원자층 증착 장치

[청구항2] 제1항에 있어서,상기 제1 유지파트는 상기 서셉터와 상기 샤워헤드 중 하나의 외주연부를 따라 일정 높이 돌출된링형태인것을특징으로 하는원자층 증착 장치. 제1항에 있어서,상기 제1 유지파트는 상기 서셉터와 상기 샤워헤드 중 하나의 외주연부를 따라 일정 높이 돌출된링형태인것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항3] 제1항에 있어서,상기 제1 유지파트는 배기가스를 배출시킬 수 있도록 복수개로 분할된링형태인것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항4] 제1항에 있어서,상기 제1 유지파트는 상기 제2 유지파트가 형성된 표면보다 낮거나, 상기 제2 유지파트에 수용되는높이갖는것을특징으로 하는원자층 증착 장치. 제1항에 있어서,상기 제1 유지파트는 상기 제2 유지파트가 형성된 표면보다 낮거나, 상기 제2 유지파트에 수용되는높이갖는것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항5] 제1항에 있어서,상기 샤워헤드는 소스가스를 분사하는 복수의 소스영역과 퍼지가스를 분사하는 복수의 퍼지영역이 형성되고,상기 제1 유지파트는상기소스영역형성된것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항6] 제1항에 있어서,상기 제1 유지파트는 상기 샤워헤드에서 상기 소스영역에 형성되고,상기 제2 유지파트는 상기 서셉터의 둘레를 따르는원형 형태갖는것을특징으로 하는원자층 증착 장치. 제5항에 있어서,상기 제2 유지파트는 상기 서셉터의 둘레를 따르는원형 형태갖는것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항8] 제7항에 있어서,상기 가스유지부는 상기 서셉터와 상기 샤워헤드 사이의 간격보다 낮은높이갖는것을특징으로 하는원자층 증착 장치. 제7항에 있어서,상기 가스유지부는 상기 서셉터와 상기 샤워헤드 사이의 간격보다 낮은높이갖는것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항9] 제8항에 있어서,상기 샤워헤드는 소스가스를 분사하는 복수의 소스영역과 퍼지가스를 분사하는 복수의 퍼지영역이 형성되고,상기 가스유지부는상기소스영역둘레형성된것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항11] 제10항에 있어서,상기 가스유지부는 상기 배기 배플 표면에서 상기 서셉터와 인접한 위치에 형성되고, 상기 서셉터의 외주연부에 대응되는링형태갖는것을특징으로 하는원자층 증착 장치. 제10항에 있어서,상기 가스유지부는 상기 배기 배플 표면에서 일정 높이 돌출 형성되되 상기 서셉터와 인접한위치형성된것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항12] 제11항에 있어서,상기 가스유지부는 상기 서셉터의 외주연부에 대응되는링형태갖는것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항13] 제12항에 있어서,상기 가스유지부는 배기가스가 상기 배기홀로 유입될 수 있도록 복수개로 분할된링형태갖는것을특징으로 하는원자층 증착 장치. [청구항14] 제11항에 있어서,상기 샤워헤드는 소스가스를 분사하는 복수의 소스영역과 퍼지가스를 분사하는 복수의 퍼지영역이 형성되고,상기 가스유지부는 상기 소스영역에 대응되는위치형성된것을특징으로 하는원자층 증착 장치. 제10항에 있어서,상기 샤워헤드는 소스가스를 분사하는 복수의 소스영역과 퍼지가스를 분사하는 복수의 퍼지영역이 형성되고,상기 가스유지부는 상기 배기 배플 둘레 중에서 상기 소스영역에 대응되는위치형성된것을특징으로 하는원자층 증착 장치.