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고주파 인가형 반도체 장치 제조 장비 및 이를 이용한공정 챔버 세정 방법

uuid
dd01bec4-592f-580b-91d3-a362bb6bb586
출원번호
1020010074866
출원연도
2001
IPC
C23C
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항2] 제 1 항에 있어서,상기 원격 플라즈마 공급 장치는;챔버 형태로 이루어지며 내부에 플라즈마 형성을 위한 전극이 구비되는 플라즈마 발생기(plasma generator), 상기 플라즈마 발생기 내에 고주파 전계를 인가할 전원, 플라즈마 발생기에 가스를 공급하는 가스 소오스, 플라즈마 발생기에서 형성된 플라즈마를 공정 챔버로 공급할배관구비하여이루어지는것을특징으로 하는고주파 인가형 반도체 장치 제조 장비. [청구항3] 제 2 항에 있어서,상기 플라즈마 공급 배관은 전극 위쪽 공간의 복수 개소에 연결될 수 있도록복수개의가지분기되어이루어지는것을특징으로 하는고주파 인가형 반도체 장치 제조 장비. [청구항4] 제 1 항에 있어서,상기 가스 공급 장치는 샤워 해드를 구비하여 이루어지고,상기 샤워 해드는 상부의 세라믹 샤워 해드와 하부의 금속 샤워 해드를 구비하며, 상기 세라믹 샤워 해드는 가스 유입구, 핀호을 포함하는 가스 통로를 가지며,상기 금속 샤워 해드는 복수 개의 분사공을 가지고 상기 전극의 역할을 겸하고,상기 세라믹 샤워 해드와 상기 금속 샤워 해드 사이에는 공급된 가스가 혼합되는공간형성됨을특징으로 하는고주파 인가형 반도체 장치 제조 장비. [청구항5] 제 1 항에 있어서,상기 원격 플라즈마 공급 장치는 상기 가스 공급 장치를 통해상기세정용가스플라즈마를상기공정챔버내공급하도록이루어지는것을특징으로 하는고주파 인가형 반도체 장치 제조 장비.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
가스 공급 장치는 어떠한 구성 요소로 이루어져 있으며, 각 구성 요소가 갖는 세부적인 특징은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    가스 공급 장치의 구성 요소와 각 요소의 세부 특징을 추출하는 과업을 수행한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 4에서 가스 공급 장치와 샤워 헤드에 관한 정보를 추출한다.

    • 상기 가스 공급 장치는 샤워 해드를 구비하여 이루어지고
    • 상기 샤워 해드는 상부의 세라믹 샤워 해드와 하부의 금속 샤워 해드를 구비하며
  3. 3근거 선택evidence_selection

    세라믹 샤워 헤드와 금속 샤워 헤드의 세부 특징을 명시한 문구를 선택한다.

    • 상기 세라믹 샤워 해드는 가스 유입구, 핀호을 포함하는 가스 통로를 가지며
    • 상기 금속 샤워 해드는 복수 개의 분사공을 가지고 상기 전극의 역할을 겸하고
  4. 4논리 통합logical_integration

    두 샤워 헤드 사이의 관계 및 공간적 특징을 통합한다.

    • 상기 세라믹 샤워 해드와 상기 금속 샤워 해드 사이에는 공급된 가스가 혼합되는공간형성됨
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    추출된 정보를 바탕으로 가스 공급 장치의 구조를 체계적으로 정리한다.

    • 상기 가스 공급 장치는 샤워 해드를 구비하여 이루어지고
    • 상기 샤워 해드는 상부의 세라믹 샤워 해드와 하부의 금속 샤워 해드를 구비하며
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 적합한 구조화된 답변을 생성한다.

    • 상기 가스 공급 장치는 샤워 해드를 구비하여 이루어지고
    • 상기 샤워 해드는 상부의 세라믹 샤워 해드와 하부의 금속 샤워 해드를 구비하며
    • 상기 세라믹 샤워 해드는 가스 유입구, 핀호을 포함하는 가스 통로를 가지며
    • 상기 금속 샤워 해드는 복수 개의 분사공을 가지고 상기 전극의 역할을 겸하고
    • 상기 세라믹 샤워 해드와 상기 금속 샤워 해드 사이에는 공급된 가스가 혼합되는공간형성됨
근거 (evidence)
  • 상기 가스 공급 장치는 샤워 해드를 구비하여 이루어지고
  • 상기 샤워 해드는 상부의 세라믹 샤워 해드와 하부의 금속 샤워 해드를 구비하며
  • 상기 세라믹 샤워 해드는 가스 유입구, 핀호을 포함하는 가스 통로를 가지며
  • 상기 금속 샤워 해드는 복수 개의 분사공을 가지고 상기 전극의 역할을 겸하고
  • 상기 세라믹 샤워 해드와 상기 금속 샤워 해드 사이에는 공급된 가스가 혼합되는공간형성됨
최종 답변 (final_answer)
가스 공급 장치는 샤워 해드를 구비하며, 샤워 해드는 다음과 같은 세부 구성을 가진다. 1. 세라믹 샤워 해드(상부): 가스 유입구 및 핀홀을 포함하는 가스 통로를 구비한다. 2. 금속 샤워 해드(하부): 복수 개의 분사공을 가지며 전극의 역할을 겸한다. 3. 혼합 공간: 세라믹 샤워 해드와 금속 샤워 해드 사이에 공급된 가스가 혼합되는 공간이 형성된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
가스 공급 장치는 상부의 세라믹 샤워 해드와 하부의 금속 샤워 해드로 구성된 샤워 헤드를 포함하며, 각 샤워 헤드는 고유의 통로 및 분사 구조를 가지고 그 사이에 가스 혼합 공간을 형성한다.