마그네트론 스퍼터링 장치용 스퍼터링 타겟

[청구항1] 증착하고자 하는 물질로 이루어진 판 형태의 타겟판과, 상기 타겟판의 윗면 가장자리와 타겟판의 옆면 및 밑면 전체를 둘러싼 형태로 타겟판과 고정 결합된 홀더와, 상기 홀더의 뒷면에 배치된 마그네트로 이루어진 마그네트론 스퍼터링 장치의 스퍼터링 타겟에 있어서, 타겟판중 상기 마그네트에 의해 형성되는 자기력선의 영향을 받지 않는 부위에는 증착물질이 존재하지 않도록 구멍이 형성된 것을 특징으로 하는, 마그네트론 스퍼터링 장치용 스퍼터링 타겟 [청구항2] 제 1 항에 있어서,상기 홀더의 외각은 사각구조를 가지고 있으며, 타겟판의 윗면과 이어지는 홀더 윗면의 내부 4 모서리는 라운드 형태를 이루어 외부로 노출된 타겟판이트랙형운동장형태갖는것을특징으로 하는,마그네트론 스퍼터링 장치용 스퍼터링 타겟. [청구항3] 제 2 항에 있어서,상기 마그네트가 상기 홀더에 의해 노출된 상기 타겟판의 영역내에 위치하고, 외곽에는 길다란 사각형 고리형태의 마그네트 구조와 중앙부위에는 상기 사각형 고리 형태의 마그네트와 극성이 다른 길다란 막대형태의 마그네트 구조를 갖도록 형성된 경우, 상기 두 마그네트로 부터 발생하는 자기력선에 의해 증착물질이 스퍼터링되는 영역 이외의 상기 타겟판의 영역에 마그네트 물질이 없도록구멍형성된것을특징으로 하는,마그네트론 스퍼터링 장치용 스퍼터링 타겟. [청구항4] 제 3 항에 있어서,판은 상기 마그네트중 중앙부위의 막대형 마그네트에 해당되는 부위가 마그네트 물질이 없도록구멍형성된것을특징으로 하는,마그네트론 스퍼터링 장치용 스퍼터링 타겟. [청구항5] 제 1 항에 있어서,상기 홀더의 윗면은 소정 폭을 가진 원형 고리 형태를 가지며, 노출된 타겟판도원형 형태갖는것을특징으로 하는,마그네트론 스퍼터링 장치용 스퍼터링 타겟. [청구항6] 제 5 항에 있어서,상기 마그네트가 상기 홀더에 의해 노출된 상기 타겟판의 영역내에 위치하고, 외곽에는 원형 고리형태의 마그네트 구조와 중앙부위에는 상기 원형 고리 형태의 마그네트와 극성이 다른 막대형태 또는 원형 형태의 마그네트 구조를 갖도록 형성된 경우, 상기 두 마그네트로 부터 발생하는 자기력선에 의해 증착물질이 스퍼터링되는 영역 이외의 상기 타겟판의 영역에 마그네트 물질이 없도록구멍형성된것을특징으로 하는,마그네트론 스퍼터링 장치용 스퍼터링 타겟. [청구항7] 제 6 항에 있어서,판은 상기 마그네트중 중앙부위의 막대형 또는 원형 마그네트에 해당되는 부위가 마그네트 물질이 없도록구멍형성된것을특징으로 하는,마그네트론 스퍼터링 장치용 스퍼터링 타겟.