문맥 (context)
[청구항32]
제 31 항에 있어서,상기 알루미늄 비선막의(11)면의 x선회절강도의피이이상인것을특징으로 하는직접회로 장치.
[청구항35]
제 34 항에 있어서,상기 요부에 저면 빛 측벽면에 위치하는 막면이 그 저면 및 측벽면에 대하여 대략 평행이고, 상기 요부의 예지부분에 위치하는 막면이 위가 넓어진 경사를 가지고 또, 스텝커버래지가 0.3이상이고 상기 기판표면에 위치하는 막면이 그 표면에 대하여 대략 평행인 것을 특징으로 하는 박막구비하는물품.
[청구항37]
제 36 항에 있어서,기판과 타게트의 사이에 코일을 배치하고, 이것을 고주파를 인가하여 플라즈마를 발생시키고 고주파전원과 바이어스 전류를 검출하는 센서를 구비하고, 임이 파형발생기로부터의 신호와 바이어스 전류센서로부터의 신호를 비교하여 항상 설정된 바이어스 전류가 되도록 코일에 인가하는고주파전력제어하는것을특징으로 하는박막형성장치.
[청구항41]
제31항에 있어서,상기 장벽층이 tin으로이루어진것을특징으로 하는직접회로 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
박막형성장치에서 설정된 바이어스 전류를 일정하게 유지하기 위해 고주파 전력을 제어하는 구체적인 메커니즘은 무엇입니까?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation박막형성장치의 고주파 전력 제어 메커니즘을 파악해야 함
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2정보 추출
information_extraction장치의 구성 요소인 코일, 고주파, 센서, 파형발생기 및 제어 과정을 추출함
- 기판과 타게트의 사이에 코일을 배치
- 고주파를 인가하여 플라즈마를 발생시키고
- 고주파전원과 바이어스 전류를 검출하는 센서를 구비
- 임이 파형발생기로부터의 신호와 바이어스 전류센서로부터의 신호를 비교
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3근거 선택
evidence_selection제어 메커니즘과 직접 관련된 비교 및 인가 과정을 선택함
- 임이 파형발생기로부터의 신호와 바이어스 전류센서로부터의 신호를 비교하여 항상 설정된 바이어스 전류가 되도록 코일에 인가하는고주파전력제어
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4논리 통합
logical_integration코일에 고주파를 인가하여 플라즈마를 만들고, 센서 신호와 파형발생기 신호를 비교하여 바이어스 전류를 일정하게 유지하도록 제어함
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5결론 도출
conclusion_formulation비교를 통한 피드백 제어 방식으로 결론을 도출함
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6답변 생성
answer_generation질문에 대한 최종 답변을 작성함
근거 (evidence)
- 기판과 타게트의 사이에 코일을 배치
- 고주파를 인가하여 플라즈마를 발생시키고
- 고주파전원과 바이어스 전류를 검출하는 센서를 구비
- 임이 파형발생기로부터의 신호와 바이어스 전류센서로부터의 신호를 비교
- 임이 파형발생기로부터의 신호와 바이어스 전류센서로부터의 신호를 비교하여 항상 설정된 바이어스 전류가 되도록 코일에 인가하는고주파전력제어
최종 답변 (final_answer)
박막형성장치에서는 기판과 타게트 사이에 배치된 코일에 고주파를 인가하여 플라즈마를 발생시킵니다. 이때 고주파 전원과 바이어스 전류를 검출하는 센서를 구비하며, 임의 파형발생기로부터의 신호와 바이어스 전류센서로부터의 신호를 비교함으로써 항상 설정된 바이어스 전류가 유지되도록 코일에 인가되는 고주파 전력을 제어합니다.
핵심 해석 (core_interpretation)
박막형성장치의 고주파 전력 제어는 파형발생기 신호와 센서 신호의 비교를 통해 설정된 바이어스 전류를 일정하게 유지하는 피드백 제어 방식을 사용한다.