문맥 (context)
[청구항2]
청구항 1에 있어서,상기(1)에서 나타내는 화합물이, 인다졸류, 피라졸류, 및 1,2,4-트리아졸류에서 선택되는 화합물이고, 상기 (2)에서 나타내는 화합물이, 머캅토이미다졸류, 머캅토옥사졸류, 머캅토티아졸류, 머캅토티아졸린류, 머캅토벤조이미다졸류, 머캅토벤조옥사졸류, 및 머캅토벤조티아졸류에서 선택되는 화합물이며, 상기 (3)에서 나타내는 화합물이, 피리딘류, 피리미딘류, 피리다진류, 피라진류, 퀴놀린류, 또는 퀴나졸린류, 퀴녹살린류,및신놀린류선택되는화합물인,잔사 제거액.
청구항 1에 있어서,상기cu 표면 보호제는, (2) 식:(식 중, x는 nh, o 또는 s를 나타낸다)로 표시되는 구조를 가지는 헤테로 5원환 화합물을 기본 골격으로서 포함하는 화합물을 더 포함하며, 물에 상기 (2)에서 나타내는 화합물만을 용해시켜 수용액(10ppm, 23℃)을 제조했을 때, 상기 수용액7 이하인,잔사 제거액.
[청구항3]
청구항 1에 있어서,상기(1)에서 나타내는 화합물이, 인다졸, 3-하이드록시인다졸, 3-클로로-1h-인다졸, 5-아미노인다졸, 5-니트로인다졸, 6-아미노인다졸, 6-니트로인다졸, 3-브로모-7-니트로인다졸, 7-니트로인다졸, 인다졸-3-카르복시산, 1-벤질-1h-인다졸-3-올, 피라졸, 3,5-디메틸피라졸, 및 1,2,4-트리아졸에서 선택되는 화합물이고, 상기 (2)에서 나타내는 화합물이, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토이미다졸, 2-머캅토옥사졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토티아졸, 2-머캅토벤조티아졸, 및 2-티아졸린-2-티올에서 선택되는 화합물이며, 상기 (3)에서 나타내는 화합물이, 메틸피리딘, 아미노피리딘, 2,4-디아미노피리미딘, 2,4,6-트리아미노피리미딘, 피리다진, 3-아미노피라진-2-카르복시산, 및 4-아미노퀴놀린선택되는화합물인,잔사 제거액.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기cu 표면 보호제는, (3) 질소 원자(n)를 적어도 1개 가지는 헤테로 6원환 방향족 화합물을 기본 골격으로서 포함하는 화합물을 더 포함하며, 물에 상기 (3)에서 나타내는 화합물만을 용해시켜 수용액(10ppm, 23℃)을 제조할 때, 상기 수용액7 이상인,잔사 제거액.
[청구항4]
청구항 1에 있어서,상기cu 표면 보호제가, 상기 (1)∼(3)으로 이루어지는 군에서 선택되는 2종 이상의화합물로 이루어지는,잔사 제거액.
청구항 2에 있어서,상기(2)에서 나타내는 화합물이, 머캅토이미다졸류, 머캅토옥사졸류, 머캅토티아졸류, 머캅토티아졸린류, 머캅토벤조이미다졸류, 머캅토벤조옥사졸류, 및 머캅토벤조티아졸류선택되는화합물인,잔사 제거액.
[청구항5]
청구항 1에 있어서,상기 잔사 제거액 중의 cu 표면 보호제의 함유량인,잔사 제거액.
청구항 3에 있어서,상기(3)에서 나타내는 화합물이, 피리딘류, 피리미딘류, 피리다진류, 피라진류, 퀴놀린류, 또는 퀴나졸린류, 퀴녹살린류,및신놀린류선택되는화합물인,잔사 제거액.
[청구항6]
청구항 1에 있어서,상기 잔사 제거액 중의, 상기(1)에서 나타내는 화합물로 이루어지는 cu 표면 보호제의 함유량이 0.1∼3000ppm이고, 상기 (2)에서 나타내는 화합물로 이루어지는 cu 표면 보호제의 함유량이 0.1∼5ppm이며, 상기 (3)에서 나타내는 화합물로 이루어지는 cu 표면 보호제의 함유량인,잔사 제거액.
청구항 2에 있어서,상기(2)에서 나타내는 화합물이, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토이미다졸, 2-머캅토옥사졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토티아졸, 2-머캅토벤조티아졸, 및 2-티아졸린-2-티올선택되는화합물인,잔사 제거액.
[청구항7]
청구항 1에 있어서,상기cu와 착체 또는 킬레이트를 형성할 수 있는 화합물이, 케토산, 케토산염, 알데히드산염, 폴리카르복시산염, cu와 착체 또는 킬레이트를 형성할 수 있는 강산, cu에 배위할 수 있는 산소 원자를 가지는 중성 유기 용매, 및/또는 c4 이상의 모노알코올인,잔사 제거액.
청구항 3에 있어서,상기(3)에서 나타내는 화합물이, 메틸피리딘, 아미노피리딘, 2,4-디아미노피리미딘, 2,4,6-트리아미노피리미딘, 피리다진, 3-아미노피라진-2-카르복시산, 및 4-아미노퀴놀린선택되는화합물인,잔사 제거액.
[청구항8]
청구항 7에 있어서,상기cu와 착체 또는 킬레이트를 형성할 수 있는 화합물이, 케토산, 케토산염 및 알데히드산염으로 이루어지는 군선택되는적어도 1종인, 잔사 제거액.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 잔사 제거액 중의 cu 표면 보호제의 함유량인,잔사 제거액.
[청구항9]
청구항 7에 있어서,상기cu와 착체 또는 킬레이트를 형성할 수 있는 화합물이, cu와착체또는킬레이트형성할수있는강산 및 폴리카르복시산염인, 잔사 제거액.
청구항 1에 있어서,상기 잔사 제거액 중의, 상기(1)에서 나타내는 화합물로 이루어지는 cu 표면 보호제의 함유량인,잔사 제거액.
[청구항10]
청구항 7에 있어서,상기cu와 착체 또는 킬레이트를 형성할 수 있는 화합물이, cu에 배위할 수 있는 2 이상의 산소 원자를 가지는 중성 유기 화합물 및/또는 c4 이상의 모노알코올인,잔사 제거액.
청구항 2에 있어서,상기 잔사 제거액 중의, 상기 (2)에서 나타내는 화합물로 이루어지는 cu 표면 보호제의 함유량인,잔사 제거액.
[청구항11]
청구항 7에 있어서,상기cu와 착체 또는 킬레이트를 형성할 수 있는 화합물과염소산염인,잔사 제거액.
청구항 3에 있어서,상기 잔사 제거액 중의, 상기 (3)에서 나타내는 화합물로 이루어지는 cu 표면 보호제의 함유량인,잔사 제거액.
[청구항12]
청구항 1에 있어서,불소 화합물을더 포함하는,잔사 제거액.
[청구항13]
청구항 1에 있어서,계면활성제를더 포함하는,잔사 제거액.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기cu와 착체 또는 킬레이트를 형성할 수 있는 화합물이, 케토산; 케토산과, 하이드록실아민, 제1급, 제2급 또는 제3급 아민, 제4급 암모늄 또는 폴리아민으로 형성되는 염; 및 글리옥실산과, 하이드록실아민, 제1급, 제2급 또는 제3급 아민, 제4급 암모늄 또는 폴리아민으로 형성되는 염으로 이루어지는 군선택되는적어도 1종인, 잔사 제거액.
[청구항14]
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기cu와 착체 또는 킬레이트를 형성할 수 있는 화합물이, 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, α―클로로부티르산, β―클로로부티르산, γ―클로로부티르산, 모노플루오로아세트산, 디플루오로아세트산, 트리플루오로아세트산, 브롬화수소산, 과염소산, 황산 또는 말론산; 및 말론산, 석신산, 글루타르산, 아디프산 또는 말산과, 하이드록실아민, 알칸올아민, 제1급, 제2급 또는 제3급 아민, 제4급 암모늄 또는 폴리아민으로 형성되는 염으로 이루어지는 군선택되는적어도 1종인, 잔사 제거액.
[청구항15]
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기cu와 착체 또는 킬레이트를 형성할 수 있는 화합물이, cu에 배위할 수 있는 2 이상의 산소 원자를 가지는 중성 유기 화합물, c4 이상의 모노알코올, 또는 cu에 배위할 수 있는 2 이상의 산소 원자를 갖는 중성 유기 화합물 및 c4 이상의 모노알코올인,잔사 제거액.
[청구항17]
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,불화수소 및 불화물염으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 불소 화합물을 더 포함하고, 또한, 상기 불화물염은 암모니아, 하이드록실아민, 제1급, 제2급 혹은 제3급 아민, 제4급 암모늄 및 폴리아민으로 이루어진 군선택되는적어도 1종의 화합물의 불화물염인, 잔사 제거액.
[청구항18]
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,계면활성제를더 포함하는,잔사 제거액.
[청구항23]
청구항 1에 있어서,상기(1)에서 나타내는 화합물이, 인다졸, 3-하이드록시인다졸, 3-클로로-1h-인다졸, 5-아미노인다졸, 5-니트로인다졸, 6-아미노인다졸, 6-니트로인다졸, 3-브로모-7-니트로인다졸, 7-니트로인다졸, 인다졸-3-카르복시산, 1-벤질-1h-인다졸-3-올, 3,5-디메틸피라졸, 및 1,2,4-트리아졸선택되는화합물인,잔사 제거액.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 2에서 정의하는 cu 표면 보호제의 기본 골격 구조와, 청구항 3에서 정의하는 cu 표면 보호제의 기본 골격 구조는 각각 무엇이며, 이들에 따른 수용액의 특성 차이는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation청구항 2와 3에 명시된 cu 표면 보호제의 골격 구조와 수용액 특성 차이를 비교 분석해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 2의 골격은 헤테로 5원환이며, 수용액 특성은 7 이하이다. 청구항 3의 골격은 질소 원자를 포함하는 헤테로 6원환 방향족 화합물이며, 수용액 특성은 7 이상이다.
- (2) 식:(식 중, x는 nh, o 또는 s를 나타낸다)로 표시되는 구조를 가지는 헤테로 5원환 화합물을 기본 골격으로서 포함
- 상기 수용액7 이하인
- (3) 질소 원자(n)를 적어도 1개 가지는 헤테로 6원환 방향족 화합물을 기본 골격으로서 포함
- 상기 수용액7 이상인
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3근거 선택
evidence_selection두 청구항의 핵심 차이점인 골격 구조(5원환 vs 6원환)와 수용액 수치(7 이하 vs 7 이상)를 선택한다.
- 헤테로 5원환 화합물을 기본 골격
- 수용액7 이하인
- 헤테로 6원환 방향족 화합물을 기본 골격
- 수용액7 이상인
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4논리 통합
logical_integration청구항 2는 5원환 구조를 기반으로 수용액 특성이 7 이하인 경우이고, 청구항 3은 6원환 구조를 기반으로 수용액 특성이 7 이상인 경우로 대조된다.
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5결론 도출
conclusion_formulation청구항 2의 보호제는 (2)식의 헤테로 5원환 구조를 가지며 수용액 특성이 7 이하이고, 청구항 3의 보호제는 질소 원자를 포함하는 헤테로 6원환 방향족 구조를 가지며 수용액 특성이 7 이상이다.
- 헤테로 5원환 화합물을 기본 골격
- 수용액7 이하인
- 질소 원자(n)를 적어도 1개 가지는 헤테로 6원환 방향족 화합물을 기본 골격
- 수용액7 이상인
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 답변을 구성한다.
근거 (evidence)
- (2) 식:(식 중, x는 nh, o 또는 s를 나타낸다)로 표시되는 구조를 가지는 헤테로 5원환 화합물을 기본 골격으로서 포함
- 상기 수용액7 이하인
- (3) 질소 원자(n)를 적어도 1개 가지는 헤테로 6원환 방향족 화합물을 기본 골격으로서 포함
- 상기 수용액7 이상인
- 헤테로 5원환 화합물을 기본 골격
- 수용액7 이하인
- 헤테로 6원환 방향족 화합물을 기본 골격
- 수용액7 이상인
- 질소 원자(n)를 적어도 1개 가지는 헤테로 6원환 방향족 화합물을 기본 골격
최종 답변 (final_answer)
청구항 2의 cu 표면 보호제는 (2)식(x는 nh, o 또는 s)으로 표시되는 구조를 가진 헤테로 5원환 화합물을 기본 골격으로 하며, 이를 이용한 수용액(10ppm, 23℃)의 특성은 7 이하이다. 반면, 청구항 3의 cu 표면 보호제는 질소 원자(n)를 적어도 1개 가지는 헤테로 6원환 방향족 화합물을 기본 골격으로 하며, 이를 이용한 수용액(10ppm, 23℃)의 특성은 7 이상이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
청구항 2와 3은 cu 표면 보호제의 화학적 골격(5원환 vs 6원환)에 따라 수용액의 특정 수치(7 이하 vs 7 이상)가 구분됨을 나타낸다.