플라즈마 장치

[청구항2] 제1항에 있어서,상기 척 유니트에는 상기 플라즈마 소오스와 다른 고주파 전원이 독립적으로 인가되어 상기 플라즈마 소오스에서 생성된 상기 플라즈마와 다른 플라즈마가 생성되고,상기 척 유니트는 상기 플라즈마 소오스로부터 상기 가공물을 향하는 방향을 축회전하는플라즈마 장치. [청구항3] 제1항에 있어서,상기 척 유니트에는 상기 가공물이 거치되는 거치부, 상기 거치부를 회전시키는 축부, 상기 축부를 지지하는 지지부가 마련되고,상기 거치부에는 상기 지지부를 통해 냉각수, 열전도 매질, 직류 전원, 고주파 전원이 공급되며,상기 지지부에는 상기 냉각수, 상기 열전도 매질, 상기 직류 전원, 상기 고주파 전원의 경로가 상기 축부의 길이 방향으로 서로 다른 위치마련되는플라즈마 장치. [청구항4] 제1항에 있어서,상기 척 유니트에는 상기 가공물이 거치되는 거치부, 상기 거치부를 회전시키는 축부가 마련되고,상기 축부에는 상기 축부로 공급된 냉각수를 상기 거치부 또는 상기 챔버의 내부에 위치한 상기 축부의 단부로 안내하는 제1 냉각수관, 상기 축부로 공급된 열전도 매질을 상기 거치부 또는 상기 챔버의 내부에 위치한 상기 축부의 단부로 안내하는 제1 매질관, 상기 축부로 공급된 직류 전원을 상기 거치부 또는 상기 챔버의 내부에 위치한 상기 축부의 단부로 안내하는 제1 직류 라인, 상기 축부로 공급된 고주파 전원을 상기 거치부로 안내하는 제1 고주파 라인 중 적어도 하나마련되는플라즈마 장치. [청구항6] 제1항에 있어서,상기 축부는 상기 지지부에 끼워지고,상기 도전성 유체는 상기 축부의 외면과 상기 지지부의 내면의 사이에 충전되며,상기 지지부의 내면에는 상기 지지부의 외면과 연결되는 통공이 마련되고,상기 통공을 통하여 상기 도전성 유체가 충전된 후 상기 통공을 폐쇄하는 제1 폐쇄부;상기 통공의 출입구를 내부에 포함하는 폐루프의 형태로 상기 지지부의 내면에 설치되는 제2 폐쇄부포함하는플라즈마 장치. [청구항7] 제1항에 있어서,상기 플라즈마 소오스는 평균 전압이 일정하게 인가되도록 적어도 일부가 서로 평행하게 연장되는 복수의 안테나 코일포함하는플라즈마 장치. [청구항8] 제1항에 있어서,상기 플라즈마 소오스는 지그재그로 형성되는 안테나 코일을 포함하고,상기 안테나 코일은 상기 척 유니트에 대면되도록 상기 챔버의 외부설치되는플라즈마 장치. [청구항10] 제1항에 있어서,상기 플라즈마 소오스에는 rf 전원에 연결되는 안테나 코일이 마련되고,상기 챔버와 상기 안테나 코일의 사이에는 상기 챔버를 밀봉하는 덮개가 마련되며,상기 덮개의 가장자리 내부에는 강자성체마련되는플라즈마 장치.