고체 촬상 장치 및 상기 고체 촬상 장치를 구비한 촬상장치 및 고체 촬상 장치의 마이크로렌즈 어레이 제조 방법

[청구항 1] 입사광을 광전 변환하는 수광 화소를 2차원적으로 배치한 수광 화소군과, 상기 수광 화소에 대응하여 2차원적으로 배치된 마이크로렌즈 어레이와, 상기 마이크로렌즈 어레이의 광 입사측에 배치되는 투명 부재를 갖고, 상기 마이크로렌즈 어레이보다 높이가 높은 볼록부를 상기 마이크로렌즈 어레이와 일체로 형성하고, 상기 투명 부재를 상기 볼록부에서 지지한 것을 특징으로 하는 고체 촬상 장치 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기볼록부는 상기 마이크로렌즈 어레이와 동일 공정에서일체형성되어있는것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 동일 공정은 리소그래피에 의한공정인것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 리소그래피에 의한 공정은,상기 마이크로렌즈 어레이를 열가소성의 투명 감광성 수지막에 원하는 패턴을 노광하여 형성하는 고체 촬상 장치의 마이크로렌즈 어레이 제조 방법에 있어서, 상기 투명 감광성 수지막으로의 노광시에, 상기 마이크로렌즈 어레이의 영역과 그 이외의 영역에서 노광되는 패턴을 다르게 함으로써, 상기 마이크로렌즈 어레이보다 높이가 높은 볼록부를, 상기 마이크로렌즈 어레이와 일체형성하는고체 촬상 장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 투명 감광 수지층을 형성하는 공정은 도포에 의한공정인것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 6] 제4항에 있어서,노광이 행해진 상기 투명 감광성 수지막은 에칭을 이용한 방법에 의해현상되는것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 7] 제4항에 있어서,상기 마이크로렌즈 어레이 및 상기 볼록부를 형성하는 공정은 열 리플로우법이나 에치백법에 의한공정인것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 8] 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기볼록부는 상기 마이크로렌즈 어레이배치되어있는것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 9] 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투명 부재는 상기 볼록부와 접촉한 상태로 접착되고, 상기 마이크로렌즈 어레이의영역밀봉한것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 10] 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투명 부재는성형부재인것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 11] 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투명 부재에적외광커트기능갖는것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 12] 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 볼록부의 영역 내에 상기 볼록부가 결손된 부위를 형성하여 상기 투명 부재에, 상기 볼록부의 결손된 부위에 결합하는결합부형성한것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 13] 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투명 부재의 광 입사측의 면의 일부에 오목부 또는 볼록부를형성한것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 14] 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투명 부재에차광부마련한것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 15] 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투명 부재 중적어도 한 쪽 면에반사방지처리실시한것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 16] 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,상기 투명 부재 중적어도 한 쪽 면에 회절 격자로 이루어지는광학적저역통과 필터설치한것을특징으로 하는고체 촬상 장치. [청구항 18] 제17항에 있어서,상기 투명 부재의 광 입사면측의 면에 상기 촬상광학계접촉시킨것을특징으로 하는촬상 장치.