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기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법

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b32c419a-19d5-5b18-88df-7ee5037a96cb
출원번호
1020130133050
출원연도
2013
IPC
C23C
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항1] 내부에 처리 공간이 형성된 챔버와, 상기 챔버의 내부에 위치하며, 기판을 지지하는 서셉터와, 상기 서셉터 상면의 가장자리 영역에 형성되는 복수의 기판 수용홈 각각에 위치하는 원형의 기판 지지판과, 상기 기판 지지판의 가장자리 영역의 상면을 따라 일정 간격으로 형성되는 복수의 가장자리홈과, 상기 기판 지지판의 하부에 배치되어 상기 기판 지지판을 부양 및 회전시키는 가스를 공급하는 가스 공급 라인과, 상기 챔버의 상부에 상기 가장자리홈과 대응되게 위치되어, 상기 기판 지지판의 회전속도를 측정하는 센서를 포함하는 기판 처리 장치 [청구항2] 제 1항에 있어서,상기 센서는,상기 기판 지지판이 회전함에 따라 일정 시간 동안 회전되는 상기 가장자리홈의 개수팅하는기판 처리 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
기판 처리 장치에서 센서가 기판 지지판의 회전속도를 측정하기 위해 활용하는 구성요소와 그 측정 방식은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    센서가 기판 지지판의 회전속도를 측정하는 구성요소와 방식을 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    센서의 위치, 대상 구성요소, 측정 원리에 관한 정보를 추출한다.

    • 상기 챔버의 상부에 상기 가장자리홈과 대응되게 위치되어
    • 상기 기판 지지판의 회전속도를 측정하는 센서
    • 상기 기판 지지판이 회전함에 따라 일정 시간 동안 회전되는 상기 가장자리홈의 개수
  3. 3근거 선택evidence_selection

    회전속도 측정 메커니즘과 직접 관련된 가장자리홈과 센서의 관계를 선택한다.

    • 상기 기판 지지판의 가장자리 영역의 상면을 따라 일정 간격으로 형성되는 복수의 가장자리홈
    • 상기 기판 지지판이 회전함에 따라 일정 시간 동안 회전되는 상기 가장자리홈의 개수
  4. 4논리 통합logical_integration

    기판 지지판에 형성된 가장자리홈이 회전할 때, 대응 위치의 센서가 홈의 개수를 세어 속도를 산출함을 연결한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    센서는 가장자리홈과 대응되는 위치에서 홈의 개수를 계수함으로써 회전속도를 측정한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 적합한 형태로 최종 답변을 작성한다.

근거 (evidence)
  • 상기 챔버의 상부에 상기 가장자리홈과 대응되게 위치되어
  • 상기 기판 지지판의 회전속도를 측정하는 센서
  • 상기 기판 지지판이 회전함에 따라 일정 시간 동안 회전되는 상기 가장자리홈의 개수
  • 상기 기판 지지판의 가장자리 영역의 상면을 따라 일정 간격으로 형성되는 복수의 가장자리홈
최종 답변 (final_answer)
기판 처리 장치에서 센서는 기판 지지판의 가장자리 영역 상면에 일정 간격으로 형성된 복수의 가장자리홈과 대응되는 위치에 배치된다. 센서는 기판 지지판이 회전함에 따라 일정 시간 동안 회전되는 가장자리홈의 개수를 계수하는 방식으로 기판 지지판의 회전속도를 측정한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
센서가 기판 지지판의 가장자리홈과 대응 위치에서 홈의 개수를 계수하여 회전속도를 측정하는 구조이다.