화학 기상 증착 장치

[청구항1] 웨이퍼가 안착되는 포켓이 적어도 하나 이상 형성된 서셉터 를 구비하는 챔버 본체 상기 챔버 본체를 덮으며, 내부에 냉매를 수용하기 위한 냉매 유로를 형성하는 막부재와, 상기 막부재를 덮어 상기 서셉터와의 사이에 반응공간을 형성하는 커버부재를 구비하는 챔버 덮개; 및 상기 서셉터와 상기 커버부재 사이에서 반응가스가 흐르도록 상기 반응공간으로 상기 반응가스를 공급하는 가스공급부 를 포함하는 화학 기상 증착 장치 [청구항2] 제1항에 있어서,상기 챔버 덮개는 상기 막부재와 상기 커버부재 사이에 퍼지 가스를 수용하는가스유로형성하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항3] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 막부재는 내부로 유입된 냉매의 유량을 조절하도록 상기 서셉터를 향해 하향 돌출된유량조절부구비하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항4] 제3항에 있어서,상기 유량 조절부는 상기 서셉터 상에 안착된 상기 웨이퍼의 배치위치와 대응하여 상기 웨이퍼의 상부에 위치하도록구비되는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항5] 제3항에 있어서,상기 유량 조절부는 가열수단에 의해 가열된 상기 웨이퍼 상의 고온영역에서 상기 고온영역 주변의 저온영역을 향해 상기 막부재로부터의 돌출 높이가점진적감소하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항6] 제3항에 있어서,상기 유량 조절부는 상기 서셉터의 중심축과 동일한 중심축을 기준으로환고리형태구비되는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항7] 제1항에 있어서,상기 가스공급부는,상기 챔버 본체의 측단부 둘레를 따라 구비되어 외부로부터 도입되는 반응가스를 저장하는 적어도 하나의 리저버와, 상기 리저버와 상기 반응공간을 연통하며 상기 리저버에 저장된 반응가스를 상기 반응공간으로 분사하는 분사노즐포함하는화학 기상 증착 장치. [청구항8] 제7항에 있어서,상기 리저버 내에 적어도 하나 구비되어 상기 리저버를 복수의 영역으로 구분하는분리막더포함하는것을특징으로 하는화학 기상 증착 장치. [청구항9] 제1항에 있어서,상기 가스공급부는,상기 서셉터의 중심축 내에 적어도 하나 이상 구비되어 외부로부터 반응가스를 도입하는 가스 공급관과, 상기 서셉터의 중심에서 외주측으로 향하는 방사형 가스흐름을 형성하도록 상기 가스 공급관을 통해 유입된 반응가스를 상기 반응공간으로 분사하는 분사노즐포함하는화학 기상 증착 장치.