에피텍셜 웨이퍼 제조 장치

[청구항2] 제1 항에 있어서,상기 가스 유로는 적어도 하나의 단위 유로를 더 포함하고,상기 적어도 하나의 단위 유로는분할될 가스를 상기 적어도 하나의 분할 영역으로 제공하는 상류 유로; 및상기 적어도 하나의 분할 영역에서 분할된 가스가 흐르는 경로를 제공하는 복수의 하류 유로포함하는에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항3] 제2 항에 있어서,상기 가스 분할부는 상기 단위 유로배치되는에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항4] 제2 항에 있어서,상기 가스 분할부는 상기 단위 유로 중에서 상기 가스 공급부보다는 상기 챔버에 가깝게 배치된 단위 유로 대신에 상기 챔버보다는 상기 가스 공급부에 가깝게 배치된 단위 유로배치된에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항5] 제2 항에 있어서,상기 가스 분할부는상기상류 유로의폭의중간지점향해돌출된에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항10] 제1 항에 있어서,상기 가스 분할부의 재질은 상기 가스 유로의 재질동일한에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항11] 제1 항에 있어서,상기 가스 분할부의 재질은 스테인레스 스틸 또는 석영 재질 중 적어도 하나포함하는에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항12] 제1 항에 있어서,상기 가스 유출부는상기 가스가 상기 웨이퍼에 공급되는 제1 방향과 나란한 수평 방향으로 상기 분할된 가스유출시키는에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항13] 제1 항에 있어서,상기 가스 유출부는상기 가스가 상기 웨이퍼에 공급되는 제1 방향과 다른 제2 방향으로 가스유출시키는에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항14] 제13 항에 있어서,상기 에피텍셜 웨이퍼 제조 장치는상기 가스 유출부의 단부에 배치되며, 상기 가스 유출부로부터 상기 제2 방향으로 유출된 가스를 상기 제1 방향과 나란한 수평 방향으로 유출시키는 수평 가스 유로더 포함하는에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항15] 제1 항에 있어서,상기 가스 분할부의 하측과 상측의 폭은서로 동일한에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항17] 제1 항에 있어서,상기 가스 분할부는상기 상류 방향으로 돌출된 탑부; 및상기 탑부로부터 하류 방향으로 연장되는버텀부를포함하는에피텍셜 웨이퍼 제조 장치. [청구항19] 제17 항에 있어서,상기 가스 분할부는상기 탑부와 상기 버텀부 사이에 배치된 중간부더 포함하는에피텍셜 웨이퍼 제조 장치.