광으로 기판을 조사하는 것을 수행하는 열처리 장치

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 유지수단에 의해 유지된 상기 기판 상의 조사 상태가 미리 정해진 기준을 만족할 때 상기 섬광 램프로부터 방출되는 광의 강도가 기준 발광 강도로 간주되고,상기 발광상태 검출수단이 상기 섬광 램프의 방출 상태를 검출하기 위한 상기 기준 발광 강도와 상기 광강도 계측수단에 의한 상기 측정의 결과비교하는열처리 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 광강도 계측수단은 상기 봉상의 섬광 램프의 양 단부를 포함하는 복수 개소에서 출사되는 광의 강도계측하는열처리 장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 광원은 다수의 상기 섬광 램프들을 구비하고,상기 광강도 계측수단은 상기 다수의 섬광 램프들 각각으로부터 방출되는 광 요소들의 강도를 측정하고,상기 발광상태 검출수단은 상기 각각의 다수의 섬광 램프들의 방출 상태검출하는열처리 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 발광상태 검출수단에 의해 검출된 상기 다수의 섬광 램프들의 개별적인 램프들의 방출 상태들의 최소한 일부가 미리 정해진 기준을 만족하지 않을 때, 미리 정해진 비정상 대응책 처리를 수행하는 비정상 대응책 요소더 포함하는열처리 장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 발광상태 검출수단은 열처리 장치가 처리되어질 기판 상에 광조사를 수행할 때마다 상기 다수의 섬광 램프들 각각의 방출 상태검출하는열처리 장치. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 광강도 계측수단은:상기 다수의 섬광 램프들의 개별적인 램프들로부터 방출되는 광 요소들을 안내하는 다수의 광 섬유 멤버들과,상기 다수의 광 섬유 멤버들에 의해 안내되는 상기 광 요소들을 받아들이는 단일의 광 검출기포함하는열처리 장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 유지수단에 의해 유지된 상기 기판 상의 조사 상태가 미리 정해진 기준을 만족할 때, 상기 다수의 램프들 각각으로부터 방출되는 광의 강도는 기준 발광 강도로 간주되고,상기 발광상태 검출수단은 상기 다수의 램프들 각각의 방출 상태를 검출하기 위한 상기 기준 발광 강도와 상기 광강도 계측수단에 의한 상기 측정의 결과들비교하는열처리 장치. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 발광상태 검출수단에 의해 검출된 상기 다수의 섬광 램프들의 개별적인 램프들의 방출 상태들의 최소한 일부가 미리 정해진 기준을 만족하지 않을 때, 미리 정해진 비정상 대응책 처리를 수행하는 비정상 대응책 요소더 포함하는열처리 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 광강도 계측수단은:상기 다수의 램프들의 개별적인 램프들로부터 방출되는 광 요소들을 안내하는 다수의 광 섬유 멤버들과,상기 다수의 광 섬유 멤버들에 의해 안내되는 상기 광 요소들을 받아들이는 단일의 광 검출기포함하는열처리 장치. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 도입된 광 요소들을 확산하는 확산판구비하는,열처리 장치. [청구항 14] 제 13 항에 있어서,다수의 렌즈들에 의해 형성된 렌즈 그룹을 구비하고,상기 확산판은 상기 렌즈 그룹 사이에 끼워져 있는동안상기광 검출대향되도록배치되는,열처리 장치. [청구항 15] 제 13 항에 있어서,다수의 렌즈들에 의해 형성된 렌즈 그룹을 구비하고,상기 확산판은 상기 렌즈 그룹과 상기 광 검출기 사이배치되는,열처리 장치. [청구항 16] 제 13 항에 있어서,상기 확산판이 석영으로 구성되어 있고, 상기 도입된 광 요소들을 위한 입사판(incidence plane)과 출사면(exit plane)이 광 확산 표면들형성하는,열처리 장치. [청구항 17] 제 16 항에 있어서,상기 광도입 부분들은 석영구성되어 있는,열처리 장치.