플라즈마처리장치

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 처리가스 공급수단은, 상기 처리용기 내에 여러단에 걸쳐서 배치되고, 상기 처리가스 분출구멍을 각각 가지는 여러개의 공급노즐을 가지며, 각 단의 공급노즐은 피러치면과 직교하여 피처리면의 중심을 통하는 중심축을 중심으로방사형상배열되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 공급노즐은 처리용기의 둘레벽으로부터 피처리체의 피처리면에 평행하게 뻗어 있고, 뻗어나온 끝단에 상기 처리가스 분사구멍을 가지며, 상단의 것이 하단의 것보다도 긴 것특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 각각의 단은 같은수의공급노즐가지는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 공급노즐의 가스분출구멍으로부터 동시에 같은 유량으로 처리가스를 분사시키는수단가지는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 하단에 위치하는 처리가스 분출구멍은, 상기 처리용기의 둘레벽과,상기피처리체의모서리의사이위치되는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 상단의 처리가스 분출구멍보다도 피처리체로부터 피처리체의 피처리면과 실질적으로 수직인 방향으로 떨어져 배치되어 처리용기 내에 첨가가스를 공급하기 위한 첨가가스 분출구멍을 첨가가스 분출구멍을 가지는첨가가스공급도입수단더욱구비하는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 처리가스 공급수단은, 막형성가스를 공급하는 수단이며, 상기 첨가가스 공급수단은 불활성가스 또는 산소 또는 이들의 혼합가스를 공급하는수단인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 처리가스 공급수단은, 상기 처리용기 내에 설치되고, 피처리체와 간격을 가지고 대면한 가스분출면을 가지는 가스공급헤드를 가지며, 이 가스분출면에는 상기 처리가스 분출구멍이 여러단에 걸쳐서형성되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 가스공급헤드는 석영으로 형성되어 있고, 가스분사면은 중심으로부터 둘레로 향함에 따라서 피처리체의 피처리면에 접근하도록변형하여있는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 11] 제10항에 있어서,상기 가스분사면은 만곡면인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 12] 제10항에 있어서,상기 기스분사nan면평면인것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 안테나부재는 처리용기 내에 설치되며, 이 안테나부재를 커버하고, 이것을 처리가스로부터 보호하는보호수단가지는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치.