성막 장치 및 샤워헤드 구조체

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 샤워헤드 본체는오목형상인것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 공간은, 상기 중단 플레이트의 상면에 오목부가 형성되어,상기오목부와상기상단플레이트형성되어있는것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 공간은, 상기 중단 플레이트의 하면측에 복수의 홈이 형성되어,상기복수의홈과상기하단플레이트형성되어있는것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 샤워헤드의 상방에는, 상기 수평부를 피복하도록 단열 부재가 배치되고, 상기 수평부와 상기 단열 부재의 사이에대기공간마련한것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,상기 샤워헤드의 상방에히터배치한것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 히터는, 상기 샤워헤드의 내측을 가열하는 내측 히터와, 상기 내측 히터를 에워싸도록 배치되는외측히터구비하는것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 가스 통로는, 상기 상단 플레이트측으로 플랜지가 형성되고, 상기 상단 플레이트에 상기 플랜지를 거쳐서접속되는것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 11] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 공간에가스 확산촉진용파이프구비하는것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 샤워헤드 본체는 상기 제 1 가스를 확산시키는 제 1 공간과, 상기 제 1 공간과는 구획되고, 상기 제 2 가스를 확산시키는 제 2 공간구비하는샤워헤드 구조체. [청구항 14] 제 12 항에 있어서,상기 샤워헤드 본체는오목형상인것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 15] 제 12 항에 있어서,상기 샤워헤드 본체에 설치되고, 상기 샤워헤드의 온도를 제어하는샤워헤드온도 제어수단더구비하는것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 21] 제 16 항, 제 17 항 또는 제 20 항중 어느 한 항에 있어서,상기 샤워헤드의 주위와 상기 챔버의 측벽으로 둘러싸인 공간 부분을 채우는 충전 부재를 더 구비하며,상기 충전 부재는 상기 리드부에 고정되는지지부재지지되는것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 23] 제 21 항에 있어서,상기 충전 부재는석영으로이루어진것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 25] 제 16 항 또는 제 18 항에 있어서,상기 샤워헤드 온도 제어 수단은,상기 샤워헤드를 가열하는 가열 기구와,상기 샤워헤드를 냉각하는 냉각 기구와,상기 샤워헤드의 온도를 검출하는 온도 검출 기구와,상기 온도 검출 기구의 검출 결과에 기초하여 적어도 상기 가열 기구를 제어하는컨트롤러갖는것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 26] 제 20 항에 있어서,상기 제 1 절연 부재에는 상기 제 1 및 제 2 가스 도입관과 연통하는각각의가스 통로형성되어있는것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 27] 제 1 항에 있어서,상기 샤워헤드의 온도를 제어하는샤워헤드온도 제어수단더구비하는것을특징으로 하는샤워헤드 구조체. [청구항 28] 제 20 항에 있어서,상기 가스 통로의 적어도 일부에, 상기 챔버내 및 리드부내에 연통해서 형성되는제2가스통로구비하는것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 29] 제 20 항 또는 제 28 항에 있어서,상기 가스 통로의 적어도 일부에, 연통해서 형성하는 제 3 가스 통로를 구비하는가스도입부재구비하는것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 30] 제 20 항에 있어서,상기 처리 가스는성막가스및클리닝가스인것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 31] 제 20 항에 있어서,상기 처리 가스는 제 1 처리 가스와 제 2 처리 가스를 구비하고,상기 가스 통로는 상기 제 1 처리 가스를 공급하는 제 1 가스 통로와 상기 제 2 처리 가스를 공급하는 제 2 가스 통로를 구비하고,상기 제 1 및 제 2 가스 통로가 접속되는 샤워헤드 본체와,상기 샤워헤드내에 형성되고, 상기 제 1 가스 통로와 연통하고, 상기 제 1 처리 가스를 도입하는 복수의 제 4 가스 통로와,상기 샤워헤드내에 형성되고, 상기 제 2 가스 통로와 연통하고, 상기 제 1 처리 가스와는 별개로 상기 제 2 처리 가스를 도입하는 제 5 가스 통로와,상기 샤워헤드의 하부에 형성되고, 상기 제 4 가스 통로에 대응해서 연통하고, 상기 제 1 처리 가스를 상기 챔버내에 토출하는 복수의 제 1 가스 토출 구멍과 상기 제 5 가스 통로와 연통하고, 상기 제 2 처리 가스를 상기 챔버내에 토출하는 복수의 제 2 토출 구멍을 더 구비하며,상기 제 1 처리 가스와 상기 제 2 처리 가스가 별개로 상기 샤워헤드를 거쳐서,상기챔버내공급되는것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 32] 제 20 항에 있어서,상기 처리 가스는 제 1 처리 가스와 제 2 처리 가스를 구비하고,상기 가스 통로는 상기 제 1 처리 가스를 공급하는 제 1 가스 통로와 제 2 처리 가스를 공급하는 제 2 가스 통로를 구비하고,상기 샤워헤드는,상기 제 1 및 제 2 가스 통로가 접속되는 상단 플레이트와,상기 상단 플레이트의 하부에 형성되고, 상기 상단 플레이트와의 사이에서 상기 제 1 가스 통로와 연통하는 제 1 공간을 형성하는 중단 플레이트와,상기 중단 플레이트의 하부에 형성되고, 상기 중단 플레이트와의 사이에서 상기 제 2 가스 통로와 연통하는 제 2 공간을 형성하는 하단 플레이트를 구비하며,상기 중단 플레이트는 상기 제 1 공간에 연통하는 복수의 제 4 가스 통로와 상기 제 2 가스 통로와 상기 제 2 공간과 연통하는 제 5 가스 통로를 구비하고,상기 하단 플레이트는 상기 제 5 가스 통로에 대응해서 연통하는 제 1 가스 토출 구멍과 상기 제 2 공간에 연통하는 복수의 제 2 가스 토출 구멍을 구비하고,상기 제 1 처리 가스와 상기 제 2 처리 가스가 별개로 상기 샤워헤드를 거쳐서,상기챔버내공급되는것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 33] 제 32 항에 있어서,상기 샤워헤드는, 상기 제 1 가스 도입관에 연통해서 형성되고, 상기 제 1 처리 가스를 상기 제 1 공간에 방사상으로 방출하는 제 1 방출 구멍과, 상기 제 2 가스 도입관에 연통해서 형성되고, 상기 제 2 처리 가스를 상기 제 2 공간에 좌우, 상하 또는 경사중 적어도 하나에서 방출하는제2방출구멍더구비하는것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 34] 제 32 항에 있어서,상기 샤워헤드는, 상기 제 1 가스 도입관에 연통해서 형성되고, 상기 제 1 처리 가스를 상기 제 4 가스 통로에 방사상으로 방출하는 제 1 방출 구멍과, 상기 제 2 가스 통로에 연통해서 형성되고, 상기 제 2 처리 가스를 상기 제 5 가스 통로에 좌우, 상하 또는 경사중 적어도 하나에서 방출하는제2방출구멍더구비하는것을특징으로 하는성막 장치. [청구항 38] 제 36 항 또는 제 37 항에 있어서,상기 샤워헤드에 설치되고, 상기 샤워헤드의 온도를 제어하는샤워헤드온도 제어수단더포함하는것을특징으로 하는성막 장치.