포토마스크 주문을 자동으로 생성 및 처리하기 위한포괄적인 전단 방법 및 시스템 document_id A220623050843

포토마스크는 전자 회로의 마이크로스코픽 이미지를 포함하는 고정밀 플레이트이다. 포토마스크는 통상적으로 한면에 크롬층이 있는 매우 평평한 수정 또는 유리 조각으로 이루어진다. 전자 회로 디자인 부분의 크롬은 식각된다. 이 마스크 상의 이러한 회로 디자인은 또한 "기하도형적 배열"이라고도 불린다. 반도체 소자의 생산에 이용되는 통상적인 포토마스크는 "블랭크" 또는 "현상되지 않은" 포토마스크로 형성된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 통상적인 블랭크 포토마스크는(10)은 3 또는 4 층으로 구성된다. 제1 층(11)은 일반적으로 기판이라 불리는 수정층 또는 다른 거의 투명한 재료층이다. 다음 층은 통상 Cr과 같은 불투명 재료층(12)이며, 이는 종종 CrO와 같은 제3 반사방지 재료층(13)을 포함하고 있다. 이러한 반사방지층은 임의 주어진 포토마스크에 포함될 수 있거나 포함되지 않을 수도 있다. 상층은 통상 감광성 레지스트 재료층(14)이다. 위상 천이 마스크, 임베디드 감쇄형 위상 천이 마스크("EAPSM") 및 교차형 개구 위상 천이 마스크("AAPSM")를 포함하지만 이들에 한정되지 않는 다른 종류의 포토마스크도 알려져 있고 이용되고 있다. 이들 종류의 위상 천이 마스크는 불투명한 구역들과 부분적으로 투명한 구역들을 포함하며 이들 투명한 구역들을 통해서 광의 위상이, 예를 들어, 대략 180도 천이되는 디자인 피처를 특징으로 한다. 그러한 포토마스크의 예들은 포트로닉스 인크.의 미합중국 특허 번호 6,682,861, 미합중국 특허 공보 번호 2004-0185348 A1, 미합중국 특허 공보 번호 2005-0026053 및 미합중국 특허 공보 번호 2005-0053847에 설명되어 있으며, 이들의 내용은 여기에 참조로서 통합된다. 포토마스크를 제조하는 프로세스는 많은 단계를 포함하므로 시간이 많이 소모될 수 있다. 이에 관해서, 포토마스크를 제조하기 위해, 포토마스크(10) 상에 생성될 원하는 불투명 재료의 패턴(12)은 통상적으로 라스터 또는 벡터 방식으로 전자 빔(E-빔) 또는 레이저 빔을 블랭크 포토마스크를 가로질러 주사하는 노광 시스템에 로드된 전자 데이터 파일에 의해 정해진다. 그러한 라스터 주사 노광 시스템의 한 예는 Collier의 미합중국 특허 번호 3,900,737에 설명되어 있다. 각각의 고유한 노광 시스템은 블랭크 포토마스크를 노광하는데 있어서 장비에게 지시하기 위한 데이터를 처리하기 위한 그 자신의 소프트웨어 및 포맷을 갖고 있다. E-빔 또는 레이저 빔은 블랭크 포토마스트(10)를 가로질러 주사되므로, 노광 시스템은 E-빔 또는 레이저 빔을 전자 데이터 파일에 의해서 정해진 바와 같이 포토마스트 상의 어드레서블 위치들로 향하게 한다. E-빔 또는 레이저 빔에 의해 노광되는 감광성 레지스트 재료의 영역들은 용해되고 노광되지 않은 부분들은 용해되지 않고 그대로 유지된다. E-빔 또는 레이저 빔이 블랭크 포토마스크(10) 상의 포토레지스트(14)를 노광해야하는 곳과 그렇지 않은 곳을 판정하기 위해서, 적절한 명령어(instructions)가 잡데크(jobdeck) 형태로 처리 장비에 제공되어야할 필요가 있다. 잡데크를 생성하기 위해서 원하는 패턴의 이미지가 작은 표준화된 모양들, 예를 들어, 직사각형 및 사다리꼴로 해체(또는 프랙처링)된다. 프랙처링 프로세스(fracturing process)에는 시간 소모가 많을 수 있다. 프랙처링된 후에 이미지는, 예를 들어, 필요하다면 데이터를 사이징(sizing)하고, 필요하다면 데이터를 회전시키고, 기준 및 내부 조회 마크를 첨가하는 등에 의해서 더 수정되어야할 필요가 있을 수 있다. 통상적으로, 프랙처링을 실행하거나 잡데크를 생성하는데 전용 컴퓨터 시스템이 이용된다. 이후 잡데크 데이터는, 포토마스크를 노광하는데 필요한 명령어가 처리 툴에 제공되도록 처리 툴들에 전달되어야만 한다. 노광 시스템이 원하는 이미지를 감광성 레지스트 재료(14)에 주사한 후에, 도 2에 도시된 바와 같이, 용해가능한 감광성 레지스트 재료는 이 기술분야에 알려져 있는 수단에 의해 제거되고, 노광되지 않은 즉 용해되지 않는 감광성 레지스트 재료(14'')는 불투명 재료(13 및 12)에 부착된 상태를 유지한다. 그러므로, 포트마스크(10)에 형성되는 패턴은 잔류 감광성 레지스트 재료(14'')에 의해 형성된다. 이 패턴은 잔류 포토레지스트(14'')에 의해 덮여있지 않은 영역들에 있는 반사방지 재료(13) 및 불투명 재료(12)를 제거하는 공지된 식각 프로세스를 통해서 잔류 포토레지스트 재료(14'')로부터 포트마스크(10)에 전사(轉寫)된다. 이 기술 분야에서는 건식 식각 및 습식 식각을 포함해서 아주 다양한 식각 프로세스가 있으므로 그러한 식각을 실행하는데 아주 다양한 설비가 이용된다. 식각이 완료된 후에, 잔류 포토레지스트 재료(14'')는 벗겨지거나 제거되어 도 3에 도시된 바와 같이 포트마스크가 완성된다. 완성된 포토마스크에서, 잔류 반사방지 재료(13'') 및 불투명 재료(12'')에 의해 앞서 반영된 바와 같은 패턴은, 용해가능한 재료들이 이전 단계에서 제거된 후에 잔류 포토레지스트(14'')가 남아있는 구역들에 위치한다. 특정 포토마스크에 임의 허용가능하지 않은 결함이 있는지 여부를 판정하기 위해, 포토마스크를 검사해야할 필요가 있다. 이는 바람직하지 않은 크롬 영역(크롬 스폿, 크롬 신장, 기하도형적 배열 간의 크롬 브릿지) 또는 원치 않는 클리어 영역(핀 홀, 클리어 신장, 클리어 파손)을 포함한다. 결함은 포토마스크로 이루어지는 회로가 기능하지 못하는 원인이된다. 포토마스크를 주문하는 엔티티는 그의 결함 명세에 프로세스에 영향을 주는 결함의 사이즈를 표기한다. 이 사이즈 및 이 보다 더 큰 사이즈의 모든 결함은 보수되어야만 하고, 이들이 보수될 수 없다면 마스크는 거절(reject)되거나 재기입 되어야만 한다. 통상적으로, KLA-Tencor 또는 Applied Materials가 제조한 것들과 같은 자동 마스크 검사 시스템이 결함을 검출하는데 이용된다. 그러한 자동 시스템은 조명 빔을 포토마스크로 보내서 포토마스크를 투과한 다음 반사된 광빔의 부분의 세기를 검출한다. 이후 검출된 광 세기는 예상 광 세기와 비교되고 임의 편차는 결함으로 표기된다. 한 시스템의 세부사항은 KLA-Tencor에 양도된 미합중국 특허 번호 5,563,702에서 볼 수 있다. 검사를 통과한 후에, 완성된 포토마스크의 오염이 세척된다. 다음에는, 포토마스크의 중요한 패턴 영역을 풍매(風媒)의 오염으로부터 보호하기 위해 펠리컬(pellicle)이 완성된 포토마스크에 적용될 수 있다. 다음에는 펠리컬 결함 검사가 실행될 수 있다. 어떤 예에서는 펠리컬을 적용하기 전 또는 후에 포토마스크가 절단될 수 있다. 앞서 설명한 제조 단계들 각각을 실행하기 전에, 반도체 제조업자(예를 들어, 고객)는 먼저 제조될 포토마스크에 관한 다양한 종류의 데이터를 포토마스크 제조업자에게 제공해야만 한다. 이에 관련해서, 고객은 통상적으로, 예를 들어, 포토마스크의 디자인, 이용될 재료, 납품일자, 빌링 정보, 및 주문을 처리하고 포토마스크를 제조하는데 필요한 정보에 관한 데이터를 포함해서, 포토마스크를 제조하고 처리하는데 필요한 다양한 종류의 정보 및 데이터를 포함하고 있는 포토마스크 주문을 제공한다. 포토마스크를 제조하는데 있어서 오랜 지속적인 문제점은 고객으로부터 포토마스크 주문을 받은 때로부터 포토마스크를 제조하는데 소요되는 시간 량이다. 이에 관련해서, 포토마스크 주문을 처리하고 포토마스크를 제조하는데 소요되는 전체 시간이 길 수 있으므로, 포토마스크의 전체 산출고가 최대화되지 않는다. 이러한 문제의 일부는 포토마스크를 주문하는 많은 고객들이 종종 포토마스크 제조업자의 컴퓨터 시스템 및/또는 제조 설비와 호환되지 않는 다양한 서로 다른 포맷으로 그들의 주문을 내는 사실에 기인한다. 따라서, 포토마스크 제조업자는 종종 주문 데이터를 재포맷하고 이를 그의 컴퓨터 시스템 및/또는 제조 설비에 호환되는 다른 포맷으로 변환하거나 보충하는 것이 요구되며, 이는 상당히 많은 시간을 요구할 수 있으므로 포토마스크를 제조하는데 소요되는 시간이 지연된다. 이들 문제점들을 다루기 위한 시도로서, 포토마스크 산업계는 포토마스크를 주문하는데 이용되는 다양한 표준 포토마스크 주문 포맷을 개발해 왔다. 예를 들어, SEMI P-10 표준은 포토마스크 제조에 이용되는 하나의 표준 포맷이다. 부가적으로, 몇몇 반도체 제조업자는 표준 포맷을 채택하기 보다는 오히려 포토마스크 주문이 이루어지는 그들 자신의 전용 포토마스크 주문 포맷을 개발해 왔다. 이들 표준 및 전용 포토마스크 주문 포맷은, 포토마스크 주문이 고객들로부터 균일한 포맷으로 수신되어 포토마스크를 제조하는데 소요되는 전체 시간이 줄어들도록 생성되었다. 그러한 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷이 포토마스크를 제조하는데 소요되는 시간을 줄이는데 유용할지라도, 많은 반도체 제조업자들은 그러한 표준 및/또는 전용 포맷으로 그들의 포토마스크 주문을 하는 것을 다양한 이유로 꺼려왔다. 예를 들어, SEMI P-10 표준 주문 포맷은 아주 복잡해서 주문을 하는 고객이 그러한 표준에 관련된 필요조건에 대해 해박한 작업 지식을 갖고 있어야 한다는 것을 요구한다. 많은 반도체 제조업자들은 포토마스크를 제조하지 않기 때문에, 그러한 제조업자들은 그러한 복잡한 표준 포맷을 배우기 위한 자원(리소스), 시간 또는 능력을 갖고 있지 않을 수 있다. 그러므로, 반도체 제조업자들은 종종 체계적이지 않고 종종 불완전한 식으로 포토마스크 주문 데이터를 포토마스크 제조업자에게 제공한다. 그 결과, 포토마스크 제조업자는 이 데이터를 걸러서 유용한 포맷(예를 들어, SEMI P-10 포맷)으로 체계화시키는 것이 요구된다. 부가적으로, 불완전한 포토마스크 주문 데이터가 포토마스크 제조업자에게 제공되는 경우들에 있어서, 그러한 제조업자는 고객으로부터 빠진 정보를 요청하는 것이 요구될 것이다. 그 결과, 완전하고 정확한 포토마스크 주문을 얻는 프로세스에 상당한 량의 시간이 종종 소모된다. 그러므로, 포토마스크를 제조하는데 소요되는 전체 시간이 상당히 지연될 수 있다. 자동 시스템을 이용하여 이들 문제를 다루기 위한 다른 시도들이 있어 왔다. 그러나, 이전의 이들 시스템은 몇 몇의 단점을 갖고 있다. 예를 들어, 과거에, AlignRite Corporation(포토닉스, 인크.의 전신)은 인터넷 기반의 배송 시스템(an Internet based delivery system)을 이용하여 전자 데이터의 배송을 촉구하는 시도를 하였다. 그러나, 비록 AlignRite 시스템이 고객으로부터 포토마스크 제조업자의 컴퓨터 시스템으로 포토마스크 데이터의 급속 배송을 할 수 있고 이 데이터의 정확도를 실시간으로 확인할 수 있을지라도, 이러한 종래의 시스템은 단일 표준 및/또는 전용 포맷으로 포토마스크 주문 데이터의 자동 생성을 제공하지 못한다. 이에 관련해서, 고객으로부터 데이터가 일단 수신되면, 이 데이터에 대한 표준 수정도 또한 오퍼레이터가 수동으로 입력해야만 한다. 매뉴얼 변경이 입력될 때마다, 휴먼 에러의 리스크가 증가하고 잡의 전체 길이(범위)가 확대될 것이다. 이후로 인터넷 및 검증된 온-라인을 통해 제조 및 빌링 데이터가 자동으로 다운로드되는 다른 시스템들이 발표되었다. 그러한 한 시스템이 듀퐁 포토마스크 인크.의 2002년 1월 10일자 공개된 PCT 공개 번호 02/03141에 기술되어 있다. 이는 또한 미합중국 특허 번호 6,622,295의 주제이다. 특히, 듀퐁 PCT 공보는 포토마스크 주문 데이터가 고객으로부터 온라인으로 입력되어 처리를 위해 포토마스크 제조업자에게 전송되는 시스템을 기술하고 있다. 이 시스템에서, 고객은 포토마스크 주문 데이터를 입력하도록 촉구(prompt:프롬프트)된다. 그러한 데이터는 포토마스크 제조업자에게 전송되고, 이 제조업자는 데이터의 진단 평가를 실행한다. 임의 데이터가 불완전하거나 정확하지 않으면, 이 시스템은 그러한 에러를 통보하는 메시지를 고객에게 전송한다. 이후, 유저는 이 에러를 교정해야만 한다. 제조업자가 데이터를 확인한 후(필요한 경우 교정한 후), 제조업자는 이 데이터를 처리하여 SEMI P-10 표준 포맷과 같은 표준(또는 전용) 포맷에 넣는다. 진단 목적에는 유용할지라도, 듀퐁 PCT 공보의 시스템은 매우 번거로우며 데이터를 입력하는 고객에 따라서 포토마스크 주문을 형식화하는데 있어 유저에게 매우 작은 융통성을 제공한다. 듀퐁 시스템은 포괄적인 정보의 입력에 기반한 고객 정보의 프로파일을 제공하지 않는다. 듀퐁 시스템의 다른 단점은 고객이 이 시스템을 이용할 때마다 주문에 관한 특정 정보를 재입력해야만 하고 이전 주문시에 입력한 정보를 이용할 수 없다는 것이다. 그러므로, 포토마스크 주문을 생성하는데 듀퐁 시스템을 이용하면 시간 소모가 따른다. 종래의 기술에서는, 포토마스크 주문이 고객으로부터 수신되어 적절한 포맷에 입력되면, 포토마스크가 관련 제조 장비에 의해 입력되어 관련 제조 장비에 의해 검사될 수 있도록 주문을 처리하는 것이 여전히 필요하다. 통상적인 포토마스크에 있어서, 완성된 포토마스크를 형성하는데 필요한 생산 프로세스, 많은 단계들은 수동으로 또는 개별적으로 실행된다. 그 결과, 이들 단계들을 실행하는 종래의 공지된 방법 및 시스템은 효과적이지 않으며 시간 소모적이며 많은 휴먼 에러에 노출된다. 특히, 일단 제조업자가 고객의 포토마스크 주문을 수신하면, 오퍼레이터는 수신된 정보를 통해서 분류하고 이를 정보가 제공되는 적절한 처리국 또는 부서에 포워드하는 것이 요구된다. 예를 들어, 빌링 정보는 빌링 부서에 포워드되어야 하고, 프랙처링을 실행하는데 필요한 패턴 데이터는 프랙처링 컴퓨터에 제공되어야 하고, 잔류 잡데크 정보는 적절한 처리국에 포워드되어야 한다. 또한, 정보가 제조업자 컴퓨터가 제공하는 것과 다른 포맷으로 제공되면, 이 사실을 수동으로 확인한 후, 이 파일을 적절한 포맷으로 변환해야만 한다. 포토마스크 제조업자가 생산시에 포토마스크의 진행 프로세스를 추적하기를 원하는 경우에, 개별적으로 각 국을 접촉해서 오퍼레이터로부터 이 상태를 확인하는 것이 필요하였다. 반도체 제조업자가 다수의 다양한 머신이 이용하는 동일한 패턴을 필요로하는 만큼, 오퍼레이터는 적절한 수정을 기하기 위하여 프랙처링 컴퓨터를 수동으로 프로그래밍하는 것이 요구된다. 유사하게, 특정한 고객의 지정 포맷은 이용되고 있는 포토마스크 제조 프로세스들 때문에 수정되어야 할 필요가 있는 만큼, 이전에는 프랙처링 컴퓨터에 입력된 이들 종류의 데이터 수정이 오퍼레이터에 의해 수동으로 입력되어야 했었다. 종래 기술의 시스템은 이들 변수를 자동으로 맡아서 처리하는 방식을 제공하지 못하고 있다. 포토마스크 생산 산업계에서 여러해에 걸친 과제는 고객 주문의 수령으로부터 처리된 포토마스크의 형성 및 배송까지 소요되는 시간을 어떻게 줄여야 하는 가이다. 이러한 프로세스를 촉진하기 위해 과거에 이용된 몇몇 방식들은, 수년간 걸처서 수정 및 갱신된 SEMI P10 표준과 같은 산업 표준을 창출해왔다. 이들 표준은 포토마스크 제조업자에게 데이터가 전자적으로 제공되야만 하는 형식을 취하고 있다. 그러한 표준들이 도움이 되기는 하지만, 이들은 그들 자체로는 포토마스크의 제조에 필요한 정보 처리의 솔기없는 자동을 성취하지 못했다. 앞서 설명한 제조 단계들이 완료된 후에, 완성된 포토마스크는 반도체 및 다른 상품 제조에 이용될 수 있게 고객에게 전달된다. 특히, 포토마스크는 일반적으로 반도체 산업계에서 실리콘 또는 갈륨 아세나이드 기판 또는 웨이퍼에 반도체 회로를 정의하는 마이크로-스케일 이미지를 전사하는데 이용된다. 이미지를 포토마스크로부터 실리콘 기판 또는 웨이퍼에 전사하기 위한 프로세스는 일반적으로 리소그래피 또는 마이크로리소그래피라고 칭하고 있다. 통상적으로, 도 4에 도시된 바와 같이, 반도체 제조 프로세스는 증착, 포토리소그래피 및 식각 단계를 포함한다. 증착 동안, 전기적 절연 또는 전기적 도전 재료(금속, 폴리실리콘 또는 산화물과 같은)층이 실리콘 웨이퍼의 표면 상에 증착된다. 이 재료는 이후 감광성 레지스트로 코팅된다. 이후 포토마스크는 포토그래프를 만드는데 포토그래픽 네가티브가 이용되는 방식과 동일한 식으로 이용된다. 포토리소그래피는 포토마스크 상의 이미지를 웨이퍼에 투영하는 것을 포함한다. 포토마스크 상의 이미지가 웨이퍼에 사이드-바이-사이드(side by side)로 수회 투영되는데, 이는 스테핑이라 알려져 있으며 포토마스크는 레티클(reticle)이라 불린다. 도 5에 도시된 바와 같이, 반도체 웨이퍼(20)에 이미지(21)를 생성하기 위해서, 포토마스크(10)는 감광성 재료층을 포함하는 반도체 웨이퍼(20)와 광학 시스템(22) 사이에 배치된다. 일반적으로 스테퍼라 불리는 에너지원(23)에 의해 생성된 에너지는 불투명 재료가 존재하는 포토마스크(10)의 영역들을 통과하지 못한다. 스테퍼(23)로부터의 에너지는 불투명 재료(12) 및 반사방지 재료(13)가 덮여있지 않는 수정 기판(11)의 투명 부분들을 통과한다. 광학 시스템(22)은 불투명 재료(12 및 13)로 이루어진 패턴의 스케일된 이미지(24)를 반도체 웨이퍼(20)에 투영하여 반도체 웨이퍼(20) 상의 감광성 재료에서 반응을 일으킨다. 감광성 재료의 용해도는 에너지에 노출된 영역들에서 바뀐다. 포지티브 포토리소그래픽 프로세스의 경우에, 노광된 감광성 재료는 용해되어 제거될 수 있다. 네가티브 포토리소그래픽 프로세스의 경우에는, 노광된 감광성 재료는 용해되고 않고, 노광되지 않은 용해가능 감광성 재료는 제거된다. 용해가능한 감광성 재료가 제거된 후에, 불용해 감광성 재료에 형성된 이미지 또는 패턴은 식각이라 불리는 이 기술 분야에 공지된 프로세스에 의해서 기판에 전사된다. 기판 재료 상의 패턴이 식각되면 잔류 레지스트를 제거한다. 그 결과 최종 프로덕트가 탄생한다. 재료 및 레지스트의 새로운 층이 이후 웨이퍼에 증착되고 나서, 다음 포토마스크 상의 이미지가 웨이퍼에 투영된다. 다시 웨이퍼는 현상되고 식각된다. 이 프로세스는 회로가 완성될 때까지 반복된다. 통상의 반도체 소자에 있어서 많은 층들이 증착될 수 있기 때문에, 단일 반도체 소자의 제조에도 많은 다양한 포토마스크가 필요하다. 실제로, 반도체 제조업자가 반도체 소자를 제조하는데 하나 이상의 장비를 이용하면, 각 층마다 하나 이상의 포토마스크가 필요할 수 있을 것이다. 또한, 서로 다른 생산 라인에서 포토레지스트를 노광하는 서로 다른 종류의 장비가 이용될 수 있기 때문에, 다수의 동일한 포토마스크 패턴은 반도체 제조 장비의 차이 때문에 사이징, 오리엔테이션, 스케일링 및 다른 속성에 있어 부가적인 변동을 필요로 할 수 있다. 포토마스크 제조업자의 리소그래피 장비의 차이 때문에 유사한 조정이 필요할 수도 있다. 이들 차이는 포토마스크 제조 프로세스에서 고려되어야 한다. 발명의 개요 종래의 기술이 중요하지만 종래 기술의 공지된 방법 및 장치는 본 발명이 극복하고자 추구하는 몇 몇 한계를 나타내고 있다. 특히, 본 발명의 목적은 포토마스크 주문을 생성하고 처리하기 위한 포괄적인 전단 방법 및 시스템을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 포토마스크 주문을 하나 이상의 표준 및/또는 전용 포맷으로 자동으로 생성하기 위한 룰-기반의 시스템 및 방법을 제공하는 것이다. 여기서, 룰들은 공지되어 있지 않지만 이후 개발되는 임의 다수의 다른 표준 및/또는 전용 포맷에 부합되도록 개정 또는 수정될 수 있다. 본 발명의 다른 목적은 포토마스크 주문을 하나 이상의 표준 및/또는 전용 포맷으로 자동으로 생성하기 위한 것으로, 유저가 포토마스크 주문을 위해 표준 및/또는 전용 포맷에 관련된 한 세트의 룰을 따르도록 요구하는 룰-기반의 시스템 및 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 포토마스크 주문을 하나 이상의 표준 및/또는 전용 포맷으로 자동으로 생성하기 위한 것으로, 포토마스크 데이터를 포함하고 있는 기존의 주문(들) 및/또는 템플릿들을 단일의 새로운 주문에 합체함으로써 하나의 주문이 생성되는 룰-기반의 시스템 및 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 포토마스크 주문 및 데이터 엔트리 횟수를 줄이기 위한 룰-기반의 포토마스크 주문 시스템 및 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 제조되는 포토마스크의 전체 출력을 증가시키기 위한 룰-기반의 포토마스크 주문 시스템 및 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 목적은 포토마스크 주문의 수동 엔트리에 관련된 필사 에러를 줄이기 위한 룰-기반의 포토마스크 주문 시스템 및 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 포토마스크의 제조를 위한 포토마스크 주문 데이터의 전송 및 처리에 있어 수동 개재를 제거하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 포토마스크 제조업자가 전단 포토마스크 프로세서로부터 필요한 처리 정보를 수신한 때로부터 완료된 포토마스크를 전단 포토마스크 프로세서에게 전달하는데 걸리는 시간까지 소요되는 리드 시간 및 전체 처리 시간을 줄이는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 제조를 위해 포토마스크 데이터가 처리되어 전송되는 정확성 및 효율성을 향상시키는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 종래 기술의 단점을 해결하는 것이다. 다른 목적들은 이전의 설명으로부터 알 수 있을 것이다. 이제 본 발명의 상기 및 관련된 목적은 포토마스크 주문의 적어도 일부를 실질적 즉석-기입 가능 포맷 및 실질적 즉석-검사 가능 포맷으로 자동으로 생성하고 처리하는 전단 방법 및 시스템의 형태로 성취할 수 있다는 것을 알게되었다. 특히, 본 발명은 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 피처를 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이터 파일 형식의 디자인 데이터를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이터 포맷으로 변환해서 마스크 데이터를 처리하는 방법에 관한 것이다. 이 방법은 다음의 단계들을 포함하고 있다: 전자 회로 디자인 데이터의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이터를 입력하는 단계; 디자인 데이터에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계; 포토마스크 내에 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 피처들의 프로세스 전개(process movement)를 용이하게 하기 위해 디자인 데이터를 사이징하는 단계; 적어도 디자인 데이터의 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계; 프랙처링된 디자인 데이터의 무결성을 검증하는 단계; 다음의 데이터 종류: (i) 입력된 디자인 데이터; (ii) 사이징된 디자인 데이터; (iii) 프랙처링된 데이터; 및 (iv) 프랙처링된 데이터의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이터 세트를 합체하는 단계; 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이터 세트를 컨디셔닝(조절)하는 단계; 및 컨디셔닝된 데이터 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계. 유사하게, 본 발명은 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 피처를 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이터 파일 형식의 디자인 데이터를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이터 포맷으로 변환해서 마스크 데이터를 처리하는 방법에 관한 것이다. 이 방법은 전자 회로 디자인 데이터의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이터를 입력하는 단계; 디자인 데이터에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계; 포토마스크 내에 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 피처들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 광근접보정을 적용하는 단계; 디자인 데이터의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계; 프랙처링된 디자인 데이터의 무결성을 검증하는 단계; 다음의 데이터 종류: (i) 입력된 디자인 데이터; (ii) 사이징된 디자인 데이터; (iii) 프랙처링된 데이터; 및 (iv) 프랙처링된 데이터의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이터 세트를 합체하는 단계; 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이터 세트를 컨디셔닝하는 단계; 및 컨디셔닝된 데이터 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계를 포함한다. 또한, 본 발명은 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 피처를 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이터 파일 형식의 디자인 데이터를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이터 포맷으로 변환해서 마스크 데이터를 처리하며, 명령어들을 포함하고 있는 컴퓨터 판독가능 매체를 포함하는 자동 시스템에 관한 것이다. 이들 명령어는 다음의 단계들을 수행할 수 있는 프로세서에 의해 실행된다: 전자 회로 디자인 데이터의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이터를 입력하는 단계; 디자인 데이터에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계; 포토마스크 내의 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 피처들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 디자인 데이터를 사이징하는 단계; 디자인 데이터의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계; 프랙처링된 디자인 데이터의 무결성을 검증하는 단계; 다음의 데이터 종류: (i) 입력된 디자인 데이터; (ii) 사이징된 디자인 데이터; (iii) 프랙처링된 데이터; 및 (iv) 프랙처링된 데이터의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이터 세트를 합체하는 단계; 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이터 세트를 컨디셔닝하는 단계; 및 컨디셔닝된 데이터 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계. 더구나, 본 발명은 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 피처를 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이터 파일 형식의 디자인 데이터를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이터 포맷으로 변환해서 마스크 데이터를 처리하는 자동 시스템에 관한 것이다. 이 시스템은 마스크 데이터를 처리하기 위한 메모리, 제1 소프트웨어 컴포넌트 및 제2 소프트웨어 컴포넌트를 포함하는 적어도 하나의 서버를 포함하며, 여기서, 상기 마스크 디자인에 관한 상기 데이터는 상기 메모리에 저장되며, 제1 소프트웨어 컴포넌트는 디자인 데이터에 따라서 이루어지는 포토마스크 주문을 처리하기 위한 필요조건 데이터의 유저의 엔트리를 관리하는 명령어를 포함하며, 제2 소프트웨어 컴포넌트는 마스크 패턴 데이터 및 필요조건 데이터를 제조에 적합한 포맷으로 파싱하기 위한 명령어를 포함하며, 상기 제2 소프트웨어 컴포넌트는 다음의 태스크: (i) 포토마스크 내에 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 피처들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 디자인 데이터를 사이징하고; (ii) 디자인 데이터의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하고; (iii) 프랙처링된 디자인 데이터의 무결성을 검증하고; (iv) 다음의 데이터 종류: (a) 입력된 디자인 데이터; (b) 사이징된 디자인 데이터; (c) 프랙처링된 데이터; 및 (d) 프랙처링된 데이터의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이터 세트를 합체하고; 그리고 (v) 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이터 세트를 컨디셔닝하는 것을 실행하기 위한 명령어를 포함하며; 그리고 상기 시스템은 또한 컨디셔닝된 데이터 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하기 위한 회로를 포함한다. 또한, 본 발명은 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 피처를 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이터 파일 형식의 디자인 데이터를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이터 포맷으로 변환해서 마스크 데이터를 처리하며, 명령어들을 포함하고 있는 컴퓨터 판독가능 매체를 포함하는 자동 시스템에 관한 것이다. 이들 명령어는 다음의 단계들을 실행할 수 있는 프로세서로 실행된다: 전자 회로 디자인 데이터의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이터를 입력하는 단계; 디자인 데이터에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계; 포토마스크 내에 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 피처들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 광근접보정을 적용하는 단계; 디자인 데이터의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계; 프랙처링된 디자인 데이터의 무결성을 검증하는 단계; 다음의 데이터 종류: (i) 입력된 디자인 데이터; (ii) 사이징된 디자인 데이터; (iii) 프랙처링된 데이터; 및 (iv) 프랙처링된 데이터의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이터 세트를 합체하는 단계; 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이터 세트를 컨디셔닝하는 단계; 및 컨디셔닝된 데이터 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계. 본 발명은 또한 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 피처를 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이터 파일 형식의 디자인 데이터를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이터 포맷으로 변환해서 마스크 데이터를 처리하는 자동 시스템에 관한 것이다. 이 시스템은 마스크 데이터를 처리하기 위한 메모리, 제1 소프트웨어 컴포넌트 및 제2 소프트웨어 컴포넌트를 포함하는 적어도 하나의 서버를 포함하며, 상기 마스크 디자인에 관한 상기 데이터는 상기 메모리에 저장되며, 제1 소프트웨어 컴포넌트는 디자인 데이터에 따라서 이루어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건 데이터의 유저 입력을 관리하는 명령어를 포함하며, 제2 소프트웨어 컴포넌트는 마스크 패턴 데이터 및 필요조건 데이터를 제조에 적합한 포맷으로 파싱하기 위한 명령어를 포함하며, 상기 제2 소프트웨어 컴포넌트는 다음의 태스크: (i) 포토마스크 내에 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 피처들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 광근접보정을 적용하고; (ii) 디자인 데이터의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하고; (iii) 프랙처링된 디자인 데이터의 무결성을 검증하고; (iv) 다음의 데이터 종류: (a) 입력된 디자인 데이터; (b) 사이징된 디자인 데이터; (c) 프랙처링된 데이터; 및 (d) 프랙처링된 데이터의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이터 세트를 합체하고; 그리고 (v) 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이터 세트를 컨디셔닝하는 것을 실행하기 위한 명령어를 포함하며; 그리고 이 시스템은 또한 컨디셔닝된 데이터 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하기 위한 회로를 포함한다.