가스공급장치 및 이를 포함하는 기판처리장치

[청구항2] 제1항에 있어서,상기 복수의 공정가스 도입부는 상기 본체부의 제1높이에서 제1입력포트로 제1공정가스와 접속되는 제1공정가스 도입부와, 상기 본체부의 제2높이에서 제2입력포트로 제2공정가스와 접속되는 제2공정가스 도입부와, 상기 본체부의 제3높이에서 제3입력포트로 제3공정가스와 접속되는제3공정가스 도입부포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. 제1항에 있어서,상기 복수의 공정가스 도입부는 상기 본체부의 제1높이에서 제1입력포트로 제1공정가스와 접속되는 제1공정가스 도입부와, 상기 본체부의 제2높이에서 제2입력포트로 제2공정가스와 접속되는 제2공정가스 도입부와, 상기 본체부의 제3높이에서 제3입력포트로 제3공정가스와 접속되는제3공정가스 도입부포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항3] 제2항에 있어서,상기 제1공정가스, 제2공정가스, 제3공정가스는 각각 원료가스, 반응가스, 퍼지가스 중 어느하나할당되는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항4] 제2항에 있어서,상기 제1공정가스 도입부는 상기 제1높이에서 서로 동일한 각도로 분할 형성되는 복수의 제1홀들을 구비하며, 상기 제2공정가스 도입부는 상기 제2높이에서 상기 복수의 제1홀들과 어긋나는 위치에서 상기의 복수의 제1홀들을 분할하는 각도 상에 각각 형성되는 복수의 제2홀들을 구비하며, 상기 제3공정가스 도입부는 상기 제3높이에서 상기 복수의 제1홀들 및 제2홀들과 어긋나는 위치에서 상기 복수의 제1홀들과 제2홀들 사이를 분할하는 각도 상에 각각 형성되는 복수의 제3홀들을 구비하며, 상기 다 분류의 홀 패턴은 상기 제1홀들, 제2홀들, 제3홀들에대응형성되는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항5] 제4항에 있어서,다 분류의 홀 패턴은 상기 제1홀들, 제2홀들, 제3홀들과 대응 형성되고, 상기 방사형으로 배치되는인젝터와독립적각각연결되는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항6] 제4항에 있어서,상기 제1홀들은 상기 본체부의 중심에 인접한 제1원주부를 따라서 형성되며, 상기 제2홀들은 상기 본체부의 제1원주부에서 상기 제1홀들과 어긋나는 위치 상에서 형성되며, 상기 제3홀들은 상기 제1원주부와 다른 위치에서 상기 본체부의 외곽에 인접한 제2원주부에서 상기 복수의 제1홀들과 제2홀들을 분할하는각도각각형성되는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항7] 제4항에 있어서,다 분류의 홀 패턴은 상기 복수의 제1홀들이 상기 코어부로 투영되어 상기 제1홀들과 연통되게 형성되는 제1홀 패턴과, 상기 복수의 제2홀이 상기 코어부로 투영되어 상기 제2홀들과 연통되게 형성되는 제2홀 패턴과, 상기 복수의 제3홀이 상기 코어부로 투영되어 상기 제3홀들과 연통되게 형성되는제3홀패턴포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항8] 제7항에 있어서,상기 제1 내지 제3공정가스 도입부와 상기 다 분류의 홀 패턴을 각각 독립적으로 연결하는 복수의 공정가스 공급관을 더 포함하며, 상기 복수의 가스 공급관은 상기 제1공정가스 도입부와 상기 제1홀 패턴을 연결하는 복수의 제1공정가스 공급관과, 상기 제2공정가스 도입부와 상기 제2홀 패턴을 연결하는 복수의 제2공정가스 공급관과, 상기 제3공정가스 도입부와 상기 제3홀 패턴을 연결하는복수의제3공정가스공급관포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항9] 제7항에 있어서,상기인젝터부는 상기 코어부의 측벽을 관통하여 상기 제1홀 패턴에 각각 접속되는 복수의 제1인젝터 로드와, 상기 코어부의 측벽을 관통하여 상기 제2홀 패턴에 접속되는 복수의 제2인젝터 로드와, 상기 코어부의 측벽을 관통하여 상기 제3홀 패턴에 접속되는복수의제3인젝터로드포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항10] 제9항에 있어서,상기 복수의 제1인젝터 로드는 각각 90도의 각도를 두고 방사형으로 배치되는 4개의 제1인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제2인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 각각 90도의 간격을 두고 방사형으로 배치되는 4개의 제2인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제3인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드와 제2인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 각각 45도의 간격을 두고 방사형으로 배치되는8개의제3인젝터로드포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항11] 제9항에 있어서,상기 복수의 제3인젝터 로드 각각nan은상기제1인젝터로드와제2인젝터로드사이위치하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항12] 제9항에 있어서,상기 복수의 제1인젝터 로드와 상기 복수의 제2인젝터 로드는 원료가스 또는 반응가스를 분사하고, 상기 복수의 제3인젝터 로드는퍼지가스분사하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항13] 제9항에 있어서,상기 복수의 제1인젝터 로드는 각각 90도의 각도를 두고 방사형으로 배치되는 4개의 제1인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제2인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 방사형으로 배치되는 2개의 제2인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제3인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드를 분할하는 각도 상에 배치되되 상기 제2인젝터 로드와 중첩되지 않는 각도 상에서 방사형으로 배치되는2개의제3인젝터로드포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항14] 제13항에 있어서,상기 복수의 제1인젝터 로드 각각nan은상기제2인젝터로드와제3인젝터로드사이위치하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항15] 제13항에 있어서,상기 복수의 제1인젝터 로드는 퍼지가스를 분사하고, 상기 복수의 제2인젝터 로드와 상기 제3인젝터 로드는원료가스또는반응가스분사하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항16] 제1항에 있어서,상기 복수의 공정가스 도입부는 각각 상기 본체부의 둘레를 따라 형성되는 환상의 가스 확산로와, 상기 가스 확산로를 둘러싸는슬리브구비하는것을특징으로 하는가스공급장치. 제1항에 있어서,상기 복수의 공정가스 도입부는 각각 상기 본체부의 둘레를 따라 형성되는 환상의 가스 확산로와, 상기 가스 확산로를 둘러싸는슬리브구비하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항17] 제1항에 있어서,체부와 코어부를 상하 방향으로 관통 형성되어 퍼지 가스를 분사하는센터홀더포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항18] 제17항에 있어서,상기 센터 홀에 결합되는 센터 퍼지 인젝터더포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항19] 제1항에 있어서,상기인젝터부는 상기 코어부에 수용되어 상기 본체부에 결합되는 실링재를 더 구비하며, 상기 실링재는 상기 다 분류의 홀 패턴의 주위에 그루브를 구비하여 상기 본체부와볼트체결되는것을특징으로 하는가스공급장치. 제1항에 있어서,상기인젝터부는 상기 코어부에 수용되어 상기 본체부에 결합되는 실링재를 더 구비하며, 상기 실링재는 상기 다 분류의 홀 패턴의 주위에 그루브를 구비하여 상기 본체부와볼트체결되는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항20] 제1항에 있어서,상기 복수의 인젝터부에는 복수의 인젝터부를 서로 연결하도록원형 형태의띠형성되는것을특징으로 하는가스공급장치. 제1항에 있어서,상기 복수의 인젝터부에는 복수의 인젝터부를 서로 연결하도록원형 형태의띠형성되는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항22] 제21항에 있어서,상기 복수의 제1인젝터 로드는 각각 90도의 각도를 두고 방사형으로 배치되는 4개의 제1인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제2인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 각각 90도의 간격을 두고 방사형으로 배치되는 4개의 제2인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제3인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드와 제2인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 각각 45도의 간격을 두고 방사형으로 배치되는8개의제3인젝터로드포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항23] 제21항에 있어서,상기 복수의 제1인젝터 로드는 각각 90도의 각도를 두고 방사형으로 배치되는 4개의 제1인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제2인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 방사형으로 배치되는 2개의 제2인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제3인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 배치되되 상기 2개의 제2인젝터 로드와는 중첩되지 않는 각도 상에서 방사형으로 배치되는2개의제3인젝터로드포함하는것을특징으로 하는가스공급장치. [청구항25] 제24항에 있어서,분류의 홀들은 상기 본체부의 상단, 중단, 하단에서 서로 어긋나는 위치에차례형성되는것을특징으로 하는기판처리장치. 제24항에 있어서,분류의 홀들은 상기 본체부의 상단, 중단, 하단에서 서로 어긋나는 위치에차례형성되는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항26] 제24항에 있어서,분류의 홀 패턴은 상기 세 분류의 홀들이 상기 코어부의 내부로 투영되어형성되는것을특징으로 하는기판처리장치. 제24항에 있어서,분류의 홀 패턴은 상기 세 분류의 홀들이 상기 코어부의 내부로 투영되어형성되는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항27] 제24항에 있어서,상기 챔버의 상부를 이루는 챔버 리드의 하부면에는 상기 세 분류의 인젝터부와 동일한 패턴으로 그루브가 형성되며, 상기 세 분류의 인젝터부는 각각 상기 챔버 리드에매립설치되는것을특징으로 하는기판처리장치. 제24항에 있어서,상기 챔버의 상부를 이루는 챔버 리드의 하부면에는 상기 세 분류의 인젝터부와 동일한 패턴으로 그루브가 형성되며, 상기 세 분류의 인젝터부는 각각 상기 챔버 리드에매립설치되는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항29] 제28항에 있어서,상기 복수의 제1인젝터 로드는 각각 90도의 각도를 두고 방사형으로 배치되는 4개의 제1인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제2인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 각각 90도의 간격을 두고 방사형으로 배치되는 4개의 제2인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제3인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드와 제2인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 각각 45도의 간격을 두고 방사형으로 배치되는8개의제3인젝터로드포함하는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항30] 제28항에 있어서,상기 복수의 제1인젝터 로드는 각각 90도의 각도를 두고 방사형으로 배치되는 4개의 제1인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제2인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 방사형으로 배치되는 2개의 제2인젝터 로드를 포함하며, 상기 복수의 제3인젝터 로드는 상기 4개의 제1인젝터 로드를 분할하는 각도 상에서 상기 제2인젝터 로드와 중첩되지 않도록 방사형으로 배치되는2개의제3인젝터로드포함하는것을특징으로 하는기판처리장치.