최종산출물 · 특허 지식베이스

에칭 방법, 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체, 및 플라즈마 처리 시스템

uuid
8baaaa97-4bc7-545b-a88d-6cf04fef0bf3
출원번호
1020097003997
출원연도
2007
IPC
C23F 1/00
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항20] 제19항에 있어서,상기ac 전력 시스템은, 제1 rf 주파수에서 상기 전극 또는 상기 기판 홀더에 제1 rf 전력을 공급하도록 구성된 제1 rf 전력 시스템과, 제2 rf 주파수에서 상기 기판 홀더에 제2 rf 전력을 공급하도록 구성된 제2 rf 전력 시스템을 포함하고, 상기 ac 전력 변조 시스템은 상기 제1 rf전력의진폭변조하도록구성되는 것인플라즈마 처리 시스템. 제19항에 있어서,상기ac 전력 시스템은, 제1 rf 주파수에서 상기 전극 또는 상기 기판 홀더에 제1 rf 전력을 공급하도록 구성된 제1 rf 전력 시스템과, 제2 rf 주파수에서 상기 기판 홀더에 제2 rf 전력을 공급하도록 구성된 제2 rf 전력 시스템을 포함하고, 상기 ac 전력 변조 시스템은 상기 제1 rf전력의진폭변조하도록구성되는 것인플라즈마 처리 시스템. [청구항21] 제20항에 있어서,상기제2 rf 주파수는 상기 제1 rf 주파수것인플라즈마 처리 시스템. 제20항에 있어서,상기제2 rf 주파수는 상기 제1 rf 주파수것인플라즈마 처리 시스템. [청구항22] 제19항에 있어서,상기ac 전력 시스템은 rf 주파수에서 유도 코일에 rf 전력을 공급하도록 구성된 rf 전력 시스템포함하는 것인플라즈마 처리 시스템. 제19항에 있어서,상기ac 전력 시스템은 rf 주파수에서 유도 코일에 rf 전력을 공급하도록 구성된 rf 전력 시스템포함하는 것인플라즈마 처리 시스템. [청구항23] 제19항에 있어서,상기 플라즈마 처리 시스템에 자계를 제공하도록 구성된 자계 시스템과,상기 자계의 회전 속도 또는 자계 세기를 제어하도록 구성된 컨트롤러더 포함하는플라즈마 처리 시스템. 제19항에 있어서,상기 플라즈마 처리 시스템에 자계를 제공하도록 구성된 자계 시스템과,상기 자계의 회전 속도 또는 자계 세기를 제어하도록 구성된 컨트롤러더 포함하는플라즈마 처리 시스템.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라즈마 처리 시스템의 ac 전력 시스템은 어떠한 구성요소들로 이루어져 있으며, ac 전력 변조 시스템은 무엇을 수행하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    ac 전력 시스템의 구성 요소와 ac 전력 변조 시스템의 기능을 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 20항에서 ac 전력 시스템의 구성과 변조 시스템의 동작을 추출한다.

    • 상기ac 전력 시스템은, 제1 rf 주파수에서 상기 전극 또는 상기 기판 홀더에 제1 rf 전력을 공급하도록 구성된 제1 rf 전력 시스템과, 제2 rf 주파수에서 상기 기판 홀더에 제2 rf 전력을 공급하도록 구성된 제2 rf 전력 시스템을 포함하고
    • 상기 ac 전력 변조 시스템은 상기 제1 rf전력의진폭변조하도록구성되는
  3. 3근거 선택evidence_selection

    시스템 구성에 해당하는 제1 및 제2 rf 전력 시스템 문구와 변조 기능에 해당하는 문구를 선택한다.

    • 제1 rf 전력 시스템
    • 제2 rf 전력 시스템
    • 상기 ac 전력 변조 시스템은 상기 제1 rf전력의진폭변조하도록구성되는
  4. 4논리 통합logical_integration

    ac 전력 시스템은 두 개의 rf 전력 시스템으로 구성되며, 변조 시스템은 그중 제1 rf 전력의 진폭을 조절함을 연결한다.

    • 제1 rf 전력 시스템과, 제2 rf 주파수에서 상기 기판 홀더에 제2 rf 전력을 공급하도록 구성된 제2 rf 전력 시스템을 포함하고
    • 상기 ac 전력 변조 시스템은 상기 제1 rf전력의진폭변조하도록구성되는
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    ac 전력 시스템은 제1 rf 전력 시스템과 제2 rf 전력 시스템을 포함하며, ac 전력 변조 시스템은 제1 rf 전력의 진폭을 변조한다.

    • 제1 rf 전력 시스템
    • 제2 rf 전력 시스템
    • 상기 ac 전력 변조 시스템은 상기 제1 rf전력의진폭변조하도록구성되는
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 적합한 형태로 최종 답변을 작성한다.

근거 (evidence)
  • 상기ac 전력 시스템은, 제1 rf 주파수에서 상기 전극 또는 상기 기판 홀더에 제1 rf 전력을 공급하도록 구성된 제1 rf 전력 시스템과, 제2 rf 주파수에서 상기 기판 홀더에 제2 rf 전력을 공급하도록 구성된 제2 rf 전력 시스템을 포함하고
  • 상기 ac 전력 변조 시스템은 상기 제1 rf전력의진폭변조하도록구성되는
  • 제1 rf 전력 시스템
  • 제2 rf 전력 시스템
  • 제1 rf 전력 시스템과, 제2 rf 주파수에서 상기 기판 홀더에 제2 rf 전력을 공급하도록 구성된 제2 rf 전력 시스템을 포함하고
최종 답변 (final_answer)
플라즈마 처리 시스템의 ac 전력 시스템은 제1 rf 주파수에서 전력을 공급하는 제1 rf 전력 시스템과, 제2 rf 주파수에서 기판 홀더에 전력을 공급하는 제2 rf 전력 시스템을 포함한다. 또한, ac 전력 변조 시스템은 제1 rf 전력의 진폭을 변조하는 역할을 수행한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
ac 전력 시스템의 하위 구성 요소(제1, 제2 rf 전력 시스템)와 ac 전력 변조 시스템의 구체적인 동작(제1 rf 전력의 진폭 변조)을 정의함.