플라즈마 처리 시스템에서 에칭 종점을 결정하기 위한방법 및 장치

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 보상전압이 상기 제1 dc전원을 상기 제1 전류 및 상기 제2 전류가 상기 에칭공정동안 실질적으로 일정하게 유지하도록바이어스시키는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 정전척이 상기 제1dc전원에 결합된 제2극을 포함하며, 상기 종점지정 장치가 상기 제2극에 공급되는 제2전류를 모니터링하기 위하여 상기 제2극 및 상기 제1dc전원사이에 결합되며 상기 제2전류를 나타내는 제2신호를 출력하는 제2전류모니터링 회로를 더 포함하며, 상기 가변dc전원에 의해 출력된 상기 보상 전압이상기제1신호와상기제2신호모두반응하는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 가변dc전원에 의해 출력된 상기 보상전압이 부호는 반대이나 실질적으로 동일한 상기 제1전류 및 상기 제2전류를 유지하기형성된것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 16] 제14항에 있어서,상기 가변dc전원에 의해 출력된 상기 보상전압이 상기 제1 전류 및 상기 제2전류의 크기가 동일한가에 무관하게 상기 에칭동안 상기 제1전류 및 상기 제2전류를 실질적으로 일정하게 유지하기형성된것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 17] 제14항에 있어서,상기 제1전류 모니터링 회로 및 상기 제2전류 모니터링 회로에 결합된 차동 증폭기를 더 포함하며, 상기 차동 증폭기가 입력으로 상기 제1신호 및 상기 제2신호를 수용하고 그리고 상기 가변 dc전원에 의해 출력된 상기 보상전압이 상기 제1신호 및 상기 제2신호 모두에 반응하게 가변되도록 상기 가변 dc전원에제어신호출력하는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 18] 제14항에 있어서,상기 종점지정 모니터링 회로가 일반용도마이크로컴퓨터포함하는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 19] 제14항에 있어서,상기 정전척이 잔센-라벡척인것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 20] 제14항에 있어서,상기 기판이 상기 타겟층 아래에전도성층포함하는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 21] 제14항에 있어서,상기 기판이 상기 타겟층 아래에유전체층포함하는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 22] 제14항에 있어서,상기 타겟층이 실리콘 이산화물-함유층이며, 상기 기판이 상기 타겟층 아래에유전체층더포함하는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 24] 제23항에 있어서,상기 정전척이 상기 제1dc전원에 연결된 제2극을 포함하며, 상기 종점지정 장치가상기 제2극에 공급되는 제2전류를 모니터링하기 위한 것으로서 상기 제2극 및 상기 제1dc전원사이에 연결되며 상기 제2전류를 나타내는 제2신호를 출력하는 제2전류모니터링 회로를 더 포함하며, 상기 종점지정 모니터링 회로가 상기 제2신호를 제2입력으로서 수신하며상기제1신호및상기제2신호모두반응하는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 25] 제23항에 있어서,상기 정전척이단자극정전척인것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 27] 제26항에 있어서,상기 정전척이 잔센-라벡척인것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 28] 제26항에 있어서,상기 기판이 상기 타겟층 아래에전도성층포함하는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 29] 제26항에 있어서,상기 기판이 상기 타겟층 아래에유전체층포함하는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 34] 제33항에 있어서,상기 기판의 상기 전위를 반영하는 상기 신호가 상기 기판과 접촉하는 탐침에 의해지는것을특징으로 하는종점지정 장치. [청구항 36] 제35항에 있어서,상기 정전척은 상기 제1dc전원에 연결되는 제2극을 포함하며, 상기 정전척 전원은 상기 제1dc전원에 연결되어 상기 제2극에 공급되는 제2전류를 모니터링하며 상기 제2전류를 나타내는 제2신호를 출력하는 제2전류모니터링 회로를 더 포함하고, 상기 가변dc전원에 의해 출력되는 상기 보상 전압이상기제1신호와상기제2신호모두반응하는것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 37] 제36항에 있어서,상기 가변dc전원에 의해 출력되는 상기 보상전압은 상기 제1전류 및 상기 제2전류를 실질적으로 동일하나 반대 부호로 유지하도록형성된것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 38] 제36항에 있어서,상기 가변dc전원에 의해 출력되는 상기 보상전압은 상기 제1전류 및 상기 제2전류의 크기가 동일한가에 무관하게 상기 에칭 동안 상기 제1전류 및 상기 제2전류를 실질적으로 일정하게 유지하도록형성된것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 39] 제36항에 있어서,상기 제1전류 모니터링 회로 및 상기 제2전류 모니터링 회로에 연결되는 차동 증폭기를 더 포함하며, 상기 차동 증폭기가 상기 제1신호 및 상기 제2신호를 입력으로서 수신하고 그리고 제어 신호를 상기 가변 dc전원에 출력하여 상기 가변 dc전원에 의해 출력되는 상기 보상전압이 상기 제1신호 및 상기 제2신호 모두에 반응하여가변하는것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 40] 제36항에 있어서,상기 종점지정 모니터링 회로가컴퓨터시스템활용하는것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 41] 제36항에 있어서,상기 정전척이 잔센-라벡척인것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 42] 제36항에 있어서,상기 기판이 상기 타겟층 아래에전도성층포함하는것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 43] 제36항에 있어서,상기 기판이 상기 타겟층 아래에유전체층포함하는것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 45] 제44항에 있어서,상기 정전척은 상기 제1dc전원에 연결되는 제2극을 포함하며, 상기 정전척 전원은 상기 제2극에 공급되는 제2전류를 모니터링하기 위하여 상기 제1dc전원에 연결되어 상기 제2전류를 나타내는 제2신호를 출력하는 제2전류 모니터링 회로를 더 포함하고, 상기 종점지정 모니터링 회로는 상기 제2신호를 제2입력으로 수신하되, 상기 종점신호가상기제1신호및상기제2신호모두반응하는것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 46] 제44항에 있어서,상기 정전척이단자극정전척인것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 51] 제50항에 있어서,상기 기판의 전위를 반영하는 상기 신호는 상기 기판과 접촉하는 탐침에 의해지는것을특징으로 하는컴퓨터 시스템용 정전척 전원. [청구항 53] 제52항에 있어서,상기 보상전압이 상기 제1dc전원을 바이어스하여 상기 에칭공정중 상기 제1전류와 상기 제2전류를 실질적으로 일정하게유지시키는것을특징으로 하는정전척 전원.