전압­기반의 플라즈마 편위 검출 시스템 및 방법

[청구항9] 플라즈마 챔버 내에서 플라즈마 편위들을 검출하기 위한 시스템으로서 하나 또는 둘 이상의 전압 프로브들로서, 각각의 전압 프로브가 플라즈마 챔버 내에서 무선 주파수 전극에 부착되고 플라즈마 프로세싱 동안에 무선 주파수 전극의 바이어스 전압을 감지하도록 구성되는, 하나 또는 둘 이상의 전압 프로브들; 및 플라즈마 편위 검출 유닛을 포함하고 상기 플라즈마 편위 검출 유닛은 하나 또는 둘 이상의 편위 검출 모듈들로서, 상기 각각의 편위 검출 모듈이 하나 또는 둘 이상의 전압 프로브들 중 하나로부터 바이어스 전압을 수신하도록 구성되고, 상기 각각의 편위 검출 모듈은 출력 전압 신호를 획득하기 위해서 상기 바이어스 전압을 필터링하도록 구성된 복수의 아날로그 필터들을 포함하고, 그리고 각각의 편위 검출 모듈은 미리 셋팅된 전압 신호와 상기 출력 전압 신호를 비교하고, 상기 출력 전압 신호가 상기 미리 셋팅된 전압 신호를 초과하는 경우, 경고 신호를 생성하도록 구성된 비교기를 더 포함하는, 하나 또는 둘 이상의 편위 검출 모듈들 호스트 제어기로부터 미리 셋팅된 전압 신호를 수신하도록 구성되고 그리고 상기 경고 신호를 상기 호스트 제어기로 전송하도록 구성된 하나 또는 둘 이상의 연결 포트들; 및 상기 하나 또는 둘 이상의 편위 검출 모듈들의 각각으로부터 출력 전압 신호를 수집하고 데이터 로깅 및 진단 시스템으로 전송하도록 구성된 데이터 획득 모듈을 포함하는, 플라즈마 편위들을 검출하기 위한 시스템 [청구항10] 제 9 항에 있어서,상기 하나 또는 둘 이상의 전압 프로브들의 각각이 160 ℃까지의 온도들을 견디도록 구성되는, 플라즈마 편위들검출하기 위한시스템. [청구항11] 제 10 항에 있어서,상기 하나 또는 둘 이상의 전압 프로브들의 각각이 상기 바이어스 전압을 약 100:1 비율만큼 감소시키도록 구성된 전압 감소기를 포함하는, 플라즈마 편위들검출하기 위한시스템. [청구항12] 제 9 항에 있어서,위 검출 모듈들의 각각이 약 250 hz 내지 약 50 khz 사이의 주파수들을 통과시키도록 구성된 밴드 패스 필터를 포함하는, 플라즈마 편위들검출하기 위한시스템. [청구항13] 제 9 항에 있어서,위 검출 모듈들의 각각이 낮은 주파수 패스 필터 및 높은 주파수 패스 필터를 포함하는, 플라즈마 편위들검출하기 위한시스템. [청구항14] 제 13 항에 있어서,주파수 패스 필터가 약 50 khz 미만의 주파수들을 통과시키도록 구성되고 그리고 상기 높은 주파수 패스 필터가 약 250 hz 초과의 주파수들을 통과시키도록 구성되며, 상기 편위 검출 모듈들의 각각이 상기 출력 전압 신호를 획득하기에 앞서서, 필터링된 직류 전류 바이어스 전압 신호를 획득하도록 구성된 복수의 노치 필터들 및 로우 패스 주파수 필터를 포함하는, 플라즈마 편위들검출하기 위한시스템. [청구항15] 제 9 항에 있어서,상기 시스템이 무선 주파수 전극들을 분리하기 위해서 부착된 적어도 2개의 전압 프로브들을 포함하는, 플라즈마 편위들검출하기 위한시스템.