최종산출물 · 특허 지식베이스

레지스트 패턴 후막화 재료, 레지스트 패턴의 형성 방법,반도체 장치 및 그 제조 방법

uuid
cfec9ceb-deea-5b86-99de-20d65c5fb85b
출원번호
1020050116202
출원연도
2005
IPC
C08L
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항2] 제1항에 있어서,용해제가 그의 융점±20℃ 이내에서 레지스트 패턴을 용해 가능하고, 상기 융점이50내지인것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료. 제1항에 있어서,용해제가 융점±20℃ 이내에서레지스트패턴을용해가능한것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료. [청구항3] 제1항 또는 제2항에 있어서,용해제가 유기물이며, 상기 유기물이 알코올, 카르복실산 및 아민으로부터 선택되는1종이상인것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료. 제1항 또는 제2항에 있어서,용해제가 유기물이며, 상기 유기물이 알코올, 카르복실산 및 아민으로부터 선택되는1종이상인것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료. [청구항4] 제1항 또는 제2항에 있어서,용해제가 유기물이며, 상기 유기물이 유기염이며, 상기 유기염의 산 성분이 트리플루오로메탄술폰산및톨루엔술폰산중하나이상인것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료. 제1항 또는 제2항에 있어서,용해제가 유기물이며, 상기 유기물이 유기염이며, 상기 유기염의 산 성분이 트리플루오로메탄술폰산및톨루엔술폰산중하나이상인것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료. [청구항5] 제1항 또는 제2항에 있어서,용해제가 유기물이며, 상기 유기물이 유기염이며, 상기 유기염의 알칼리 성분이벤질트리에틸암모늄및메톡시벤질아민중하나이상인것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료. 제1항 또는 제2항에 있어서,용해제가 유기물이며, 상기 유기물이 유기염이며, 상기 유기염의 알칼리 성분이벤질트리에틸암모늄및메톡시벤질아민중하나이상인것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료. [청구항6] 제1항 또는 제2항에 있어서,수용성 성분이 폴리비닐알코올, 폴리비닐아세탈, 폴리비닐피롤리돈, 셀룰로오스, 및 탄닌으로부터 선택되는1종이상인것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료. 제1항 또는 제2항에 있어서,수용성 성분이 폴리비닐알코올, 폴리비닐아세탈, 폴리비닐피롤리돈, 셀룰로오스, 및 탄닌으로부터 선택되는1종이상인것을특징으로 하는레지스트 패턴 후막화 재료.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
레지스트 패턴 후막화 재료에서 용해제가 유기염인 경우, 해당 유기염을 구성하는 산 성분과 알칼리 성분은 각각 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    용해제가 유기염일 때의 산 성분과 알칼리 성분을 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 4와 청구항 5에서 유기염의 성분에 관한 정보를 추출한다.

    • 용해제가 유기물이며, 상기 유기물이 유기염이며
    • 상기 유기염의 산 성분이 트리플루오로메탄술폰산및톨루엔술폰산중하나이상인것을특징으로 하는
    • 상기 유기염의 알칼리 성분이벤질트리에틸암모늄및메톡시벤질아민중하나이상인것을특징으로 하는
  3. 3근거 선택evidence_selection

    산 성분에 해당하는 문구와 알칼리 성분에 해당하는 문구를 각각 선택한다.

    • 트리플루오로메탄술폰산및톨루엔술폰산중하나이상
    • 벤질트리에틸암모늄및메톡시벤질아민중하나이상
  4. 4논리 통합logical_integration

    추출된 산 성분과 알칼리 성분을 유기염의 구성 요소로 결합한다.

    • 상기 유기염의 산 성분이 트리플루오로메탄술폰산및톨루엔술폰산중하나이상
    • 상기 유기염의 알칼리 성분이벤질트리에틸암모늄및메톡시벤질아민중하나이상
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    산 성분은 트리플루오로메탄술폰산 또는 톨루엔술폰산이며, 알칼리 성분은 벤질트리에틸암모늄 또는 메톡시벤질아민임을 도출한다.

    • 트리플루오로메탄술폰산및톨루엔술폰산중하나이상
    • 벤질트리에틸암모늄및메톡시벤질아민중하나이상
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 적합한 구조화된 답변을 생성한다.

근거 (evidence)
  • 용해제가 유기물이며, 상기 유기물이 유기염이며
  • 상기 유기염의 산 성분이 트리플루오로메탄술폰산및톨루엔술폰산중하나이상인것을특징으로 하는
  • 상기 유기염의 알칼리 성분이벤질트리에틸암모늄및메톡시벤질아민중하나이상인것을특징으로 하는
  • 트리플루오로메탄술폰산및톨루엔술폰산중하나이상
  • 벤질트리에틸암모늄및메톡시벤질아민중하나이상
  • 상기 유기염의 산 성분이 트리플루오로메탄술폰산및톨루엔술폰산중하나이상
  • 상기 유기염의 알칼리 성분이벤질트리에틸암모늄및메톡시벤질아민중하나이상
최종 답변 (final_answer)
산 성분은 트리플루오로메탄술폰산 및 톨루엔술폰산 중 하나 이상이며, 알칼리 성분은 벤질트리에틸암모늄 및 메톡시벤질아민 중 하나 이상이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
용해제가 유기염인 경우, 그 구성 성분으로서 산 성분(트리플루오로메탄술폰산, 톨루엔술폰산)과 알칼리 성분(벤질트리에틸암모늄, 메톡시벤질아민)이 존재한다.