문맥 (context)
[청구항2]
제 1 항에 있어서,상기 제 1 분사포트가 형성되는 상기 제 1 측벽에는 제 2 배기포트가 형성되고, 상기 제 1 배기포트가 형성되는 상기 제 2 측벽에는 제 2 분사포트가 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
제 1 항에 있어서,상기 제 1 분사포트가 형성되는 상기 제 1 측벽에는 제 2 배기포트가 형성되고, 상기 제 1 배기포트가 형성되는 상기 제 2 측벽에는 제 2 분사포트가 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
[청구항3]
제 1 항에 있어서,상기 에지 프레임은 상기 챔버의 내벽에 고정되거나, 상기 서셉터와 함께 상승하는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
제 1 항에 있어서,상기 에지 프레임은 상기 챔버의 내벽에 고정되거나, 상기 서셉터와 함께 상승하는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
[청구항4]
제 1 항에 있어서,셉터의 가장자리에는 상기 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부가 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마이용한공정장비.
제 1 항에 있어서,셉터의 가장자리에는 상기 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부가 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마이용한공정장비.
[청구항5]
제 1 항에 있어서,상기 에지 프레임의 하면에는 상기 공정가스의 누설을 방지하기 위한 실링(sealing)이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
제 1 항에 있어서,상기 에지 프레임의 하면에는 상기 공정가스의 누설을 방지하기 위한 실링(sealing)이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
[청구항6]
제 5 항에 있어서,상기 실링은 오링(o-ring)인 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
제 5 항에 있어서,상기 실링은 오링(o-ring)인 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
[청구항7]
제 1 항에 있어서,셉터 또는 상기 플라즈마 전극 중 적어도 하나에는 상기 기판을 예열하기 위한 히터가 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
제 1 항에 있어서,셉터 또는 상기 플라즈마 전극 중 적어도 하나에는 상기 기판을 예열하기 위한 히터가 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
[청구항8]
제 1 항에 있어서,상기rf전원은 펄스(pulse) 파형으로 상기 플라즈마 전극에 rf전력을 공급하는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
제 1 항에 있어서,상기rf전원은 펄스(pulse) 파형으로 상기 플라즈마 전극에 rf전력을 공급하는 것을 특징으로 하는 플라즈마이용하는공정장비.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라즈마 이용 공정장비에서 에지 프레임의 고정 방식과 서셉터의 가장자리 구조는 어떻게 구성되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
-
1과제 해석
task_interpretation에지 프레임의 고정 방식과 서셉터 가장자리의 구조적 특징을 파악해야 한다.
-
2정보 추출
information_extraction청구항 3번과 4번에서 에지 프레임의 거동과 서셉터의 단차부 정보를 추출한다.
- 상기 에지 프레임은 상기 챔버의 내벽에 고정되거나, 상기 서셉터와 함께 상승하는 것
- 셉터의 가장자리에는 상기 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부가 형성된 것
-
3근거 선택
evidence_selection에지 프레임의 위치 관계와 서셉터의 물리적 구조에 관한 핵심 문구를 선택한다.
- 상기 에지 프레임은 상기 챔버의 내벽에 고정되거나, 상기 서셉터와 함께 상승
- 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부
-
4논리 통합
logical_integration에지 프레임은 내벽에 고정되거나 서셉터와 동기화되어 움직이며, 서셉터는 상승 시 에지 프레임과 접촉할 수 있도록 단차부를 가진다.
- 상기 에지 프레임은 상기 챔버의 내벽에 고정되거나, 상기 서셉터와 함께 상승
- 상기 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부
-
5결론 도출
conclusion_formulation에지 프레임의 고정 방식(내벽 고정 또는 서셉터와 동시 상승)과 서셉터의 구조(에지 프레임 하면과 접촉하는 단차부 형성)를 정리한다.
- 상기 에지 프레임은 상기 챔버의 내벽에 고정되거나, 상기 서셉터와 함께 상승
- 상기 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부가 형성
-
6답변 생성
answer_generation질문에 적합한 형태로 최종 답변을 작성한다.
근거 (evidence)
- 상기 에지 프레임은 상기 챔버의 내벽에 고정되거나, 상기 서셉터와 함께 상승하는 것
- 셉터의 가장자리에는 상기 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부가 형성된 것
- 상기 에지 프레임은 상기 챔버의 내벽에 고정되거나, 상기 서셉터와 함께 상승
- 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부
- 상기 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부
- 상기 서셉터가 상승하였을 때, 상기 에지 프레임의 하면과 접촉하는 단차부가 형성
최종 답변 (final_answer)
에지 프레임은 챔버의 내벽에 고정되거나 서셉터와 함께 상승하는 방식으로 구성된다. 또한, 서셉터의 가장자리에는 서셉터가 상승할 때 에지 프레임의 하면과 접촉할 수 있도록 단차부가 형성되어 있다.
핵심 해석 (core_interpretation)
에지 프레임의 가동 방식(고정 또는 서셉터와 동기화)과 서셉터의 물리적 접촉 구조(단차부)를 정의함.