탄탈 ＣＭＰ용 조성물 및 방법

[청구항 2] 제1항에 있어서,유기 산화제가 불포화 탄화수소 고리, 불포화 헤테로시클릭 고리, 또는 이의 조합물포함하는조성물. [청구항 3] 제2항에 있어서,헤테로시클릭 고리가 n, o, s, 및 이의 조합물로 이루어진 군 중에서 선택되는 2 개 이상의 헤테로원자포함하는조성물. [청구항 4] 제1항에 있어서,하나 이상의 헤테로원자가n, o, s, 및 이의 조합물로 이루어진 군 중에서 선택되는 3 개 이상의 헤테로원자포함하는조성물. [청구항 5] 제1항에 있어서,유기 산화제가, 애노드 및 캐소드 반응 모두가 관측가능한 순환 전압 전류 곡선으로 특징지어지는,가역적산화환원반응겪을수있는 것인조성물. [청구항 6] 제1항에 있어서,유기 산화제 화합물이 하나 이상의 퀴논 부분을 갖는 화합물, 파라페닐렌디아민 화합물, 페나진 화합물, 티오닌 화합물, 페녹사진 화합물, 페녹사틴 화합물, 인디고 화합물, 인도페놀 화합물, 및 이의 조합물로 이루어진 군 중선택되는조성물. [청구항 7] 제1항에 있어서,유기 산화제가 하나 이상의 산성 치환기 또는 이의 염포함하는조성물. [청구항 8] 제7항에 있어서,하나 이상의 산성 치환기가 카르복실산 치환기, 설폰산 치환기, 포스폰산 치환기, 이의 염, 및 이의 조합물로 이루어진 군 중선택되는조성물. [청구항 9] 제1항에 있어서,유기 산화제가 액체 담체 중 0.1 내지 10 밀리몰 범위의 매개 화합물의 농도존재하는조성물. [청구항 10] 제1항에 있어서,유기 산화제가 하나 이상의 퀴논 부분포함하는조성물. [청구항 11] 제10항에 있어서,유기 산화제 화합물이 안트라퀴논 화합물포함하는조성물. [청구항 12] 제11항에 있어서,안트라퀴논 화합물이 9,10-안트라퀴논-2,6-디설폰산, 9,10-안트라퀴논-2,7-디설폰산, 9,10-안트라퀴논-2-설폰산, 9,10-안트라퀴논-1,8-디설폰산, 9,10-안트라퀴논-1,5-디설폰산, 알리자린, 알리자린 레드 s, 액시드 블루 45, 이의 염, 및 이의 조합물로 이루어진 군 중선택되는조성물. [청구항 13] 제10항에 있어서,유기 산화제가 벤조퀴논 화합물포함하는조성물. [청구항 15] 제10항에 있어서,유기 산화제가나프토퀴논 화합물인조성물. [청구항 16] 제1항에 있어서,유기 산화제의 산화 형태가 양이온성화합물인조성물. [청구항 17] 제1항에 있어서,보조 산화제를더 포함하는조성물. [청구항 18] 제17항에 있어서,보조 산화제가 퍼요오데이트 화합물, 퍼설페이트 화합물, 및 과산화수소로 이루어진 군 중에서 선택되는 1종 이상의 산화제포함하는조성물. [청구항 19] 제1항에 있어서,연마제가 중량 기준으로 0.01 내지 5％ 범위의 총 고체 함량으로 액체 담체에 현탁된조성물. [청구항 20] 제1항에 있어서,연마제가 실리카 연마제, 알루미나 연마제, 지르코니아 연마제, 세리아 연마제, 및 이의 조합물로 이루어진 군 중선택되는조성물. [청구항 21] 제1항에 있어서,연마제가 콜로이드 실리카포함하는조성물. [청구항 22] 제1항에 있어서,유기 산화제가 조성물 중 존재하는 단독산화제인조성물. [청구항 23] 제1항에 있어서,유기 산화제가 구리의 존재 하에 탄탈을 선택적으로산화시킬수있는 것인조성물.