문맥 (context)
[청구항 13]
제12항에 있어서,상기 기판은 열 산화물 기판, si 기판, sio2 기판, si3n4 기판, 실리콘 기판 상의 sio2, 실리콘 기판 상의 si3n4, 유리 기판, 석영 기판, 세라믹 기판, 반도체 기판, 및 금속 기판으로 이루어진군선택됨을특징으로 하는마이크로전자 구조물.
[청구항 14]
제12항에 있어서,상기 사이클로올레핀 공중합체는 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 환형 올레핀의 중합으로부터 형성되고,여기서:각각의 r1 및 r2는 -h, 및 알킬기로 이루어진 군에서 개별적으로 선택되고; r3은 -h, 치환 및 비치환 아릴기, 알킬기, 사이클로알킬기, 아랄킬기, 에스테르기, 에테르기, 아세틸기, 알코올, 알데하이드기, 케톤, 니트릴, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서개별적선택됨을특징으로 하는마이크로전자 구조물.
[청구항 15]
제12항에 있어서,상기 반복 사이클로올레핀 단량체는 다음으로 이루어지는 군에서 선택되고:및 이들의 조합,여기서:각각의 r1 및 r2는 -h, 및 알킬기로 이루어진 군에서 개별적으로 선택되고,각각의 r3는 -h, 치환 및 비치환 아릴기, 알킬기, 사이클로알킬기, 아랄킬기, 에스테르기, 에테르기, 아세틸기, 알코올, 알데하이드기, 케톤, 니트릴, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서개별적선택됨을특징으로 하는마이크로전자 구조물.
[청구항 16]
제12항에 있어서,상기 보호 레이어는 광민감성특징으로 하는마이크로전자 구조물.
[청구항 17]
제12항에 있어서,상기 제2면에산성식각제를추가포함함을특징으로 하는마이크로전자 구조물.
[청구항 18]
제17항에 있어서,상기 산성 식각제는 hf, hf 증기, hf/h2o 증기, hf/알코올 증기, hcl, 인산, hcl/hno3, 완충된 산화물 식각제("boe"), hf/hno3/아세트산, 진한 h2so4, 진한 hno3, 및 이들의 혼합으로 이루어진군선택됨을특징으로 하는마이크로전자 구조물.
[청구항 19]
제12항에 있어서,상기 마이크로전자 구조물은 상기 기판 표면 상에프라이머레이어포함함을특징으로 하는마이크로전자 구조물.
[청구항 20]
제19항에 있어서,상기 프라이머 레이어는 용매 시스템 중의 염기성 고분자를 포함하는조성물형성됨을특징으로 하는마이크로전자 구조물.
[청구항 21]
제20항에 있어서,상기 염기성 고분자는 폴리비닐 피리딘, 폴리멜라민, 폴리에틸렌이민, 트리아진-함유 공중합체, 스타이렌 말레이미드 수지, 폴리(4-비닐 피리딘-코-스타이렌), 및 폴리(2-비닐 피리딘-코-스타이렌)으로 이루어진군선택됨을특징으로 하는마이크로전자 구조물.
[청구항 23]
제22항에 있어서,상기 광민감성 가교제는 2,6-비스-(4-아지도벤질리덴)-4-메틸사이클로헥산온, 2,6-비스-(4'-아지도벤잘)사이클로헥산온, 2,6-비스-(4'-디아지도벤잘)-4-메틸사이클로헥산온, 4,4'-디아지도스틸베베, p-페닐렌비스아지드, 4,4'-디아지도벤조페논, 4,4'-디아지도디페닐메탄, 4,4'-디아지도칼콘, 4,4'-디아지도디페닐, 4,4'-디아지도-3,3'-디메틸디페닐, 및 2,7-디아지도플루오렌으로 이루어진군선택됨을특징으로 하는조성물.
[청구항 24]
제22항에 있어서,상기 사이클로올레핀 공중합체는 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 환형 올레핀의 중합으로부터 형성되고,여기서:각각의 r1 및 r2는 -h, 및 알킬기로 이루어진 군에서 개별적으로 선택되고; 각각의 r3는 -h, 치환 및 비치환 아릴기, 알킬기, 사이클로알킬기, 아랄킬기, 에스테르기, 에테르기, 아세틸기, 알코올, 알데하이드기, 케톤, 니트릴, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서개별적선택됨을특징으로 하는조성물.
[청구항 25]
제22항에 있어서,상기 반복 사이클로올레핀 단량체는 다음으로 이루어지는 군에서 선택되고:및 이들의 조합,여기서:각각의 r1 및 r2는 -h, 및 알킬기로 이루어진 군에서 개별적으로 선택되고,각각의 r3는 -h, 치환 및 비치환 아릴기, 알킬기, 사이클로알킬기, 아랄킬기, 에스테르기, 에테르기, 아세틸기, 알코올, 알데하이드기, 케톤, 니트릴, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 개별적으로 선택특징으로 하는조성물.
[청구항 30]
제27항에 있어서,상기 사이클로 올레핀 공중합체는 60℃ 내지 200℃의 유리 전이 온도(tg)를 가짐을 특징으로 하는 마이크로전자 구조물형성하는방법
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
마이크로전자 구조물에서 프라이머 레이어는 어떠한 성분으로 구성되며, 해당 성분을 포함하는 조성물은 무엇을 통해 형성됩니까?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation프라이머 레이어의 구성 성분과 해당 성분을 포함하는 조성물이 형성되는 방식을 찾는 것입니다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 20에서 프라이머 레이어가 용매 시스템 중의 염기성 고분자를 포함하는 조성물로 형성됨을 확인하고, 청구항 21에서 염기성 고분자의 구체적 종류를 추출합니다.
- 상기 프라이머 레이어는 용매 시스템 중의 염기성 고분자를 포함하는조성물형성됨을
- 상기 염기성 고분자는 폴리비닐 피리딘, 폴리멜라민, 폴리에틸렌이민, 트리아진-함유 공중합체, 스타이렌 말레이미드 수지, 폴리(4-비닐 피리딘-코-스타이렌), 및 폴리(2-비닐 피리딘-코-스타이렌)으로 이루어진군선택됨을
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3근거 선택
evidence_selection프라이머 레이어의 성분(염기성 고분자 및 그 종류)과 형성 방식(용매 시스템 중)에 관한 구절을 선택합니다.
- 상기 프라이머 레이어는 용매 시스템 중의 염기성 고분자를 포함하는조성물형성됨을
- 상기 염기성 고분자는 폴리비닐 피리딘, 폴리멜라민, 폴리에틸렌이민, 트리아진-함유 공중합체, 스타이렌 말레이미드 수지, 폴리(4-비닐 피리딘-코-스타이렌), 및 폴리(2-비닐 피리딘-코-스타이렌)으로 이루어진군선택됨을
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4논리 통합
logical_integration프라이머 레이어는 용매 시스템 내의 염기성 고분자를 포함하는 조성물로 형성되며, 이 고분자는 폴리비닐 피리딘 등을 포함한다는 논리를 결합합니다.
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5결론 도출
conclusion_formulation프라이머 레이어는 용매 시스템 중의 염기성 고분자(폴리비닐 피리딘, 폴리멜라민, 폴리에틸렌이민, 트리아진-함유 공중합체, 스타이렌 말레이미드 수지, 폴리(4-비닐 피리딘-코-스타이렌), 및 폴리(2-비닐 피리딘-코-스타이렌))를 포함하는 조성물로 형성됩니다.
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6답변 생성
answer_generation질문에 대해 추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성합니다.
근거 (evidence)
- 상기 프라이머 레이어는 용매 시스템 중의 염기성 고분자를 포함하는조성물형성됨을
- 상기 염기성 고분자는 폴리비닐 피리딘, 폴리멜라민, 폴리에틸렌이민, 트리아진-함유 공중합체, 스타이렌 말레이미드 수지, 폴리(4-비닐 피리딘-코-스타이렌), 및 폴리(2-비닐 피리딘-코-스타이렌)으로 이루어진군선택됨을
최종 답변 (final_answer)
프라이머 레이어는 폴리비닐 피리딘, 폴리멜라민, 폴리에틸렌이민, 트리아진-함유 공중합체, 스타이렌 말레이미드 수지, 폴리(4-비닐 피리딘-코-스타이렌), 및 폴리(2-비닐 피리딘-코-스타이렌)로 이루어진 군에서 선택되는 염기성 고분자를 포함하며, 해당 성분을 포함하는 조성물은 용매 시스템 중 형성됩니다.
핵심 해석 (core_interpretation)
마이크로전자 구조물의 기판 표면에 형성되는 프라이머 레이어의 화학적 조성(염기성 고분자)과 그 형성 매질(용매 시스템)을 정의하고 있다.