기판 처리 장치 및 방법

[청구항 1] 기판을 처리하는 장치에 있어서, 복수의 기판들을 수납하는 카세트의 로딩 및 언로딩이 이루어지는 로딩/언로딩부와, 기판처리공정을 수행하는 적어도 하나의 공정 챔버를 구비하는 공정 처리부와, 상기 로딩/언로딩부 및 상기 공정 처리부 상호간에 기판을 이송하는 기판 이송부, 그리고 상기 기판 이송부 내 공기의 산성도를 조절하는 산성도 조절부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 기판 이송부는,상기 로딩/언로딩부에 안착된 카세트로/로부터 기판을 이송하는 이에프이엠과,상기 이에프이엠과 인접하게 배치되는 로드락 챔버와,상기 로드락 챔버와 상기 공정 챔버 상호간에 기판을 이송하는 트랜스퍼 챔버를 포함하고,상기 산성도 조절부재는,상기 이에프이엠에 구비되어 상기 이에프이엠내공기의산성도조절하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 산성도 조절부재는,상기 이에프이엠 내 공기를 상기 이에프이엠 외부로 배출시키는 배출부재와,상기 이에프이엠 내 공기의 산성도를 측정하는 산성도 측정기, 그리고상기 산성도 측정기가 측정한 산성도값이 기설정된 산성도값을 벗어나는지 여부를 판단하여 상기 배출부재의 공기 배기량을 조절하는제어부포함하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항 4] 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 배출부재는,상기 이에프이엠 내부로 외부 공기를 유입시키는 유입부재 및;상기 이에프이엠 내 공기를 상기 이에프이엠으로부터 유출시키는 유출부재를 포함하고,상기 제어부는,상기 산성도 측정기가 측정한 산성도값이 기설정된 산성도값 보다 높으면,상기유입부재의공기유입량및상기유출부재의공기유출량증가시키는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 유입부재 및 상기 유출부재 중적어도 어느 하나는,적어도 하나의 팬을 구비하고,상기 제어부는,상기팬의회전속도조절하는것을특징으로 하는기판 처리 장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 기판 처리 장치는,상기 이에프이엠과 인접하게 배치되어, 기판에 잔류하는 가스를 기판으로부터 제거시키는 잔류가스 배기부재를 더 포함하고,상기 이에프이엠은,내부에 기판을 이송하는 공간을 제공하는 하우징과,내부에 반도체 기판의 이송을 수행하는 적어도 하나의 로봇암, 그리고상기 가스 제거 부재와 상기 하우징 상호간의 기판의 출입이 이루어지는 기판 출입구를 개폐하는 개폐부재를 포함하되,상기 산성도 측정기는,상기 기판 출입구와 인접하게설치되는것을특징으로 하는기판 처리 장치.