세정수 공급모듈 및 이를 이용한 세정장치 document_id A220623047449

각종 평판디스플레이(FPD : Flat Panel Display)의 제조공정에서 패턴을 형성할 때에는 포토레지스트 코팅(photoresist coating)을 행하는데, 포토레지스트 코팅을 하기 전에 기판의 표면에 존재하는 유기물이나 무기물 등의 파티클을 제거하는 세정공정이 요구된다. 세정공정 중 특히 습식세정공정에서는 일반적으로 프리웨팅(pre-wetting)과 노즐 샤워(nozzle shower)를 실시하게 된다. 프리웨팅은 아쿠아 나이프로 불리우는 프리웨팅용 세정장치를 이용하여 기판의 표면을 탈이온수(deionized water)와 같은 세정수로 고르게 적셔주는 과정으로서, 아쿠아 나이프는 물방울의 불균일한 낙하에 의한 기판 표면의 불량 웨팅을 사전에 막아주게 된다. 그리고, 노즐 샤워 과정에서는 이렇게 프리웨팅된 기판의 표면에 묻어 있는 파티클을 고압으로 분사되는 세정액으로 제거하게 된다. 첨부도면 도 1은 종래의 아쿠아 나이프, 즉 프리웨팅용 세정장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1의 'A'부 확대도이다. 도 1 및 도 2에 나타난 바와 같이, 종래의 세정장치는, 나이프 본체(1)와, 이 나이프 본체(1)의 길이방향 양단에서 나이프 본체(1)를 지지하는 지지블록(2,2'), 그리고 나이프 본체(1)로 세정수를 공급하는 세정수 공급배관(3)을 구비하고 있다. 나이프 본체(1)와 세정수 공급배관(3)은 여러 개의 공급포트(4)들로 연결되어 있어서 세정수 공급배관(3)으로부터 나이프 본체(1)로 세정수의 공급이 이루어지게 된다. 또, 지지블록(2,2')은 상측블록(2a)과 하측블록(2b)으로 구분되어 있는데, 상측블록(2a)과 하측블록(2b)은 가이드봉(2c) 및 볼트 형태의 높이조절수단(2d)에 의해 연결되어 있다. 따라서, 높이조절수단(2d)을 회전조작하면, 상측블록(2a)이 가이드봉(2c)을 타고 하측블록(2b)을 상대로 상하로 이동함으로써 나이프 본체(1)의 상하 높이가 조절된다. 또, 상측블록(2a)에는 경사각조절수단(2e)이 구비되어 있어서, 이 경사각조절수단(2e)을 조작하면 기판(도시되지 않음)을 상대로 나이프 본체(1)의 경사각이 조절된다. 그런데, 위와 같이 구성된 종래의 세정장치는, 나이프 본체(1)로 세정수를 공급하는 세정수 공급배관(3)이 나이프 본체(1)와는 별도로 구비되고, 이들을 서로 연결하는 공급포트(4)들도 여러 개가 구비됨에 따라, 장치의 공간 점유율이 커짐으로써 세정설비의 레이아웃에 불리한 문제점이 있다.