전자 장치에서 전자이동을 최소화하는 방법

[청구항 8] 제1항에 있어서,성분(a)가,(i) 지방족 또는 지환족 그룹이 하나 이상의 화학식 i의 그룹에 의해 치환된 지방족 또는 지환족 모노-카복실산 또는 폴리-카복실산,(ii) 화학식 ii의 화합물, 화학식 iii의 화합물 및 이들의 배합물로부터 선택된 티오우레아 유도체,(iii) 화학식 iv의 화합물, 화학식 v의 화합물 및 이들의 배합물로부터 선택된 벤조티아졸 유도체,(iv) 화학식 vi의 디알킬디티오카밤산,(v) 화학식 vii의 o-알킬크산트산 유도체,(vi) 화학식 viii의 헤테로사이클릭 화합물,(vii) 화학식 ix의 머캅토벤조티아졸의 아민염 유도체,(viii) 화학식 x의 2,5-비스-하이드로카빌디티오-1,3,4-티아디아졸,(ix) 화학식 xi의 머캅토티아졸 및(x) 화학식 xii의 이미다졸린으로부터 선택되는, 전자 회로에서 ag의 전자이동을 최소화하는 방법.화학식 i화학식 ii화학식 iii화학식 iv화학식 v화학식 vi화학식 vii화학식 viii화학식 ix화학식 x화학식 xi화학식 xii위의 화학식 i 내지 xii에서, rl은 각각 독립적으로 수소원자, 알킬 그룹, 할로겐화 알킬 그룹, 알콕시 그룹, 알킬티오 그룹, 알킬설포닐 그룹, 사이클로알킬 그룹, 페닐 그룹, 알킬페닐 그룹, 페닐알킬 그룹, 할로겐원자, -cn, -no2, -cooh, -coo-알킬, -oh, 1급 아미노, 2급 아미노, 3급 아미노 또는 카바모일 그룹이고,r2는 탄소원자, 산소원자, 황원자 또는 nh이고, r3은 지방족 또는 지환족 모노-카복실산 또는 폴리-카복실산 함유 화합물이며,r4, r5 및 r6은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 아세틸 및 알케닐로부터 선택되고, r7은 수소원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 아세틸, 알케닐 또는 -nh2이며,r8은 탄소수 2 이상의 2가 탄화수소 그룹이고,r9는 수소원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, -sh, -sch2ch2ch2so3na, -nh2, -nhch3 또는 -n(ch3)2이며, r10은 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 알케닐 또는 카복시알킬이고,r11은 할로겐원자 또는 설페이트를 포함하는 음이온이며,r12 및 rl3은 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹이고, rl4는 -s- 또는 -sch2ch2ch2so3-이며, r15는 수소원자, 암모늄, 나트륨 또는 칼륨이고,r16은 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹이며,r17은 탄소수 1 내지 30의 알킬 그룹이고,rl8은 탄소원자, 산소원자 또는 황원자이며,r19는 탄소수 4 내지 30의 알킬 또는 알케닐 그룹이고,r2o 및 r21은 각각 독립적으로 탄소수 4 내지 30의 알킬 그룹 또는 탄소수 4 내지 30의 알케닐 그룹이며,r22 및 r23은 각각 독립적으로 수소원자 및 알킬 그룹으로부터 선택되고,r24는 각각 독립적으로 수소원자 또는 알킬 그룹이며, r25는 분자량 75 미만의 그룹탄소수 8 내지 20의 탄화수소 그룹이다. [청구항 13] 전면 유리 시트(i), 전면 유리 시트와 마주보는 후면 유리 시트(ii), 전면 유리 시트와 후면 유리 시트 중의 하나 이상에 피복되고, 비처리 가장자리 부분과 피복된 부분을 갖는 ag 전극(iii), ag 전극의 피복된 부분을 덮고 있는 절연층(iv) 및 ag 전극의 가장자리 부분에 걸쳐 도포된 전자이동 방지 조성물(v)을 포함하고, 상기 전자이동 방지 조성물(v)이 전자이동 방지제(a), 오가노실란(b) 및 탄화수소, 실리콘 오일 및 이들의 배합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 담체(d)를 포함하는, 플라즈마 디스플레이 패널 [청구항 14] 제13항에 있어서,전극에 걸쳐 비등방성 전도성 막을 추가포함하는,플라즈마 디스플레이 패널. [청구항 16] 제5항에 있어서,성분(a)가,(i) 지방족 또는 지환족 그룹이 하나 이상의 화학식 i의 그룹에 의해 치환된 지방족 또는 지환족 모노-카복실산 또는 폴리-카복실산,(ii) 화학식 ii의 화합물, 화학식 iii의 화합물 및 이들의 배합물로부터 선택된 티오우레아 유도체,(iii) 화학식 iv의 화합물, 화학식 v의 화합물 및 이들의 배합물로부터 선택된 벤조티아졸 유도체,(iv) 화학식 vi의 디알킬디티오카밤산,(v) 화학식 vii의 o-알킬크산트산 유도체,(vi) 화학식 viii의 헤테로사이클릭 화합물,(vii) 화학식 ix의 머캅토벤조티아졸의 아민염 유도체,(viii) 화학식 x의 2,5-비스-하이드로카빌디티오-1,3,4-티아디아졸,(ix) 화학식 xi의 머캅토티아졸 및(x) 화학식 xii의 이미다졸린으로부터 선택되는, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.화학식 i화학식 ii화학식 iii화학식 iv화학식 v화학식 vi화학식 vii화학식 viii화학식 ix화학식 x화학식 xi화학식 xii위의 화학식 i 내지 xii에서, rl은 각각 독립적으로 수소원자, 알킬 그룹, 할로겐화 알킬 그룹, 알콕시 그룹, 알킬티오 그룹, 알킬설포닐 그룹, 사이클로알킬 그룹, 페닐 그룹, 알킬페닐 그룹, 페닐알킬 그룹, 할로겐원자, -cn, -no2, -cooh, -coo-알킬, -oh, 1급 아미노, 2급 아미노, 3급 아미노 또는 카바모일 그룹이고,r2는 탄소원자, 산소원자, 황원자 또는 nh이고, r3은 지방족 또는 지환족 모노-카복실산 또는 폴리-카복실산 함유 화합물이며,r4, r5 및 r6은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 아세틸 및 알케닐로부터 선택되고, r7은 수소원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 아세틸, 알케닐 또는 -nh2이며,r8은 탄소수 2 이상의 2가 탄화수소 그룹이고,r9는 수소원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, -sh, -sch2ch2ch2so3na, -nh2, -nhch3 또는 -n(ch3)2이며, r10은 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 알케닐 또는 카복시알킬이고,r11은 할로겐원자 또는 설페이트를 포함하는 음이온이며,r12 및 rl3은 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹이고, rl4는 -s- 또는 -sch2ch2ch2so3-이며, r15는 수소원자, 암모늄, 나트륨 또는 칼륨이고,r16은 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹이며,r17은 탄소수 1 내지 30의 알킬 그룹이고,rl8은 탄소원자, 산소원자 또는 황원자이며,r19는 탄소수 4 내지 30의 알킬 또는 알케닐 그룹이고,r2o 및 r21은 각각 독립적으로 탄소수 4 내지 30의 알킬 그룹 또는 탄소수 4 내지 30의 알케닐 그룹이며,r22 및 r23은 각각 독립적으로 수소원자 및 알킬 그룹으로부터 선택되고,r24는 각각 독립적으로 수소원자 또는 알킬 그룹이며, r25는 분자량 75 미만의 그룹탄소수 8 내지 20의 탄화수소 그룹이다. [청구항 19] 제13항에 있어서,성분(a)가,(i) 지방족 또는 지환족 그룹이 하나 이상의 화학식 i의 그룹에 의해 치환된 지방족 또는 지환족 모노-카복실산 또는 폴리-카복실산,(ii) 화학식 ii의 화합물, 화학식 iii의 화합물 및 이들의 배합물로부터 선택된 티오우레아 유도체,(iii) 화학식 iv의 화합물, 화학식 v의 화합물 및 이들의 배합물로부터 선택된 벤조티아졸 유도체,(iv) 화학식 vi의 디알킬디티오카밤산,(v) 화학식 vii의 o-알킬크산트산 유도체,(vi) 화학식 viii의 헤테로사이클릭 화합물,(vii) 화학식 ix의 머캅토벤조티아졸의 아민염 유도체,(viii) 화학식 x의 2,5-비스-하이드로카빌디티오-1,3,4-티아디아졸,(ix) 화학식 xi의 머캅토티아졸 및(x) 화학식 xii의 이미다졸린으로부터 선택되는, 플라즈마 디스플레이 패널.화학식 i화학식 ii화학식 iii화학식 iv화학식 v화학식 vi화학식 vii화학식 viii화학식 ix화학식 x화학식 xi화학식 xii위의 화학식 i 내지 xii에서, rl은 각각 독립적으로 수소원자, 알킬 그룹, 할로겐화 알킬 그룹, 알콕시 그룹, 알킬티오 그룹, 알킬설포닐 그룹, 사이클로알킬 그룹, 페닐 그룹, 알킬페닐 그룹, 페닐알킬 그룹, 할로겐원자, -cn, -no2, -cooh, -coo-알킬, -oh, 1급 아미노, 2급 아미노, 3급 아미노 또는 카바모일 그룹이고,r2는 탄소원자, 산소원자, 황원자 또는 nh이고, r3은 지방족 또는 지환족 모노-카복실산 또는 폴리-카복실산 함유 화합물이며,r4, r5 및 r6은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 아세틸 및 알케닐로부터 선택되고, r7은 수소원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 아세틸, 알케닐 또는 -nh2이며,r8은 탄소수 2 이상의 2가 탄화수소 그룹이고,r9는 수소원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, -sh, -sch2ch2ch2so3na, -nh2, -nhch3 또는 -n(ch3)2이며, r10은 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 알케닐 또는 카복시알킬이고,r11은 할로겐원자 또는 설페이트를 포함하는 음이온이며,r12 및 rl3은 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹이고, rl4는 -s- 또는 -sch2ch2ch2so3-이며, r15는 수소원자, 암모늄, 나트륨 또는 칼륨이고,r16은 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹이며,r17은 탄소수 1 내지 30의 알킬 그룹이고,rl8은 탄소원자, 산소원자 또는 황원자이며,r19는 탄소수 4 내지 30의 알킬 또는 알케닐 그룹이고,r2o 및 r21은 각각 독립적으로 탄소수 4 내지 30의 알킬 그룹 또는 탄소수 4 내지 30의 알케닐 그룹이며,r22 및 r23은 각각 독립적으로 수소원자 및 알킬 그룹으로부터 선택되고,r24는 각각 독립적으로 수소원자 또는 알킬 그룹이며, r25는 분자량 75 미만의 그룹탄소수 8 내지 20의 탄화수소 그룹이다. [청구항 20] 제13항에 있어서,성분(b)가 알콕시실란, 아미노 알킬 실란, 에폭시 알킬 실란, 머캅토 알킬 실란 또는 이들의 배합물포함하는,플라즈마 디스플레이 패널. [청구항 21] 제13항에 있어서,루이스산; 1급, 2급 또는 3급 유기 아민; 금속 산화물; 티탄 화합물; 주석 화합물; 지르코늄 화합물 및 이들의 배합물로부터 선택된 촉매를 포함하는 성분(c)를 추가포함하는,플라즈마 디스플레이 패널.