기판 처리장치

[청구항 1] 챔버와; 상기 챔버 내부의 상부쪽에 위치하고, 샤워헤드 몸체부와 샤워헤드로 구성되는 상부전극과 상기 상부전극의 아래쪽에 배치되어 기판이 탑재되는 하부전극을 포함하며, 상기 샤워헤드는 서로 적층된 이중 구조로 이루어지되, 상기 챔버 내부의 플라즈마와 접촉하는 아래쪽에는 +dc전원이 인가되는 플로팅 샤워헤드와, 상기 플로팅 샤워헤드의 위쪽에는 그라운드 샤워헤드가 위치되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치 [청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 상부전극의 내부빈 공간에 설치되어 상기 샤워헤드를 통해 챔버 내부로 공급되는 공정가스를 활성화시킴에 따라 공정가스의 플라즈마화가 가속되도록 하는자성체회로부더포함하는것을특징으로 하는기판 처리장치. [청구항 3] 청구항 2에 있어서,상기 자성체 회로부는,n극과 s극이 상하로 양분된 일정길이의 자석바들이 복수개 구비되어 일정간격으로 배치되어마련된것을특징으로 하는기판 처리장치. [청구항 4] 청구항 3에 있어서,상기 자석바들은, 서로 연접하는 자석바들이 n극과 s극이 상하 반대로위치되게교차로배치되는것을특징으로 하는기판 처리장치. [청구항 5] 청구항 3에 있어서,상기 자석바들은 공정가스에 의해 부식되는 것을 예방하기 위하여 상,하면에 각각 알루미늄 아노다이징 플레이트에 의해 일체형으로 연결되어 덮여지는것을특징으로 하는기판 처리장치. [청구항 6] 청구항 5에 있어서,상기 자성체 회로부에는, 가스홀을 갖는 부싱이 상기 상부 플레이트와 하부 플레이트를 관통하여일정간격설치되는것을특징으로 하는기판 처리장치. [청구항 7] 청구항 1 내지 청구항 6 중, 어느 하나의 청구항에 있어서,상기 자성체 회로부는, 구동수단에 의해 수평방향으로직선왕복운동이루어지는것을특징으로 하는기판 처리장치. [청구항 8] 청구항 7에 있어서,상기 구동수단은,상기 챔버의 외부에 설치되어 정역회전을 하는 모터와,상기 모터의 축과 수평방향으로 설치되어 모터의 정역회전에 따라 전후진이 이루어지는 볼 스크류와,상기 볼 스크류의 끝단과 회전가능하게 연결,설치되되 볼 스크류의 전후진에 따라 연동하여 전후진이 이루어지고 상기 자성체 회로부에 고정설치되는 연결바와,상기 연결바가 직선방향으로만 이동이 이루어지도록 파지하되 상부전극의 내면으로부터 연장형성된 가이드바를포함하는것을특징으로 하는기판 처리장치.