하여, 상기 감광성 소자들이 상기 증폭기 입력을 통하여 실질적방전되는시스템. [청구항 84] 제77항에 있어서,상기 그룹의 감광성 소자들이 다수의 부 그룹(subgroup)들로 나누어지며, 상기 멀티 플렉싱 수단은 상기 부그룹들에 해당하는 다수의 개별적인 어드레스 가능한 멀티플렉서 회로들을 포함하여, 각각의 이러한 멀티플렉서 회로가 감광성 소자들의 상기 부그룹들의 하나연결된시스템. [청구항 85] 제84항에 있어서,상기 멀티플렉서 회로들이 디지탈로 어드레스제어되는시스템. [청구항 86] 제84항에 있어서,각각의 감광성 소자들의 전기적 신호가 상기 증폭기 수단에 도달하기 전에 단하나의 멀티플렉서 회로 만을통과하는시스템. [청구항 87] 제84항에 있어서,각각의 부그룹이 최소한 8개의 감광성 소자들을 포함하여 감광성 소자들의 상기 그룹이 최소한 128개의 소자들포함하는시스템. [청구항 88] 제78항에 있어서,각각의 상기 광다이오드가 판독되기 위해 특정하게 어드레스되어서 상기 증폭기 수단과 통신하는 주기 시간을 제외하고는 상기 멀리플렉싱 수단이 상기 광다이오드들의 유사방전을 방지하는 수단포함하는시스템. [청구항 89] 제77항에 있어서,상기 연장된 배열이 감광성 소자들의 다수 그룹들(36)을 포함하며, 각 그룹은 이산 연장된 기판 스트립상에 형성되여, 상기 스트립들이 끝에서 끝 관계배열된시스템. [청구항 90] 제89항에 있어서,상기 스트립들이 소자들의 연속적인 라인(55)을 형성하기 위해 물리적배열된시스템. [청구항 91] 제77항에 있어서,인쇄 회로 기판(36)을 더욱 포함하여, 최소한 한 그룹의 소자들이 상기 회로기판에 부착되며, 상기 애널로그버스와 상기 어드레스버스는 상기 인쇄 회로기판상의 최소한 일부분을 형성하여, 상기 멀티플렉싱 수단이 상기 인쇄회로 기판상의 최소한 일부분설치되는시스템. [청구항 92] 제77항에 있어서,상기 연장된 배열이 연장된 기판상형성되는시스템. [청구항 93] 제77항에 있어서,상기 감광성 소자들각각이 전기 접속을 만드는 접속 패드 부분(68)을 포함하며, 상기 인쇄 회로기판은 상기 멀티플랙싱 수단에 이산 전기적 접속을 만드는 해당하는 다수의 접촉 패드들(66)을 포함하여, 상기 시스템이 서로 병렬로 배열되어 절연된 다수의 도선들을 갖는 가요성 접속기 수단을 더욱 포함하여, 상기 접속기 수단이 상기 그룹이 상기 소자들의 접촉 패드 부분들을 상기 인쇄 회로 기판의 해당하는 접촉 패드들과 상호접속시키도록된시스템. [청구항 94] 제93항에 있어서,상기 그룹의 상기 감광성 소자들각각이 광에너지를 수진하는, 접촉 패드 부분으로 부터 이격된 광검출기 부분(66) 및 상기 광검출기 부분과 상기 접촉 패드 부분을 상호 접속시키는 트레이스부분을 포함하며, 상기 가요성 접속기 수단은 실질적으로 불투명하여, 상기 소자들의 상기 트레이스 부분들과 접촉 패드 부분들을 실질적덮는시스템. [청구항 95] 제77항에 있어서,상기 공통기판이 얄ㅁ은 가요성재료인시스템. [청구항 96] 제77항에 있어서,상기 기판의 스테인레스 강으로형성된시스템. [청구항 97] 제77항에 있어서,상기 기판이 상기 그룹의 감광성 소자들을 위한공통하부 전극정하는전도성인시스템. [청구항 98] 제97항에 있어서,다수의 인쇄 회로 가판들(56)과 내부 보드 애널로그버스를 더욱 포함하여, 상기 연장된 배열이 최소한 한 그룹이 상기 인쇄 회로 기판들 각각에 설치된 다수의 상기 그룹을 포함하여, 상기 인쇄 회로 기판들은 상기 기판상에 위치한 소자들의 그룹들이 소자들로된 하나의 긴 연속적인 배열을 형성하도록 끝에서 끝 관계로 배열되고, 상기 내부 보드 버스는 상기 증폭 수단의 출력들을 병렬로 상호접속시키도록된시스템. [청구항 99] 제98항에 있어서,각각의 증폭수단이 상기 내부 보드버스에 고 임피던스 출력을 선택적으로 제공하기 위한 절연 수단포함하는시스템. [청구항 101] 제100항에 있어서,각각의 개별적인 형태의 영역이 조명을 수지하는 광검출기 부분과 개별적인 전기 접속이 만들어질 수 있는 접촉 패드를 포함하여, 이산 전기 신호가 각각의 감광선 소자에 의해전달될수있는장치. [청구항 102] 제101항에 있어서,상기 광검출기 및 접촉 패드 부분들이 이격되어 있으며, 각 형태의 영역은 광검출기 부분과 패드 부분을 전기적으로 상호 접속시키는 트레이스 부분포함하여,상기 트레이스 부분이 상기 접촉 패드 부분보다 현저하게 좁은 장치. [청구항 103] 제102항에 있어서,형태의 영역의 접촉 패드 부분과 트레이스 부분의 결합이 각 형태의 영역의 광검출기 부분에 기인하는 본래의 용량과 병렬로 미리 결정된 부가된 크기의 용량을 제공하기위해서선택되는장치. [청구항 104] 제103항에 있어서,상기 연장된 배열이 광이 트레이스 및 접촉 패드 부분들로 부터 조사되는 것을 막기 위하여 상기 개별적인 형태의 영역들의 트레이스 및 접촉 패드 부분들을 덮는 불투명한 수단포함하는장치. [청구항 105] 제100항에 있어서,상기 연장된 배열이 감광성 소자들의 상기 연장된 배열들을 다수포함하는장치. [청구항 106] 제105항에 있어서,감광성 소자들의 각각의 연장된 그룹이 구조 및 개별적인 형태의 영역들의 패턴이 실질적으로 유사하며, 상기 그룹들이 감광성 소자들의 상기 연장된 배열을 형성하기 위해서 선형배열되는장치. [청구항 107] 제100항에 있어서,상기 연장된 그룹들의 각각이 길이가 최소 약 2인치이며, 최소한 50개의 정렬된 감광성 소자들포함하는장치. [청구항 108] 제100항에 있어서,상기 감광성 소자들이 광기전성 모드로 작동가능한장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 9항 및 10항의 내용을 바탕으로, 마스크 수단이 갖는 개구부(406)의 구성과 이들이 감광성 소자들과 형성하는 광학적 관계는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    청구항 9항과 10항을 분석하여 마스크 수단의 개구부(406) 구성과 감광성 소자와의 광학적 관계를 도출해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 9항에서 개구부(406)는 제1 및 제2 세트들로 구성되며, 표면 부분과 감광성 소자 사이의 확장된 광학축을 따라 이격되어 있음을 확인한다. 청구항 10항에서는 마스크가 고체이며, 홀(hole)들이 있고, 각 감광성 소자가 홀 하나와 관련되며, 개구부가 홀의 마주보는 끝부분들에 의해 결정됨을 확인한다.

    • 상기 마스크 수단이 상기 표면 부분들로부터 나오는 광에너지 통과할 수 있는 최소한 제1 및 제2 세트들의 개구부들(406)을 포함하며, 상기 제1 및 제2 개구부들이 표면부분들과 해당하는 감광성 소자들 사이에서 확장한 광학축을 따라 미리 선택된 거리이격되어 있는장치
    • 상기 마스크수단이 고체를 통과하여 확장한 다수의 홀(hole)들을 갖는 고체로서 형성되며, 각각의 상기 감광성 소자들이 상기 홀들의 하나와 각각 관련되어 있으며, 상기 제1 및 제2 세트들의 개구부들이 상기 홀들의 마주보는 끝부분들에 의해정해지는장치
  3. 3근거 선택evidence_selection

    개구부의 구성(제1/제2 세트, 홀의 마주보는 끝부분)과 광학적 관계(확장된 광학축을 따른 이격, 소자와 홀의 대응 관계)에 관한 구절을 선택한다.

    • 상기 마스크 수단이 상기 표면 부분들로부터 나오는 광에너지 통과할 수 있는 최소한 제1 및 제2 세트들의 개구부들(406)을 포함하며, 상기 제1 및 제2 개구부들이 표면부분들과 해당하는 감광성 소자들 사이에서 확장한 광학축을 따라 미리 선택된 거리이격되어 있는장치
    • 상기 마스크수단이 고체를 통과하여 확장한 다수의 홀(hole)들을 갖는 고체로서 형성되며, 각각의 상기 감광성 소자들이 상기 홀들의 하나와 각각 관련되어 있으며, 상기 제1 및 제2 세트들의 개구부들이 상기 홀들의 마주보는 끝부분들에 의해정해지는장치
  4. 4논리 통합logical_integration

    마스크는 고체 형태이며, 이 고체에는 다수의 홀이 뚫려 있다. 이 홀의 양쪽 끝부분(마주보는 끝부분)이 각각 제1 및 제2 세트의 개구부가 된다. 광학적으로는 이 개구부들이 표면 부분과 감광성 소자를 잇는 확장된 광학축 상에 위치하며, 소자 하나당 하나의 홀이 대응되도록 배치되어 있다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    마스크 수단의 개구부는 고체 내 홀의 마주보는 끝부분들로 구성된 제1 및 제2 세트이며, 각 감광성 소자는 하나의 홀과 대응되어 확장된 광학축을 따라 이격 배치된다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 최종 답변을 작성한다.

근거 (evidence)
  • 상기 마스크 수단이 상기 표면 부분들로부터 나오는 광에너지 통과할 수 있는 최소한 제1 및 제2 세트들의 개구부들(406)을 포함하며, 상기 제1 및 제2 개구부들이 표면부분들과 해당하는 감광성 소자들 사이에서 확장한 광학축을 따라 미리 선택된 거리이격되어 있는장치
  • 상기 마스크수단이 고체를 통과하여 확장한 다수의 홀(hole)들을 갖는 고체로서 형성되며, 각각의 상기 감광성 소자들이 상기 홀들의 하나와 각각 관련되어 있으며, 상기 제1 및 제2 세트들의 개구부들이 상기 홀들의 마주보는 끝부분들에 의해정해지는장치
최종 답변 (final_answer)
마스크 수단의 개구부(406)는 고체를 통과하여 확장된 다수의 홀(hole)을 갖는 고체 구조 내에서, 각 홀의 마주보는 끝부분들에 의해 결정되는 제1 및 제2 세트들의 개구부들로 구성된다. 광학적 관계 측면에서, 각각의 감광성 소자는 하나의 홀과 각각 관련되어 있으며, 이 개구부들은 표면 부분들과 해당하는 감광성 소자들 사이의 확장된 광학축을 따라 미리 선택된 거리만큼 이격되어 배치된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
마스크의 홀 구조를 통해 개구부를 형성함으로써, 표면의 광에너지가 확장된 광학축을 따라 특정 감광성 소자에 정밀하게 전달되도록 하는 구성이다.