조립성이 개선된 샤워헤드를 갖는 반도체 제조설비

[청구항1] 소정의 반응가스가 공급되는 가스공급라인이 설치되고, 천장면에 걸침면이 형성된 걸침부를 갖는 챔버; 및 상기 챔버 내부에 설치되되, 상기 걸침부의 걸침면에 걸쳐져 고정설치되도록 걸림부가 형성된 샤워헤드를 포함하는 것을 특징으로 하는 조립성이 개선된 샤워헤드를 갖는 반도체 제조설비 [청구항2] 제 1항에 있어서,상기 샤워헤드는 상기 걸침부의 걸침면에 걸쳐져 고정설치되되, 상기 샤워헤드 상면과 상기 챔버의 천장면 사이에 상기 걸침면과 상기 걸림부가 걸쳐져 밀착되도록 탄성부재가 추가로 개재되는 것을 특징으로 하는 조립성이 개선된 샤워헤드갖는반도체 제조설비. [청구항3] 제 2항에 있어서,상기 탄성부재는 상기 샤워헤드 상면과 상기 챔버의 천장면 사이에 개재되되, 상기 샤워헤드 상면에 설치되어 개재되는 것을 특징으로 하는 조립성이 개선된 샤워헤드갖는반도체 제조설비. [청구항4] 제 1항에 있어서,상기 샤워헤드는 상기 챔버의 상기 걸침부에 걸쳐져 고정될 경우, 상기 걸침부 내부에 형성되어 상기 가스공급라인과 연통되는 제 1가스공급홀과, 상기 샤워헤드의 상기 걸림부 내부에 형성된 제 2가스공급홀이 연통되어 상기 샤워헤드의 분사구를 통하여 상기 반응가스가 분사되도록 형성된 것을 특징으로 하는 조립성이 개선된 샤워헤드갖는반도체 제조설비. [청구항5] 제 1항에 있어서,상기 챔버의 상기 걸침부와 상기 샤워헤드의 상기걸림부는 방사형으로 형성된 것을 특징으로 하는 조립성이 개선된 샤워헤드갖는반도체 제조설비.