염료-함유 유기-무기 혼성 물질을 방출층으로서 갖는전자발광소자

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 유기-무기 혼성 물질은 금속 할라이드 프레임 워크(framework)로 이루어지는 무기 성분갖는소자 [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 유기-무기 혼성 물질은 페로브스카이트인소자 [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 염료 물질은 가시 영역에서 형광발하는소자 [청구항 5] 제3항에 있어서,상기 페로브스카이트는 일반식 (rnh3)2(ch3nh3)n-1mnx3n+1(여기서 r은 유기기; m은 2가 금속, x는 할로겐이며, n은 1이상인 정수갖는소자 [청구항 6] 제3항에 있어서,상기 페로브스카이트는 일반식 (nh3-r-nh3)(ch3nh3)n-1mnx3n+1(여기서 r은 유기기, m은 2가 금속, x는 할로겐이며, n은 1이상인 정수갖는소자 [청구항 7] 제4항에 있어서,상기 염료 성분은 톨란(tolan), 티오크산톤, 쿠마린, 페리렌, 옥사디아졸, 폴리엔, 올리고티오펜, 올리고페닐렌, 페닐렌 비닐렌, 티오펜 비닐렌 및 그 혼합물로 이루어지는 군선택된소자 [청구항 8] 제4항에 있어서,상기 염료 성분은 5,5'''-비스(아미노에틸)-2,2':5',2":5",2"'-쿼터티오펜인소자 [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 유기-무기 혼성 물질은 금속 할라이드 프레임워크로 이루어진 무기 성분갖는소자 [청구항 11] 제9항에 있어서,상기 유기-무기 혼성 물질은 페로브스카이트인소자 [청구항 12] 제9항에 있어서,상기 염료 물질은 가시 영역에서 형광발하는소자 [청구항 13] 제11항에 있어서,상기 페로브스카이트는 일반식 (rnh3)2(ch3nh3)n-1mnx3n+1(여기서 r은 유기기; m은 2가 금속, x는 할로겐이며, n은 1이상인 정수갖는소자 [청구항 14] 제11항에 있어서,상기 페로브스카이트는 일반식 (nh3-r-nh3)(ch3nh3)n-1mnx3n+1(여기서 r은 유기기, m은 2가 금속, x는 할로겐이고, n은 1이상인 정수갖는소자 [청구항 15] 제12항에 있어서,상기 염료 성분은 톨란, 티오크산톤, 쿠마린, 페리렌, 옥사디아졸, 폴리엔, 올리고티오펜, 올리고페닐렌, 페닐렌 비닐렌, 티오펜 비닐렌 및 그 혼합물로 이루어지는 군선택된소자 [청구항 16] 제12항에 있어서,상기 염료 성분은 5,5'''-비스(아미노에틸)-2,2':5',2":5",2"'-쿼터티오펜인소자 [청구항 17] 제9항에 있어서,상기 염료 성분 농도는 전체 유기 성분을 기준으로 0이상이하인소자 [청구항 18] 제9항에 있어서,상기 염료 성분 농도는 전체 유기 성분을 기준으로 0이상이하인소자 [청구항 19] 제9항에 있어서,상기 비활성 물질은 1,6-비스(5'-(2"아미노에틸)-2'-티에닐)헥산(aeth), 페네틸아민(pea), 부틸 디아민(bda), 기타 알킬 아민 및 톨란, 티오크산톤, 쿠마린, 페리렌, 옥사디아졸, 폴리엔, 올리고티오펜, 올리고페닐렌, 페닐렌 비닐렌, 티오펜 비닐렌의 변형된 (컨쥬게이트되지 않은) 염료 분자 유도체로 이루어진 군선택된소자