기판 처리 장치

[청구항2] 제 1 항에 있어서,상기 기판지지부는,상기 서셉터를 둘러싸도록 내부가 중공된 원통형 형상을 가지며, 하단이 상기 챔버의 바닥면에 고정되고, 상단면에 상기 기판안착홈이 마련되어, 상기 기판이 상기 서셉터의 상부와 소정의 간격만큼 이격된 공정위치에서 이탈되지 않도록상기기판지지하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항3] 제 2 항에 있어서,상기 기판지지부는 상기 챔버 내의 온도, 열 또는 공정가스에 의해 영향받지 않도록석영재질로이루어진것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항4] 제 1 항에 있어서,셉터는상기 기판안착홈 상에 안착된 상기 기판으로 열을 제공하는 히터부재;상기 히터부재의 하면에 연결된 서셉터구동축;상기 서셉터구동축에 연결되어, 상기 히터부재가 회전되도록 상기 서셉터구동축을 회전시키는 서셉터회전구동부재; 및상기 서셉터구동축에 연결되어, 상기 히터부재가 상하로 이동되도록 상기 히터부재의 위치를 조정하는서셉터위치조정부재포함하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항5] 제 1 항에 있어서,상기 가스분사부는상기 챔버 내부에 위치되어, 상기 챔버 내부로 상기 공정가스를 분사하는 가스분사부재;상기 가스분사부재에 연결되어, 상기 가스분사부재로 상기 공정가스를 제공하는 가스공급부재; 및 상기 가스분사부재에 연결되어, 상기 가스분사부재가 상하로 이동되도록 상기 가스분사부재의 위치를 조정하는 가스분사위치조정부재;를포함하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항6] 제 1 항에 있어서,상기 셔터는 상기 셔터의 일단이 상기 가스분사부에 결합되고, 상기 가스분사부의 하강시 상기 셔터의 타단이 상기 기판지지부의 외주면에 맞닿아 상기 가스분사부와 상기 기판지지부 사이의 반응공간을 형성하는 내부가 중공된 원통형 형상을 가지며, 상기 셔터는 상기 반응공간 내의 잔류가스를 상기 반응공간에서 외부로 일정하게 배출하는 잔류가스배출로가 마련되도록상기가스분사부설치되는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항7] 제 6 항에 있어서,상기 셔터에는 상기 셔터가 상기 기판지지부와 사이에 상기 반응공간을 형성하도록 위치될 때, 상기 챔버의 일측에 마련된 배기홀과 상기 반응공간이 연통가능하게 상기 셔터의 외주면에는 복수의 잔류가스배출홀이 마련되며, 상기 잔류가스배출로는 상기 반응공간 내의 잔류가스가 상기 복수의 잔류가스배출홀을 통해 상기 챔버의 외부로 유동하는경로인것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항8] 제 7 항에 있어서,상기 복수의 잔류가스배출홀은 상기 셔터가 상기 기판지지부와 사이에 상기 반응공간을 형성하도록 위치될 때, 상기 챔버의 일측에 마련된 기판출입구와 상기 반응공간이 연통가능하게 상기 셔터의 둘레방향을 따라상기셔터의외주면마련된것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항9] 제 7 항에 있어서,상기 복수의 잔류가스배출홀은 상기 셔터가 상기 기판지지부와 사이에 상기 반응공간을 형성하도록 위치될 때, 상기 배기홀과 상기 반응공간이 연통가능하게 상기 셔터의 둘레방향을 따라상기셔터의외주면마련된것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항10] 제 7 항에 있어서,상기 복수의 잔류가스배출홀은 원형 개구, 장방형 개구 또는 사각형 개구 형태를 가져, 상기 셔터의 둘레방향을 따라 상호 간에 소정의 간격만큼 이격되어 위치되어, 상기 반응공간 내의 잔류가스가 상기 챔버의 외부로 일정하게 배출될 수형성된것을특징으로 하는기판 처리 장치.