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CVD챔버내의과도한알루미늄축적을최소화하기위한방법및장치

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e3bc3755-28c9-5094-8bd2-de0c281cb918
출원번호
1019980004269
출원연도
1998
IPC
C23C
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항17] 제 16항에 있어서,상기 제 1명령 세트는 알루미늄 함유 가스를 포함하는 상기 공정 가스를 유입시키기 위하여상기가스분배시스템제어하는것을특징으로 하는기판 가공 장치. [청구항18] 제 17항에 있어서,상기 특정 온도는200내지범위인것을특징으로 하는기판 가공 장치. 제 17항에 있어서,상기 제 1명령 세트는 알루미늄 함유 가스를 포함하는 상기 프로세스 가스를 유입시키기 위하여 상기 가스 분배 시스템제어하는기판 프로세싱 장치. [청구항19] 제 17항에 있어서,상기 금속 기판 가공 작업은 상기 제 1시간 주기 중에 기판 위에 금속막을 증착하며, 상기 제 3명령 세트는 상기 제 1시간 주기 중에 상기 기판이 상기 진공 챔버로부터 제거된 후에 상기 질소 함유 패시베이션 가스를 유입시키기 위하여상기가스분배시스템제어하는것을특징으로 하는기판 가공 장치. 제 17항에 있어서,상기 특정 온도는 약 200℃ 내지범위인기판 프로세싱 장치. [청구항20] 제 16항에 있어서,상기 컴퓨터 판독가능 프로그램은 상기 제 1시간 주기 동안 상기 진공 챔버를 5 내지 25토르 사이의 압력으로 설정하고 유지하고, 상기 제 2시간 주기 동안 상기 진공 챔버를 0.1 내지 100토르 사이의 압력으로 설정하고 유지하도록 상기 진공 시스템을 제어하기 위한제4명령세트더포함하는것을특징으로 하는기판 가공 장치. 제 18항에 있어서,상기 알루미늄 화학 기상 증착 기판 프로세싱 작업은 상기 제 1시간 주기 동안 기판 위에 알루미늄 막을 증착하며, 상기 제 3명령 세트는 상기 제 1시간 주기 중에 상기 기판이 상기 진공 챔버로부터 제거된 후에 상기 질소 함유 패시베이션 가스를 유입시키기 위하여 상기 가스 분배 시스템제어하는기판 프로세싱 장치. [청구항21] 제 19항에 있어서,상기 알루미늄 함유 가스는 디메틸알루미늄 수산화물포함하는기판 프로세싱 장치. [청구항22] 제 17항에 있어서,상기 컴퓨터 판독가능 프로그램은 상기 제 1시간 주기 동안 상기 진공 챔버를 약 5 내지 25토르 사이의 압력으로 설정 및 유지시키도록 상기 진공 시스템을 제어하는 제 4명령 세트더 포함하는기판 프로세싱 장치. [청구항23] 제 22항에 있어서,상기 제 4명령 세트는 상기 제 2시간 주기 동안 상기 진공 챔버를 약 0.1 내지 100토르 사이의 압력으로 설정 및 유지시키도록 상기 진공 시스템제어하는기판 프로세싱 장치. [청구항24] 제 22항에 있어서,상기 제 4명령 세트는 상기 제 2시간 주기 동안 상기 진공 챔버를 약 10 내지 90토르 사이의 압력으로 설정 및 유지시키도록 상기 진공 시스템제어하는기판 프로세싱 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
기판 가공 장치에서 제 3명령 세트는 어떤 가스를 유입시키기 위해 가스 분배 시스템을 제어하며, 이는 어떠한 시점에 수행되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    제 3명령 세트의 기능과 실행 시점을 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 19에서 제 3명령 세트와 관련된 가스 종류와 시점 정보를 추출한다.

    • 제 3명령 세트는 상기 제 1시간 주기 중에 상기 기판이 상기 진공 챔버로부터 제거된 후에 상기 질소 함유 패시베이션 가스를 유입시키기 위하여상기가스분배시스템제어
  3. 3근거 선택evidence_selection

    가스 종류인 '질소 함유 패시베이션 가스'와 시점인 '기판이 진공 챔버로부터 제거된 후'를 선택한다.

    • 질소 함유 패시베이션 가스
    • 기판이 상기 진공 챔버로부터 제거된 후에
  4. 4논리 통합logical_integration

    제 3명령 세트가 가스 분배 시스템을 제어하여 특정 가스를 유입시키는 동작과 그 선행 조건(기판 제거)을 결합한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    제 3명령 세트는 기판이 진공 챔버에서 제거된 후 질소 함유 패시베이션 가스를 유입시키기 위해 가스 분배 시스템을 제어한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 적합한 형태로 최종 답변을 작성한다.

근거 (evidence)
  • 제 3명령 세트는 상기 제 1시간 주기 중에 상기 기판이 상기 진공 챔버로부터 제거된 후에 상기 질소 함유 패시베이션 가스를 유입시키기 위하여상기가스분배시스템제어
  • 질소 함유 패시베이션 가스
  • 기판이 상기 진공 챔버로부터 제거된 후에
최종 답변 (final_answer)
제 3명령 세트는 질소 함유 패시베이션 가스를 유입시키기 위하여 가스 분배 시스템을 제어하며, 이는 제 1시간 주기 중에 기판이 진공 챔버로부터 제거된 후에 수행된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
제 3명령 세트의 역할은 기판 제거 후 질소 함유 패시베이션 가스 유입을 위한 가스 분배 시스템 제어이다.