자동 도핑 및 후면 증착의 감소를 위한 기판 지지 시스템

[청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 기판 홀더의 중심부의 상부면오목한(concave) 기판 지지 시스템. [청구항 3] 제 1항에 있어서,상기 기판 홀더의 중심부의 상부면대체로 평평한기판 지지 시스템. [청구항 4] 제 1항에 있어서,적어도 하나의 스페이서는 기판 홀더의 중심부를 집합적으로 에워싸는 복수의 스페이서들포함하는기판 지지 시스템. [청구항 5] 제 1항에 있어서,상기 기판 홀더는 서셉터포함하는기판 지지 시스템. [청구항 6] 제 1항에 있어서,상기 가스 컨베이어는 실질적으로 수직의 공동(hollow) 튜브를 포함하며, 상기 가스 컨베이어의 출구는 튜브의 개방된 상부 말단포함하는기판 지지 시스템. [청구항 7] 제 1항에 있어서,상기 갭 구역은 실질적으로 균일한 높이갖는기판 지지 시스템. [청구항 8] 제 1항에 있어서,상기 공동의 지지 부재의 입구는 가스 컨베이어의 출구와 연결되도록 구성되어, 가스 컨베이어의 수직 축에 대한 회전으로 공동의 지지 부재와 기판 홀더가 가스 컨베이어함께 회전하게 되는기판 지지 시스템. [청구항 9] 제 1항에 있어서,기판 홀더가 상기 공동의 지지 부재 위에 위치할 때, 상기 공동의 지지 부재는 기판 홀더의 하나 이상의 통로들로가스유도하도록구성된기판 지지 시스템. [청구항 10] 제 1항에 있어서,적어도 하나의 스페이서는, 서로에 대해 간격을 두고 위치하며 대체로 평행한 베인(vane) 링을 포함하고, 각 베인은 베인 링의 중심에 대하여 각이루는기판 지지 시스템. [청구항 11] 제 10항에 있어서,상기 베인은직선인기판 지지 시스템. [청구항 12] 제 10항에 있어서,상기 베인은곡선인기판 지지 시스템. [청구항 13] 제 1항에 있어서,적어도 하나의 스페이서는 복수의 스페이서들을 포함하고, 상기 스페이서의 상부 지지면이 기판의 말단 부위를 지지할 때, 상기 공동의 지지 부재 및 기판 홀더의 수직 중심 축에 대한 제 1 회전 방향으로의 회전은 스페이서들로 하여금 스페이서들 사이로 방사상 내부 방향으로의 가스 흐름을 실질적으로 막아내고, 상기 공동의 지지 부재 및 기판 홀더의 수직 중심 축에 대한 제 2 회전 방향으로의 회전은 스페이서들로 하여금 스페이서들 사이로 방사상 외부 방향으로의 가스 흐름을 실질적으로 막아내며, 상기 제 2 회전 방향은 상기 제 1 회전 방향반대인기판 지지 시스템. [청구항 14] 제 1항에 있어서,상기 공동의 지지 부재는 공동의 몸체 및 상기 공동의 몸체로부터 대체로 방사상 외부 및 상방으로 연장되는 복수의 튜브들을 포함하며, 상기 공동의 지지 부재의 입구는 대체로 상기 공동의 몸체의 하부면 또는 말단 상에 위치하고, 상기 공동의 지지 부재의 하나 이상의 상부 개방 말단은 튜브의 상부 말단포함하는기판 지지 시스템. [청구항 15] 제 14항에 있어서,상기 통로들은 제 1, 제 2 및 제 3 통로 세트로 이루어지고, 상기 제 1 통로 세트는 튜브들의 상부 말단으로부터의 가스를 수용하도록 구성되며, 상기 제 2 통로 세트는 상기 제 1 통로 세트의 방사상 내부 방향에 위치하고, 상기 제 3 통로 세트는 상기 제 1 통로 세트의 방사상 외부 방향에 위치하며, 제 2 통로 세트 각각은 통로의 하부 말단의 방사상 외부 방향에 위치하는 상부 말단을 가지며, 제 3 통로 세트 각각은 통로의 하부 말단의 방사상 내부 방향에 위치하는 상부 말단가지는기판 지지 시스템. [청구항 16] 제 14항에 있어서,상기 복수의 튜브들은 3개의 튜브구성되는기판 지지 시스템. [청구항 17] 제 14항에 있어서,상기 튜브의 상부 말단 각각은 기판 홀더 중심부의 하부면 내에서 대응하는 리세스 내에 수용되도록 구성되고, 상기 대응하는 리세스는 기판 홀더의 중심부의 통로들 중 적어도 하나의 하부 말단포함하는기판 지지 시스템. [청구항 18] 제 1항에 있어서,상기 공동의 지지 부재 중 하나 이상의 상부 개방 말단은, 기판 홀더를 안정하게 지지하도록 구성된 상부 에지를 가진 환상 벽(annular wall)에 의해 규정되는 하나의 개방말단으로 이루어진기판 지지 시스템. [청구항 19] 제 18항에 있어서,상기 공동의 지지 부재는 대체로 수평 기저 부재와 환상 벽을 포함하며, 상기 환상 벽은 기저 부재로부터 상방연장되는기판 지지 시스템. [청구항 20] 제 18항에 있어서,상기 하나의 개방 말단은 적어도 9개의 통로들의 하부 말단에 가스공급하는기판 지지 시스템. [청구항 21] 제 18항에 있어서,상기 통로들의 적어도 하나의 하부 말단은 상기 환상 벽의 방사상 외부 방향위치하는기판 지지 시스템. [청구항 22] 제 1항에 있어서,상기 기판 홀더는 적어도 하나의 스페이서를 에워싸는 환상 견부(annular shoulder)를 추가포함하는기판 지지 시스템. [청구항 23] 제 1항에 있어서,상기 복수의 통로들은 9 내지 250개의 통로들이루어진기판 지지 시스템. [청구항 24] 제 1항에 있어서,상기 기판 홀더의 중심부의 하부면은 0.01 내지 3.0 통로/cm2의 통로 밀도갖는기판 지지 시스템. [청구항 25] 제 1항에 있어서,가스 컨베이어를 추가로포함하는기판 지지 시스템. [청구항 26] 제 1항에 있어서,상기 공동의 지지 부재의 입구는 실질적으로 유체가 새지 않는 방법으로 가스 컨베이어의 출구와 연결되기에 적합화되고, 상기 공동의 지지 부재의 하나 이상의 상부 개방 말단은 실질적으로 유체가 새지 않는 방법으로 기판 홀더의 중심부의 하나 이상의 통로들로 가스를 상방으로 운반하기에 적합화되는기판 지지 시스템. [청구항 27] 제 1항에 있어서,상기 하나 이상의 통로들은 수직에 대하여 각위치하는기판 지지 시스템. [청구항 29] 제 28항에 있어서,상기 중심부의 하부면은, 각각 크기가 조절되고 상기 팔의 상부 말단 중 하나를 수용하도록 구성된 복수의 리세스들을 포함하며, 상기 리세스 각각은 적어도 하나의 통로들의 하부 말단포함하는기판 지지 시스템. [청구항 31] 제 30항에 있어서,상기 공동의 지지 부재의 상부 개구부는 기판 홀더의 하부면의적어도대부분부위에놓여지는기판 지지 시스템. [청구항 32] 제 30항에 있어서,상기 기판 홀더 중심부의 적어도 하나의 통로는 공동의 지지 부재 내부가 아닌 구역으로 개방된 하부 말단갖는기판 지지 시스템. [청구항 33] 제 30항에 있어서,상기 기판 홀더 중심부의 모든 통로들은 공동의 지지 부재의 내부로 개방된 하부 말단갖는기판 지지 시스템.